中心波长3800nm的火焰探测滤光片制造技术

一种中心波长3800nm的火焰探测滤光片，包括以红外石英为原材料的基板，以Ge、SiO为第一镀膜层和以Ge、SiO为第二镀膜层，且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，其特征是：所述第一镀膜层由内向外依次排列包含有：68nm厚度的Ge层、231nm厚度的SiO层、126nm厚度的Ge层、138nm厚度的SiO层、83nm厚度的Ge层、344nm厚度的SiO层、82nm厚度的Ge层、166nm厚度的SiO层、99nm厚度的Ge层、211nm厚度的SiO层、140nm厚度的Ge层、363nm厚度的SiO层、122nm厚度的Ge层、421nm厚度的SiO层、118nm厚度的Ge层、439nm厚度的SiO层、87nm厚度的Ge层、474nm厚度的SiO层、117nm厚度的Ge层、477nm厚度的SiO层、19nm厚度的Ge层和122nm厚度的SiO层；所述第二镀膜层由内向外依次排列包含有：239nm厚度的Ge层、2127nm厚度的SiO层、228nm厚度的Ge层、532nm厚度的SiO层、228nm厚度的Ge层、532nm厚度的SiO层、912nm厚度的Ge层、532nm厚度的SiO层、113nm厚度的Ge层和357nm厚度的SiO层。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术所设计的一种峰值透过率高，能极大的提高信噪比，提高火焰探测精度的中心波长3800nm的火焰探测滤光片，包括以红外石英为原材料的基板，以Ge、SiO为第一镀膜层和以Ge、SiO为第二镀膜层，且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，该中心波长3800nm的火焰探测滤光片，其中心波长3800±40nm，其在火焰探测过程中，可大大的提高信噪比，提高测试精准度。该滤光片的峰值透过率Tp≥80％、带宽=180±20nm，400～11000nm（除通带外），Tavg<0.5%。【专利说明】中心波长3800nm的火焰探测滤光片
本技术涉及火焰探测滤光片领域，尤其是一种中心波长3800nm的火焰探测滤光片。
技术介绍
在自然界，任何物体在绝对零度(-273度)以上，都有红外谱线发出，而每种物质都有其特殊的发射或吸收特征峰。滤光片过滤、截止可见光同时允许特定的红外线通过。利用带通红外滤光片的这种允许物体的特征红外谱线透过的特性，可以探测出特定物质的存在，广泛应用于安防、环保、工业、科研等。滤光片的质量直接影响探测的精度和灵敏度。由于任何物体都在发出红外线，温度越高，辐射的红外线越强。在用于火焰探测中红外滤光片可以通过指定的红外线，因此对滤光片检测的要求精度要高。就目前用于火焰探测中的滤光片，检测精度不高、透过率和信噪比低，精度差，有时候出现误测的现象，不能满足市场发展的需要。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决上述技术的不足而提供一种峰值透过率高，能极大的提高信噪比，提高火焰探测精度的中心波长3800nm的火焰探测滤光片。为了达到上述目的，本技术所设计的中心波长3800nm的火焰探测滤光片，包括以红外石英为原材料的基板，以Ge、SiO为第一镀膜层和以Ge、SiO为第二镀膜层，且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，所述第一镀膜层由内向外依次排列包含有:68nm厚度的Ge层、23Inm厚度的SiO层、126nm厚度的Ge层、138nm厚度的SiO层、83nm厚度的Ge层、344nm厚度的SiO层、82nm厚度的Ge层、166nm厚度的SiO层、99nm厚度的Ge层、21 Inm厚度的SiO层、140nm厚度的Ge层、363nm厚度的SiO层、122nm厚度的Ge层、42Inm厚度的SiO层、118nm厚度的Ge层、439nm厚度的SiO层、87nm厚度的Ge层、474nm厚度的SiO层、117nm厚度的Ge层、477nm厚度的SiO层、19nm厚度的Ge层和122nm厚度的SiO层；所述第二镀膜层由内向外依次排列包含有:239nm厚度的Ge层、2127nm厚度的SiO层、228nm厚度的Ge层、532nm厚度的SiO层、228nm厚度的Ge层、532nm厚度的SiO层、912nm厚度的Ge层、532nm厚度的SiO层、113nm厚度的Ge层和357nm厚度的SiO层。上述各材料对应的厚度，其允许在公差范围内变化，其变化的范围属于本专利保护的范围，为等同关系。通常厚度的公差在IOnm左右。本技术所得到的中心波长3800nm的火焰探测滤光片，其中心波长3800 土 40nm，其在火焰探测过程中，可大大的提高信噪比，提高测试精准度。