能够进行热处理的低辐射玻璃及其制造方法技术

本发明专利技术涉及在热处理前后也没有特性的变化，因而能够进行热处理，并且耐久性也优秀的低辐射玻璃及其制造方法。本发明专利技术的能够进行热处理的低辐射玻璃，其特征在于，包括：太阳光调节金属层，形成于玻璃基材的上部，第一电介质层，形成于上述太阳光调节金属层的下部，第二电介质层，形成于上述太阳光调节金属层的上部，以及最上部保护层，形成于上述第二电介质层的上部；上述第一电介质层具有由最下部电介质层与下部金属保护电介质层层叠的结构，上述最下部电介质层包含金属氧化物，上述下部金属保护电介质层包含金属（氧）氮化物；由此，本发明专利技术具有在进行热处理后，低辐射玻璃的特性也没有变化的优点。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】能够进行热处理的低辐射玻璃及其制造方法
本专利技术涉及低辐射玻璃及其制造方法，更为详细地，涉及能够进行热处理，并且耐久性也优秀的低辐射玻璃及其制造方法。
技术介绍
低辐射玻璃（Low-Emissivityglass）是指以薄膜的方式蒸镀低辐射层的玻璃，上述低辐射层包含如银（Ag）之类的在红外线区域中反射率高的金属。这种低辐射玻璃为在夏天反射太阳辐射热，在冬天储存从室内的取暖器产生的红外线，从而带来建筑物的节能效果的功能性材料。与低辐射玻璃相关的技术已公知于韩国公开专利公报第10-2010-0021355号等多个文献。一般来说，由于用作低辐射层的银（Ag）容易被氧化，因而在上述低辐射层的上部、下部蒸镀电介质层作为抗氧化膜。并且，这种电介质层还起到增加可见光透射率的作用。现有的电介质层由金属氧化物构成，且使用锌（Zn）、钛（Ti）、锡（Sn）等的氧化物或锌和锡的复合金属（SnZn）等。但是，在构成现有的电介质层的金属氧化物的情况下，由于在进行热处理后，在与氧化物相邻的金属层之间容易产生界面反应，因而具有热处理前后的可见光透射率容易改变的缺点。
技术实现思路
技术问题本专利技术用于解决如上所述的问题，其目的在于，提供在热处理前后也没有辐射率等特性的变化的低辐射玻璃及其制造方法。技术方案用于实现上述一个目的的本专利技术的实施例的低辐射玻璃，其特征在于，包括：太阳光调节金属层，形成于玻璃基材的上部，第一电介质层，形成于上述太阳光调节金属层的下部，第二电介质层，形成于上述太阳光调节金属层的上部，以及最上部保护层，形成于上述第二电介质层的上部；上述第一电介质层具有由最下部电介质层与下部金属保护电介质层层叠的结构，上述最下部电介质层包含金属氧化物，上述下部金属保护电介质层包含金属（氧）氮化物。用于解决上述其他目的的本专利技术的实施例的低辐射玻璃的制造方法，其特征在于，包括：步骤（a），在玻璃基材的上部蒸镀金属氧化物，并在被蒸镀的上述金属氧化物的上部蒸镀金属（氧）氮化物，来形成第一电介质层；步骤（b），在上述第一电介质层的上部形成太阳光调节金属层；步骤（c），在上述太阳光调节金属层的上部蒸镀金属（氧）氮化物，来形成第二电介质层；以及步骤（d），在上述第二电介质层的上部蒸镀金属氧化物，来形成最上部保护层。专利技术的效果本专利技术的低辐射玻璃的形成于玻璃基材上的第一电介质层具有由最下部电介质层与下部金属保护电介质层层叠的结构，上述最下部电介质层由金属氧化物构成，上述下部金属保护电介质层由金属（氧）氮化物构成，从而具有上述金属（氧）氮化物从氧化物内的氧的影响中保护太阳光调节金属层的优点。因此，由于如上所述的结构性特征，本专利技术的低辐射玻璃具有在热处理后，可见光透射率也很优秀且辐射率也没有变化的优点。附图说明图1为表示本专利技术的实施例的低辐射玻璃的结构的剖视图。图2为简要表示本专利技术的实施例的低辐射玻璃的制造方法的流程图。具体实施方式以下参照附图详细说明的实施例会让本专利技术的优点和特征以及实现这些优点和特征的方法更加明确。但是，本专利技术不局限于以下所公开的实施例，能够以互不相同的各种方式实施，本实施例只用于使本专利技术的公开内容更加完整，有助于使本专利技术所属
的普通技术人员完整地理解本专利技术的范畴，本专利技术仅由专利技术要求保护范围来定义。在说明书全文中，相同的附图标记表示相同的结构要素。以下，参照附图对本专利技术的低辐射玻璃及其制造方法进行详细说明。图1为表示本专利技术的实施例的低辐射玻璃的结构的剖视图。参照图1，所示的低辐射玻璃100具有包括涂敷于玻璃基材110上的第一电介质层120、太阳光调节金属层130、第二电介质层140以及最上部保护层150的结构。以下，在基材的“上部（或下部）”或者基材的“上（或下）”形成任意的结构不仅意味着任意的结构与上述基材的上表面（或下表面）相接触而成，而且并不限定上述基材与形成于基材上（或下）的任意结构之间不包括其他结构。上述玻璃基材110可使用用于建筑领域的通常的钠钙玻璃。