一种真空炉用支撑底座制造技术

技术编号:9950852 阅读:121 留言:0更新日期:2014-04-20 22:25
一种真空炉用支撑底座,包括圆柱形的底座本体,其特征在于:所述圆柱形的底座本体包括支撑板(1)、支撑架(2)、和坩埚台(3),支撑板(1)设在支撑架(2)上,支撑板(1)上设有用于承载真空炉中的坩埚的坩埚台(4)。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术涉及一种真空炉的底座,具体的说是一种真空炉用支撑底座。包括圆柱形的底座本体,其特征在于:所述圆柱形的底座本体包括支撑板(1)、支撑架(2)、和坩埚台(3),支撑板(1)设在支撑架(2)上,支撑板(1)上设有用于承载真空炉中的坩埚的坩埚台(4),本技术一来可以起到良好的承重效果,二来能够有效地将真空炉内的部分热量传导出去,避免了炉内温度过高而导致的炉壁外侧的不锈钢防护层融化致使炉体损坏的问题。【专利说明】一种真空炉用支撑底座
本技术涉及一种真空炉的底座,具体的说是一种真空炉用支撑底座。
技术介绍
真空炉是在炉腔这一特定空间内利用真空系统(由真空泵、真空测量装置、真空阀门等元件经过精心组装而成)将炉腔内部分物质排出,使炉腔内压强小于一个标准大气压,从而使得炉腔内空间实现真空状态的加热炉,真空炉一般由炉膛、电热装置、密封炉壳、真空系统、供电系统和控温系统等组成,密封炉壳用碳钢或不锈钢焊成,可拆卸部件的接合面用真空密封材料密封,为防止炉壳受热后变形和密封材料受热变质,炉壳一般用水冷或气冷降温,炉膛位于密封炉壳内,其中,熔炼金属的真空炉炉膛内装有坩埚,有的还装有自动浇注装置和装卸料的机械手等。对于熔炼金属用的真空炉,由于在工作时其内部温度很高,通常会达上千度,传统的工作人员通常认为,这会使得炉子对自身的保温性能要求极高,所以以往的真空炉均采用多层炉壁,并在炉壁之间设置隔热屏,在炉底设置耐火砖底座,以降低热量损耗,但是,目前的种种保温措施通常会增大炉子的整体重量,使得炉子的移动、维修极为不便,而且,过高的炉温因无法释放会透过隔热屏使得外围的不锈钢防护层熔化,造成炉体损坏,这就需要一定的渠道将炉内的热量进行释放,但同时又不会影响炉内的高温气氛。
技术实现思路
为了解决上述技术问题,本技术提供具有一定散热性的真空炉用支撑底座。本技术为解决上述技术问题所采用的技术方案为:一种真空炉用支撑底座,包括圆柱形的底座本体,所述圆柱形的底座本体包括支撑板、支撑架和坩埚台,支撑板设在支撑架上,支撑板上设有用于承载真空炉中的坩埚的坩埚台。支撑板上设有用于承载真空炉中的坩埚的坩埚台,使用时本技术整体位于真空炉的底部,真空炉中的坩埚放置在坩埚台上,支撑架与支撑板能够使得与坩埚接触的上层板接收到的坩埚的热量能够很好的传导出去,避免真空炉内过高的温度氛围造成外层炉壁损坏。作为最优的选择,所述支撑架多块竖直设置的支撑板构成井字形结构,井字结构的支撑架承载面积较为平均,支撑效果好;当然,这里的支撑架也可以使用例如十字形、三角形等多种形状。有益效果:本技术一种真空炉用支撑底座,采用钥制结构的圆柱形底座本体,并使用支撑架支撑着的支撑板式的结构,与传统的耐火砖砌成的底座相比,本技术一来可以起到良好的承重效果,二来能够有效地将真空炉内的部分热量传导出去,避免了炉内温度过高而导致的炉壁外侧的不锈钢防护层融化致使炉体损坏的问题。 【专利附图】【附图说明】图1为本技术的结构示意图;图2为本技术的俯视图。附图标记:1、支撑板,2、支撑架,3、坩埚台。【具体实施方式】下面结合【专利附图】【附图说明】本技术的【具体实施方式】:一种真空炉用支撑底座,为中空的圆柱体形结构,包括支撑板1、支撑架2和坩埚台3,支撑板I设置在支撑架2上,支撑板I上设有坩埚台3,支撑架2为多块竖直设置的支撑板构成井字形结构,支撑效果最好,支撑板I上设有坩埚台3,坩埚台3用于放置钨坩埚或钥坩埚,采用这种结构的真空炉支撑底座,能够在对樹祸起到良好承重的同时,极大的提闻了底座的散热性,能够有效的避免真空炉隔热屏外的不锈钢护板过热融化的问题。本技术未叙述部分为现有技术。【权利要求】1.一种真空炉用支撑底座,包括圆柱形的底座本体,其特征在于:所述圆柱形的底座本体包括支撑板(I)、支撑架(2 )、和坩埚台(3 ),支撑板(I)设在支撑架(2 )上,支撑板(I)上设有用于承载真空炉中的坩埚的坩埚台(4)。2.如权利要求1所述的一种真空炉用支撑底座,其特征在于:所述支撑架(3)由多块竖直设置的支撑板构成井字形结构。【文档编号】F27B14/08GK203550551SQ201320568810【公开日】2014年4月16日 申请日期:2013年9月13日 优先权日:2013年9月13日 【专利技术者】王小淼, 耿宏安, 耿世杰 申请人:洛阳爱科麦钨钼制品有限公司本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种真空炉用支撑底座,包括圆柱形的底座本体,其特征在于:所述圆柱形的底座本体包括支撑板(1)、支撑架(2)、和坩埚台(3),支撑板(1)设在支撑架(2)上,支撑板(1)上设有用于承载真空炉中的坩埚的坩埚台(4)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王小淼耿宏安耿世杰
申请(专利权)人:洛阳爱科麦钨钼制品有限公司
类型:实用新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1