决明衍生物制造技术

本发明专利技术涉及具有D-甘露糖基与D-半乳糖残基的平均比为至少5:1的重复单元的阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖，和含有它的组合物。位于该半乳甘露聚糖的甘露糖基与半乳糖残基上的羟基中的一部分氢原子被两性和阳离子取代基取代。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术涉及具有D-甘露糖基与D-半乳糖残基的平均比为至少5:1的重复单元的阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖，和含有它的组合物。位于该半乳甘露聚糖的甘露糖基与半乳糖残基上的羟基中的一部分氢原子被两性和阳离子取代基取代。【专利说明】决明衍生物
本专利技术一般地涉及半乳甘露聚糖衍生物。更具体地，本专利技术涉及由获自于决明属植物(plant genus Cassia)的种子胚乳获得的阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖聚合物，及其在个人护理、保健、机构性和工业护理组合物等中的用途。本专利技术的阳离子和两性改性的决明(Cassia)半乳甘露聚糖聚合物可用作用于改善化学活性的和生理活性的成分的效率、沉积和递送的沉积助剂、稳定剂、乳化剂、铺展助剂和载体。另外，这些聚合物可用作个人护理组合物中的活性组分作为成膜剂、头发定型剂(fixative)、头发调理剂、和皮肤调理剂。它们还可用于改进含有它们的个人护理制剂的心理感觉和美学性能。专利技术背景半乳甘露聚糖是一类多糖，它存在于豆类植物如瓜尔豆(Cyamopsistetragonoloba)(瓜尔胶)、黄耆(Cesalpinia spinosa)(塔拉胶)、长角豆(Ceratoniasiliqua)(刺槐豆胶)、和豆科家族中其它碳酸成员的种子的胚乳材料内。半乳甘露聚糖由I — 4连接的β -D-吡喃甘露糖基主链单元(本文中也称作甘露糖苷单元或残基)的骨架以及从聚合物骨架的吡喃甘露糖残基的第6个碳原子支化的重复的I — 6连接的a -D-半乳糖侧基(本文中也称作半乳糖苷单元或残基)组成。不同豆科物种的半乳甘露聚糖聚合物的从聚甘露糖苷骨架支化的半乳糖苷侧基单元的出现频率彼此不同。甘露糖苷和半乳糖苷单元在本文中统称为糖苷单元或残基。瓜尔胶内包含的半乳甘露聚糖中D-甘露糖苷与D-半乳糖苷单元的平均比为约1.5或2:1，塔拉胶的为约3:1，和刺槐豆胶的为约4:1。聚半乳甘露聚糖的另一重要 来源从小决明(Cassia tora)和钝叶决明(Cassia obtusifolia)(称为决明胶)的种子胚乳中分离。决明胶中甘露糖与半乳糖的平均比为至少5:1。为了阐述的目的，可用下述结构图示从决明种子的胚乳中获得的半乳甘露聚糖:【权利要求】1.甘露糖与半乳糖的平均比为至少5:1的阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖，其中在该半乳甘露聚糖上存在的羟基中的一部分氢原子被如下的式(I)表示的至少一个阳离子部分和式(II)表示的至少一个两性部分取代: 2.权利要求1的阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖，其中所述二价亚烷基A由下式表示: 3.权利要求1的阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖，其中R2选自具有约8-约30个碳原子的环状或饱和或不饱和，直链或支化的烃基，和c是范围为约2-约250的整数。4.权利要求3的阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖，其中所述烃基R2选自环烷基，直链或支化烷基，环烯基，直链或支化烯基，芳基，烷芳基，烯基芳基，及其组合，和c是范围为约2-约150的整数。5.权利要求1的阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖，其中所述烃基R2选自取代或未取代的C6-C8环烷基，C6-C8环烯基，直链或支化的C6-C35烷基，直链或支化的C6-C35烯基，C6-C14芳基，被(C1-C22)烷基取代基取代的(C6-Cltl)芳基，被(C3-C22)烯基取代的(C6-Cltl)芳基，及其组合，和(R1-Oh表示以氧基亚烷基单元的均聚物、无规共聚物或嵌段共聚物排列的聚氧基亚烷基部分，其中R1独立地选自直链和支化的C2H4、C3H6和C4H8 二价亚烷基，和C是范围为约2-约250的整数。6.权利要求2的阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖，其中-AR用下述结构表示: 7.权利要求6的阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖，其中X选自氯离子、溴离子、碘离子、硫酸根、甲基硫酸根、磺酸根、硝酸根、磷酸根、和乙酸根阴离子。8.