根据使用目的，使用于本专利技术的玻璃基材110可自由地使用厚度为2～12mm的玻璃。本专利技术的低辐射玻璃100包括第一电介质层120，上述第一电介质层120形成于上述玻璃基材110上。当进行低辐射玻璃的热处理时，上述第一电介质层起到阻断向太阳光调节金属层传输的氧或离子的功能。本专利技术的上述第一电介质层120的特征在于，具有由最下部电介质层121与下部金属保护电介质层122层叠的结构，上述最下部电介质层121包含金属氧化物，上述下部金属保护电介质层122包含金属（氧）氮化物。在此，下部金属保护电介质层122包含金属（氧）氮化物意味着包含金属氮化物或金属氧氮化物。即，上述第一电介质层120具有由最下部电介质层121与下部金属保护电介质层122构成的两层结构，上述最下部电介质层121形成于玻璃基材110上，上述下部金属保护电介质层122在上述最下部电介质层121上层叠而成。当进行低辐射玻璃的热处理时，包含上述金属（氧）氮化物的下部金属保护电介质层122起到防止包含金属氧化物的最下部电介质层121与太阳光调节金属层130之间的界面反应，并保护上述太阳光调节金属层130的功能。由此，本专利技术的低辐射玻璃100具有即使进行热处理也几乎没有可见光透射率等特性的变化，尤其完全没有辐射率的变化的优秀的效果。优选地，在第一电介质层120中，上述金属（氧）氮化物和金属氧化物分别由包含相同金属的金属（氧）氮化物及金属氧化物构成。由于上述第一电介质层120由包含相同金属的金属（氧）氮化物和金属氧化物的层叠体形成，因而能够使形成最下部电介质层121及下部金属电介质层122的物质之间的蒸镀活性化，并且具有低辐射玻璃制作工序的简化及减少生产费用的效果。优选地，上述第一电介质层120可包含Zn类氧化物及（氧）氮化物而形成，上述Zn类氧化物包含Sn。即，上述第一电介质层120能够以SnZnOx/SnZnOxNy或SnZnOx/SnZnNx的层叠结构形成。上述氧化物及（氧）氮化物的组成范围并不受特殊限制，可根据涂敷时的可控气氛含量，以多种方式适用。优选地，上述最下部电介质层121的厚度为10～50nm的范围。若上述最下部电介质层121的厚度小于10nm，则具有涂敷膜的耐久性下降的问题，若大于50nm，则具有低辐射玻璃的光学特性下降的问题。并且，优选地，上述下部金属保护电介质层122的厚度为1～10nm的范围。若上述下部金属保护电介质层122的厚度小于1nm，则具有无法起到作为太阳光调节金属层130的保护膜的作用的问题，若大于10nm，则具有低辐射玻璃的光学特性下降的问题。在本专利技术的低辐射玻璃中，太阳光调节金属层130形成于上述第一电介质层120。优选地，上述太阳光调节金属层130可包括低辐射层131以及金属保护层132、133，上述金属保护层132、133形成于上述低辐射层131的上下部。上述低辐射层131执行选择性地透射及反射太阳辐射线的功能。构成本专利技术的低辐射玻璃的低辐射层131的材料可包含选自由银、金、铜、铝以及铂构成的组中的一种以上的物质，尤其，优选为银。这是因为，在由上述银形成低辐射层131的情况下，可满足在高的电导率、可见光线区域中的低吸收率、优秀的耐久性等。在上述低辐射层131的上部及下部可形本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.08.18 KR 10-2011-00823831.一种低辐射玻璃，其特征在于，包括：太阳光调节金属层，形成于玻璃基材的上部，第一电介质层，形成于上述太阳光调节金属层的下部，第二电介质层，形成于上述太阳光调节金属层的上部，以及最上部保护层，形成于上述第二电介质层的上部；上述第一电介质层具有由最下部电介质层与下部金属保护电介质层层叠的结构，上述最下部电介质层包含金属氧化物，上述下部金属保护电介质层包含金属氧氮化物；上述最下部电介质层及下部金属保护电介质层分别包含相同的金属；上述最下部电介质层包含SnZnOx；上述下部金属保护电介质层包含SnZnOxNy；上述第二电介质层包含SnZnOxNy；上述最上部保护层包含SnZnOx。2.根据权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于，上述最下部电介质层的厚度为10～50nm。3.根据权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于，上述下部金属保护电介质层的厚度为1～10nm。4.根据权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于，上述太阳光调节金属层包括低辐射层以及金属保护层，上述金属保护层形成于上述低辐射层的上下部。5.根据权利要求4所述的低...

【专利技术属性】
技术研发人员：金雄吉，权大勋，田允淇，
申请(专利权)人：乐金华奥斯有限公司，
类型：
国别省市：