印版及制备所述印版的方法技术

本发明专利技术涉及一种印版和制备该印版的方法。根据本发明专利技术的印版为包括沟槽图案的印版。所述沟槽图案具有形成有彼此不相交的线性图案的区域。所述形成有线性图案的区域是一方形区域，其中形成了至少两条线，每条线均具有一线性图案。另外，形成线性图案的区域还包含一区域，在该区域中线性图案的线宽度（W）及深度（D）、方形区域中未形成线性图案的区域的比率（R）以及用以形成对应于所述线性图案的图案的掩膜图案的开口线宽度（W0）满足特定的关系式。根据本发明专利技术的印版可防止转移到印版上的墨水接触底部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术涉及一种印版和制备该印版的方法。根据本专利技术的印版为包括沟槽图案的印版。所述沟槽图案具有形成有彼此不相交的线性图案的区域。所述形成有线性图案的区域是一方形区域，其中形成了至少两条线，每条线均具有一线性图案。另外，形成线性图案的区域还包含一区域，在该区域中线性图案的线宽度（W）及深度（D）、方形区域中未形成线性图案的区域的比率（R）以及用以形成对应于所述线性图案的图案的掩膜图案的开口线宽度（W0）满足特定的关系式。根据本专利技术的印版可防止转移到印版上的墨水接触底部。【专利说明】
本申请要求享有于2011年9月2日在KIPO递交的韩国专利申请N0.10-2011-0089242的优先权，其公开的内容全部以参考的方式并入本文。本专利技术涉及一种印版及其制造方法。更具体而言，本专利技术涉及一种印版以及制造所述印版的方法，所述印版可防止转移至印版上的油墨发生底部接触现象。
技术介绍
在平面显示器(FPD)(例如液晶显示器(IXD)或等离子显示面板(PDP))的制造中，需要用于形成例如电极、黑矩阵、彩色滤光片、隔板、薄膜晶体管等的各种图案的方法。就图案形成方法而言，经常使用通过使用光刻胶与光掩膜来获得光刻胶图案，经由曝光及显影来选择性地移除光刻胶图案来形成图案和使用该图案的方法。所述光掩膜方法的问题在于，经常使用例如光刻胶或显影剂的材料，需要使用昂贵的光掩膜以及需要进行许多处理步骤或处理时间持续时间长。为了解决上述问题，提出了直接印刷图案形成材料而不使用光刻胶的方法，例如通过喷墨印刷或激光转印的方法。这些方法之一为胶印方法，其中使用印版将图案材料转移至橡皮布，然后将所述橡皮布的图案转移至基板。使用印版的胶印方法的优点在于，与相关技术中使用光刻胶的方法相比，材料消耗较少且工艺比较简单，并且与喷墨印刷或激光转印相比，处理速度较快。然而，胶印方法的缺点在于，对具有不同图案的基板分别需要印版，以及一般由玻璃制成的印版的制备是复杂和昂贵的工艺。下图1示意说明了反向胶印工艺及凹版胶印工艺。在相关
中的印版的情况下(反向平版及凹版平版的情况下)，一般使用通过使用光掩膜原料制造印版的方法。然而，当在这种方式中使用厚的印版时，根据印刷设备的驱动模式，在所述印版的断电时间期间发生推动所述印版的现象对图案化能力有很大的影响。为了解决这个问题，当通过光掩膜在相关技术中使用光刻法来制造印版时，所述印版具有下述问题:印版最小的线宽度取决于实现曝光机器及实现掩膜的能力，同时由于掩膜、曝光机器等的成本而使其制造成本非常高。
技术实现思路
本专利技术致力提供一种薄的印版以及制备所述印版的方法，所述印版能经由简单的工艺来制造，且所述印版可印刷精细的图案，并防止转移至印版上的油墨发生底部接触现象。本专利技术提供一种印版，所述印版包括:沟槽图案，其中所述沟槽图案包括由彼此不相交的线性图案组成的区域，且所述由线性图案组成的区域是在所述区域中包含线性图案的两条或更多条线的方形区域，且所述由线性图案组成的区域包含一区域，在所述区域中线性图案的线宽度(W)及深度(D)、以及在方形区域中不包含线性图案的区域的比率(R)与用以形成对应于所述线性图案的图案的掩膜图案的开口线宽度(aperture line width)(Wtl)满足下列关系式I和2。ff=2D+ff0+XD ≥ 42.9exp (-R/0.35) -1.5在此，X为常数，D、W、W。