一种组合物，包含:a)权利要求1-7任何一项的阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖；和 b)选自表面活性剂、头发和皮肤调理剂、润肤剂、乳化剂、流变改性剂、增稠剂、维生素、头发生长促进剂、自晒黑剂、防晒剂、皮肤增亮剂、抗衰老化合物、抗皱化合物、去脂化合物、抗痤疮化合物、止屑剂、消炎化合物、止痛剂、止汗剂、除味剂、头发定型剂、粒状物、摩擦剂、增湿剂、抗氧化剂、角质层分离剂、抗静电剂、泡沫促进剂、助水溶剂、增溶剂、螯合剂、抗微生物剂、抗真菌剂、PH调节剂、螯合剂、缓冲剂、植物制剂、头发着色剂、氧化剂、还原剂、头发和皮肤漂色剂、颜料、防龋剂、抗牙垢剂、抗斑剂、溶剂及它们的组合中的至少一种组分。9.一种清洁剂组合物,包含: a)权利要求1-7任何一项的阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖；和 b)选自阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性表面活性剂、非离子表面活性剂及它们的组合中的表面活性剂。10.权利要求9的清洁剂组合物，进一步包含调理剂。11.权利要求10的清洁剂组合物，其中所述调理剂选自硅酮、有机调理油、天然及合成蜡、阳离子聚合物及它们的组合。12.权利要求11的清洁剂组合物，其中所述硅酮选自硅酮流体、硅油、阳离子硅酮、硅酮胶料、高折射率硅酮、硅酮树脂、乳化硅酮、二甲基聚硅氧烷共聚多元醇、及它们的组合。13.权利要求11的清洁剂组合物，其中所述阳离子聚合物选自季铵化合物。14.一种头发定型剂组合物，包含: a)权利要求1-7任何一项的阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖；和 b)选自流变改性剂、表面活性剂、辅助定型剂、溶剂、水、调理剂、推进剂、中和剂、香料、香料增溶剂、增稠剂、防腐剂、乳化剂、润肤剂、保湿剂、着色剂、蜡及其混合物中的组分。15.权利要求14的头发定型剂组合物，其中所述调理剂选自硅酮、阳离子聚合物及它们的组合。16.权利要求14的头发定型剂组合物，其中所述溶剂选自水、C1-Cf^、酮、醚、及它们的组合。17.权利要求15的头发定型剂组合物，其中所述阳离子聚合物是聚季铵盐化合物。18.权利要求14的头发定型剂组合物，其中所述推进剂选自丙烷、丁烷、异丁烯、二甲醚、1，1- 二氟乙烷、二氧化碳、及它们的混合物。19.权利要求1-18任何一项的组合物，其中所述阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖中甘露糖与半乳糖的平均比范围为约5:1-约49:1。20.权利要求1-18任何一项的组合物，其中所述阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖中甘露糖与半乳糖的平均比范围为约5:1-约25:1。21.权利要求1-18任何一项的组合物，其中所述阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖中甘露糖与半乳糖的平均比范围为约5:1-约10:1。22.权利要求1-18任何一项的组合物，其中所述阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖中甘露糖与半乳糖的平均比范围为约5:1、6:1、7:1、8:1、9:1、及它们的混合。23.权利要求1-18任何一项的组合物，其中在所述阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖中半乳糖的重量范围为约2wt%-约17wt%，基于该半乳甘露聚糖的重量。24.权利要求1-18任何一项的组合物，其中阳离子取代度范围为约0.25-约2。25.权利要求1-18任何一项的组合物，其中阳离子取代度范围为约0.3-约1.75。26.权利要求1-18任何一项的组合物，本文档来自技高网...

【技术保护点】
甘露糖与半乳糖的平均比为至少5:1的阳离子和两性改性的半乳甘露聚糖，其中在该半乳甘露聚糖上存在的羟基中的一部分氢原子被如下的式(I)表示的至少一个阳离子部分和式(II)表示的至少一个两性部分取代：其中A独立地选自直链或支化的、取代或未取代的二价C1‑C6亚烷基，和当取代时，所述取代基独立地选自羟基和卤素；R独立地选自‑S+R3R4X‑、‑N+R3R4R5X‑、和‑P+R3R4R5X‑，其中R3、R4和R5独立地选自氢、以及直链和支化的C1‑C24烷基，和X‑表示阴离子；(R1‑O)c表示氧基亚烷基部分或以氧基亚烷基单元的均聚物、无规共聚物或嵌段共聚物排列的聚氧基亚烷基部分，其中R1独立地选自直链和支化的C2H4、C3H6和C4H8二价亚烷基，和c是范围为约1‑约250的整数；R2独立地选自具有约6‑约35个碳原子的烃基；a是0或1；和b是0或1，条件是当a为0时，b为0。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：C·A·莱比勒，D·马拉巴，J·J·穆雷，D·W·拉弗瑞，D·G·科尔奇希克，刘昕，E·H·安德森，
申请(专利权)人：路博润高级材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US