色素、使用其的光电转换元件及光电化学电池制造技术

技术编号:9994500 阅读:128 留言:0更新日期:2014-05-02 17:04
一种色素,其以式(1)MX3Lt而表示。式(1)中,M表示选自钌、锇、铁、铼、及锝的过渡金属。X表示NCS-、C1-、Br-、I-、CN-、NCO-、或H2O。Lt表示式(2)所表示的配位体;式(2)中,R1、R2表示COOH、PO(OH)2、PO(OR4)(OH)、或CO(NHOH)。R3、R4表示特定的取代基。La表示单键或亚芳基。n1~n3表示特定的整数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】一种色素,其以式(1)MX3Lt而表示。式(1)中,M表示选自钌、锇、铁、铼、及锝的过渡金属。X表示NCS-、C1-、Br-、I-、CN-、NCO-、或H2O。Lt表示式(2)所表示的配位体;式(2)中,R1、R2表示COOH、PO(OH)2、PO(OR4)(OH)、或CO(NHOH)。R3、R4表示特定的取代基。La表示单键或亚芳基。n1~n3表示特定的整数。【专利说明】色素、使用其的光电转换元件及光电化学电池
本专利技术涉及一种色素、光电转换元件及光电化学电池。
技术介绍
光电转换元件被用于各种光传感器、复印机、太阳能电池等中。该光电转换元件实用化了使用金属的光电转换元件、使用半导体的光电转换元件、使用有机颜料或色素的光电转换元件、或者该些光电转换元件组合而成的光电转换元件等各种方式。特别是利用非枯竭性的太阳能的太阳能电池不需要燃料,作为利用无穷尽的清洁能源的光电转换元件,很大程度地期待其正式的实用化。其中,自很久之前便进行了硅系太阳能电池的研究开发,各国亦有政策性的考虑而进行普及。然而,硅是无机材料,在产量及分子修饰方面自然存在限制。因此,正尽力进行色素增感型太阳能电池的研究。特别是成为其契机的是瑞士洛桑联邦理工学院(EPFL)的格莱切尔(Graetzel)等人的研究成果。他们采用在多孔氧化钛薄膜的表面固定有包含钌络合物的色素的结构,实现与非晶硅同程度的转换效率。由此,色素增感型太阳能电池一举得到世界研究者的关注。在专利文献I中记载了应用该技术,使用利用钌络合物色素而增感的半导体微粒子的色素增感光电转换元件。另外,其后还为了提高光电转换效率,正继续钌络合物系增感色素的开发(参照专利文献2~专利文献4)。 美国专利第5463057号说明书中国专利公开公报I359901号国际公开第2007/091525号说明书国际公开第98/50393号说明书
技术实现思路
根据上述专利文献2、专利文献3等的技术而提供光电转换效率高的元件。然而,本专利技术人虽着眼于其作为清洁能源的正式的供给源而发挥一部分功能,但其性能并不充分,进而以开发包含提高耐久性在内进一步具有更高特性的光电转换元件为目标。鉴于上述本
的现状,本专利技术的目的在于提供达成高光电转换效率,且耐久性优异的光电转换元件、光电化学电池、及该些中所使用的色素。另外,本专利技术的目的在于提供上述色素的制造中所使用的新颖的中间体化合物及其制造方法、使用其的色素的制造方法。上述课题可藉由以下的手段而解决。 一种色素,其以式(I)MX3Lt而表示;【权利要求】1.一种色素,其以式⑴MX3Lt而表示; 2.根据权利要求1所述的色素,其中 所述式⑵的La为单键。3.根据权利要求1或2所述的色素,其中 所述式(2)的R3以所述式(2_1)、式(2_2)、式(2_3)、式(2_4)或式(2_5)而表不。4.根据权利要求1至3中任一项所述的色素,其中 所述式(2)的R3以所述式(2-2)、式(2-3)、或式(2-4)而表示。5.根据权利要求1至4中任一项所述的色素,其中 所述式⑵的R3以所述式(2-3)或式(2-4)而表示。6.根据权利要求1至5中任一项所述的色素,其中 所述式(2)的R3以所述式(2-4)而表示。7.一种光电转换元件,其包含感光体层,所述感光体层包含根据权利要求1至6中任一项所述的色素与半导体微粒子。8.一种光电化学电池,其使用根据权利要求7所述的光电转换元件。9.一种三联吡啶化合物的制造方法,其是下述式(2')的三联吡啶化合物的制造方法,其经由将下述式(3)所表示的化合物的取代基Hal取代为下述式(2')的取代基R3的步骤;以及将下述式⑶的取代基CO2Rltl1的Rltl1取代为H的步骤; 10.一种色素的制造方法,其是合成下述式(2')所表示的三联吡啶化合物,制造具有其作为配位体的式(P )MX3Lti所表示的色素的方法,其经由将下述式(3)所表示的化合物的取代基Hal取代为下述式(2')的取代基R3的步骤;以及将下述式(3)的取代基CO2R101的R101取代为H的步骤; 11.一种三联吡啶化合物,其以下述式(3)而表示; 【文档编号】H01L31/04GK103764768SQ201280042643 【公开日】2014年4月30日 申请日期:2012年8月30日 优先权日:2011年9月8日【专利技术者】木村睦, 森正悟, 小林克 申请人:富士胶片株式会社, 国立大学法人信州大学本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:木村睦森正悟小林克
申请(专利权)人:富士胶片株式会社国立大学法人信州大学
类型:
国别省市:

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