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MEMS器件真空封装结构制造技术
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文档序号:10140766
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本发明提供一种MEMS器件真空封装结构,至少包括基板、结构层及盖板。本发明基板中形成填充有外延材料及绝缘层的通孔,通孔(环形隔离结构)侧壁的绝缘材料实现电学隔离,且由于通孔采用外延生长的硅材料来填充,则其填充物致密性很高,提高器件真空封装结...
该专利属于微机电科技香港有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过微机电科技香港有限公司授权不得商用。
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