该滤光片的峰值透过率 Tp≤ 80%、带宽=180±20nm，400 ~IlOOOnm (除通带外)，Tavg<0.5%。【专利附图】【附图说明】图1是实施例整体结构示意图；图2是实施例提供的红外光谱透过率实测曲线图。【具体实施方式】下面通过实施例结合附图对本技术作进一步的描述。实施例1:如图1、图2所示，本实施例描述的中心波长3800nm的火焰探测滤光片，包括以红外石英为原材料的基板2，以Ge、SiO为第一镀膜层I和以Ge、SiO为第二镀膜层3，且所述基板2位于第一镀膜层I和第二镀膜层3之间，所述第一镀膜层I由内向外依次排列包含有:68nm厚度的Ge层、23Inm厚度的SiO层、126nm厚度的Ge层、138nm厚度的SiO层、83nm厚度的Ge层、344nm厚度的SiO层、82nm厚度的Ge层、166nm厚度的SiO层、99nm厚度的Ge层、21 Inm厚度的SiO层、140nm厚度的Ge层、363nm厚度的SiO层、122nm厚度的Ge层、42Inm厚度的SiO层、118nm厚度的Ge层、439nm厚度的SiO层、87nm厚度的Ge层、474nm厚度的SiO层、117nm厚度的Ge层、477nm厚度的SiO层、19nm厚度的Ge层和122nm厚度的SiO层；所述第二镀膜层3由内向外依次排列包含有:239nm厚度的Ge层、2127nm厚度的SiO层、228nm厚度的Ge层、532nm厚度的SiO层、228nm厚度的Ge层、532nm厚度的SiO层、912nm厚度的Ge层、532nm厚度的SiO层、113nm厚度的Ge层和357nm厚度的SiO层。【权利要求】1.一种中心波长3800nm的火焰探测滤光片，包括以红外石英为原材料的基板，以Ge、SiO为第一镀膜层和以Ge、SiO为第二镀膜层，且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，其特征是:所述第一镀膜层由内向外依次排列包含有:68nm厚度的Ge层、231nm厚度的SiO层、126nm厚度的Ge层、138nm厚度的SiO层、83nm厚度的Ge层、344nm厚度的SiO层、82nm厚度的Ge层、166nm厚度的SiO层、99nm厚度的Ge层、21 Inm厚度的SiO层、140nm厚度的Ge层、363nm厚度的SiO层、122nm厚度的Ge层、421nm厚度的SiO层、118nm厚度的Ge层、439nm厚度的SiO层、87nm厚度的Ge层、474nm厚度的SiO层、117nm厚度的Ge层、477nm厚度的SiO层、19nm厚度的Ge层和122nm厚度的SiO层；所述第二镀膜层由内向外依次排列包含有:239nm厚度的Ge层、2127nm厚度的SiO层、228nm厚度的Ge层、532nm厚度的SiO层、228nm厚度的Ge层、532nm厚度的SiO层、912nm厚度的Ge层、532nm厚度的SiO层、113nm厚度的Ge层和357nm厚度的SiO层。【文档编号】G01J5/08GK203551826SQ201320777872【公开日】2014年4月16日 申请日期:2013年11月29日 优先权日:2013年11月29日 【专利技术者】吕晶, 王继平, 刘晶 申请人:杭州麦乐克电子科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种中心波长3800nm的火焰探测滤光片，包括以红外石英为原材料的基板，以Ge、SiO为第一镀膜层和以Ge、SiO为第二镀膜层，且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，其特征是：所述第一镀膜层由内向外依次排列包含有：68nm厚度的Ge层、231nm厚度的SiO层、126nm厚度的Ge层、138nm厚度的SiO层、83nm厚度的Ge层、344nm厚度的SiO层、82nm厚度的Ge层、166nm厚度的SiO层、99nm厚度的Ge层、211nm厚度的SiO层、140nm厚度的Ge层、363nm厚度的SiO层、122nm厚度的Ge层、421nm厚度的SiO层、118nm厚度的Ge层、439nm厚度的SiO层、87nm厚度的Ge层、474nm厚度的SiO层、117nm厚度的Ge层、477nm厚度的SiO层、19nm厚度的Ge层和122nm厚度的SiO层；所述第二镀膜层由内向外依次排列包含有：239nm厚度的Ge层、2127nm厚度的SiO层、228nm厚度的Ge层、532nm厚度的SiO层、228nm厚度的Ge层、532nm厚度的SiO层、912nm厚度的Ge层、532nm厚度的SiO层、113nm厚度的Ge层和357nm厚度的SiO层。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吕晶，王继平，刘晶，
申请(专利权)人：杭州麦乐克电子科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：