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本发明提供一种堆积物去除方法，其是将在利用蚀刻而形成于基板之上的图案的表面上堆积的堆积物去除的堆积物去除方法，其中，该堆积物去除方法包括以下工序：第1处理工序，将基板暴露在含有氟化氢气体的气氛中；氧等离子体处理工序，在第1处理工序之后，加热...
该专利属于东京毅力科创株式会社;株式会社东芝所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社;株式会社东芝授权不得商用。

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