和X是以微米为单位的数值，以及R为大于O且小于I的数值。本专利技术提供一种印版，所述印版包括:沟槽图案，其中所述沟槽图案包括由网状图案组成的区域，且所述由网状图案组成的区域是在所述区域中包含构成所述网状图案的线的三个或更多个交叉点的方形区域，且所述由网状图案组成的区域包含一区域，在所述区域中网状图案的线宽度(W)及深度(D)、以及在方形区域中不包含网状图案的区域的比率(R)与用以形成对应于所述网状图案的图案的掩膜图案的开口线宽度(Wtl)满足下列关系式I和4。ff=2D+ff0+XD ≥ 33.8exp (-R/0.235) +0.82在此，X为常数，DUtl和X是以微米为单位的数值，以及R为大于O且小于I的数值。另外，本专利技术提供一种印版，所述印版包括:沟槽图案，其中所述沟槽图案包括由网状图案和网状图案的分段图案组成的区域，且所述区域是在所述区域中包含构成所述网状图案的线的三个或更多个交叉点的方形区域，且所述区域包含一区域，在所述区域中网状图案的线宽度(W)及深度(D)、以及在方形区域中不包含网状图案和网状图案的分段图案的区域的比率(R)与用以形成对应于所述网状图案和网状图案的分段图案的图案的掩膜图案的开口线宽度(Wtl)满足下列关系式I和4。ff=2D+ff0+X D ^ 33.8exp (-R/0.235) +0.82在此，X为常数，DUtl和X是以微米为单位的数值，以及R为大于O且小于I的数值。此外，本专利技术提供一种通过使用所述印版制造的印刷制品，其包含对应于所述印版的沟槽图案的印刷图案。而且，本专利技术提供一种包含所述印刷制品的触屏感应器。根据本专利技术的印版可在沟槽图案中包含线性图案、网状图案等，且线性图案和网状图案的线宽度、深度、节距等可满足特定关系式，从而可防止转移至印版上的油墨的底部接触现象。另外，根据本专利技术的印版可包含金属层或金属氧化物层的反射板，此确认转移至印版的油墨厚度，相应地，可维持并控制印刷辊橡皮布的适当的干燥状态。此外，在印版制造期间，可通过激光器来制备具有细线的印版，且当使用所述印版印刷期间可防止推印版而造成的图案变形。【专利附图】【附图说明】图1是说明反向胶印过程及凹版印刷过程的示意图。图2是本专利技术示例性实施方式的印版及使用所述印版的印刷制品的显微相片。图3是说明本专利技术示例性实施方式的关于印版水平印刷方向的线性图案的蚀刻深度的底部接触的结果图。图4是说明根据本专利技术示例性实施方式的印版的网状图案的蚀刻深度的底部接触结果示意图。图5是说明根据本专利技术示例性实施方式的包含反射层的印版的示意图。【具体实施方式】在下文中，将详细说明本专利技术。在本申请文 件中，“底部接触现象”是指以下这种现象，当用印刷辊将油墨转移到印版上时，印刷辊的油墨接触印版的沟槽图案内面的底部而转移油墨，并因此产生最终印刷制品图案的缺陷。为防止转移到印版的墨水的底部接触现象，根据本专利技术中印版的蚀刻深度，导出可实施的印版沟槽图案的线宽度、节距、蚀刻深度等的关系式。根据本专利技术的印版的一个示例性实施方式，所述印版包括:沟槽图案，其中所述沟槽图案包括由彼此不相交的线性图案组成的区域，且所述由线性图案组成的区域是在所述区域中包含线性图案的两条或更多条线的方形区域，且所述由线性图案组成的区域包含一区域，在所述区域中线性图案的线宽度(W)及深度(D)、以及在方形区域中不包含线性图案的区域的比率(R)与用以形成对应于所述线性图案的图案的掩膜图案的开口线宽度(Wtl)满足下列关系式I和2。ff=2D+ff0+X D ^ 42.9exp (-R/0.35) —1.5在此，X为常数，D、W、W。和X是以微米为单位的值，以及R为大于O且小于I的值。在关系式I中，X为根据形成印版的基板材料种类的数值，且X表示在所述基板材料的蚀刻过程中的CD膨本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄智泳，朴济燮，黄仁皙，李承宪，
申请(专利权)人：LG化学株式会社，
类型：
国别省市：