阻气膜及器件制造技术

技术编号:9937503 阅读:118 留言:0更新日期:2014-04-18 23:17
膜,其在基体材料膜的至少一面上层叠由包含乙烯基化合物的聚合性组合物的固化物形成的锚固层,并在该锚固层上层叠有由氧化铝构成的蒸镀层,其中,在所述蒸镀层的厚度方向的至少一部分区域中,氧化铝(AlxOy)的组成比(y/x)的峰位于2.1~3.0。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供具有优异的阻气性(特别是水蒸气阻隔性)的膜及使用该膜的器件。所述膜是按照下述得到的:在基体材料膜的至少一面上层叠由包含乙烯基化合物的聚合性组合物的固化物形成的锚固层,并在该锚固层厚度方向的至少一部分区域中层叠具有下述(1)和/或(2)的特性的氧化铝蒸镀层。(1)氧化铝(AlxOy)的组成比(y/x)的峰位于2.1~3.0,(2)氧化铝的密度为3.4g/cm3以上。【专利说明】阻气膜及器件
本专利技术涉及具有优异的阻气性(特别是水蒸气阻隔性)的膜及包含该膜作为阻气性构件的器件(例如液晶元件、薄膜太阳能电池元件、有机EL元件、电子纸等电子器件)。
技术介绍
一直以来,不断尝试着通过用金属或金属化合物的薄膜包覆基体材料膜来改善阻气性、特别是水蒸气阻隔性。例如,日本特开2005-178137号公报(专利文献I)中公开了一种阻气膜,其在基体材料膜的至少一面上层叠有具有平滑表面的阻隔性蒸镀层,并在该阻隔性蒸镀层上层叠有具有平滑表面的耐酸性保护层。在该文献中,记载了在蒸镀层上层叠丙烯酸酯树脂作为保护层。但是,该技术能够实现的水蒸气透过率为0.lg/m2/day左右,水蒸气阻隔性不足以用于有机EL元件、电子纸等电子器件。另外,在日本特表2005-528250号公报(专利文献2)中公开了一种多层阻隔涂层,其包含:(i)柔性基板;(ii)基础叠层,其具备沉积在柔性基板上的基础阻隔层及沉积在基础阻隔层上的有机层;(iii)阻隔叠层,其沉积在基础叠层上,且具备阻隔叠层阻隔层、及沉积在阻隔叠层阻隔层上的有机层;(iv)沉积在阻隔叠层上的最上分离层。在该文献中,记载了有机层可以含有丙烯酸酯树脂。在该技术中,通过以具备基础阻隔层及沉积在基础阻隔层上的有机层的基础叠层、沉积在基础叠层上且具备阻隔叠层阻隔层、及层叠在阻隔叠层阻隔层上的有机层的方式层叠蒸镀层和有机层,得到较高的阻隔性。但是,工序非常繁杂,为了得到lX10_4g/m2/day左右的水蒸气透过率需要构成10层以上的层,并不实用。进而,在日本特开2004-9395号公报(专利文献3)中公开了一种透明水蒸气阻隔膜,其是在树脂基体材料上至少具有包含无机物层/有机物层/无机物层的阻隔膜的透明水蒸气阻隔膜,其中,有机物层以由二丙烯酸酯交联而成的树脂为主要成分,所述二丙烯酸酯除丙烯酰基以外,还具有至少一个以上极性基团。但是,该膜的水蒸气阻隔性不充分。另外,该膜由于通过蒸镀而形成无机材料层,并通过蒸镀在该无机材料层上形成有机材料层,因此,尽管可使透明性得以提高,但其生产率低。另一方面,还已知有含有金属或金属化合物的蒸镀层隔着丙烯酸树脂层而层叠在基体材料膜上所得到的阻气膜。例如,日本特开平10-278167号公报(专利文献4)中公开了一种阻隔性层叠体,其是在树脂膜的单面上依次层叠通过真空紫外线固化法形成的丙烯酸树脂层及金属或金属化合物的蒸镀膜而得到的。该文献中广泛记载了丙烯酸单体或低聚物,还例示有聚氨酯丙烯酸酯及有机硅丙烯酸酯。但是,该阻隔性层叠体仍不能充分降低水蒸气透过率,无法大幅改善阻气性。例如,该文献实施例中的阻隔性层叠体的水蒸气透过率(40°C、90%RH)为0.4g/m2/day,其相对于近年来器件构件所要求的阻气性而言,是不充分的。另外,日本特开2005-313560号公报(专利文献5)中公开了一种阻气性膜,其是在挠性基体材料的单面或两面上,相对于所述基体材料直接地、仅重复一次或重复两次以上地层叠下述层叠结构而得到的,所述层叠结构是从接近上述基体材料的一侧开始,依次层叠厚度为0.1?10 μ m的丙烯酸树脂层、及厚度20?IOOnm的无机阻隔层而得到的,所述丙烯酸树脂层由仅含有丙烯酸单体和/或聚合性丙烯酸预聚物作为聚合成分的UV固化性树脂固化物构成。该文献中广泛记载了丙烯酸单体或聚合性丙烯酸预聚物,还例示有聚氨酯丙烯酸酯及有机硅丙烯酸酯。但是,该阻气性膜的水蒸气阻隔性也不充分。例如,该文献实施例中的阻气性膜的水蒸气透过率(40°C、100%RH)为0.49g/m2/day。特别是,即使是对于在基体材料膜的两面隔着丙烯酸树脂层形成无机阻隔层的阻气性膜,其水蒸气透过率(4(TC、100%RH)也为 0.09g/m2/day。日本特开2005-7741号公报(专利文献6)中公开了一种层叠体,其是在基体材料上至少层叠无机氧化物层(A)和(甲基)丙烯酸树脂层(D)而成的,所述(甲基)丙烯酸树脂层(D)含有在分子内具有三个以上羟基的(甲基)丙烯酸化合物(B)及在分子内具有烷氧基甲硅烷基的(甲基)丙烯酸化合物(C)。在该文献的实施例中得到一种层叠体,其是在聚醚砜(PES)膜上依次交替连续叠层各三层的(甲基)丙烯酸树脂层(D)和无机氧化物层(A)而成的,所述(甲基)丙烯酸树脂层(D)是闪蒸蒸镀含有2-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷的(甲基)丙烯酸化合物而成的,所述无机氧化物层(A)是蒸镀氧化铝而成的。该层叠体的水蒸气透过率(40°C、90%RH)低于0.01g/m2/day。然而,阻气性仍不充分。另一方面,还已知若为无机物,则具有较高的阻隔性(特别是水蒸气阻隔性),例如,若为具有20 μ m以上厚度的铝箔,则其水蒸气透过率事实上为O。然而,这样的金属本身不透明,不能用作有机EL元件、电子纸等具有可视性的电子器件的表面材料。玻璃也具有非常高的阻隔性。因此,现状是玻璃成为用于有机EL元件、电子纸等电子器件的满足水蒸气阻隔性的要求且透明的唯一材料。但是,玻璃存在较硬、不易弯曲且容易裂纹的缺点,在加工电子器件时,无法将其卷成卷状进行保管或在工序中使用。因此,使用玻璃制造电子器件时,需要将切割为一片一片的玻璃保持平面状态进行运输、加工,这是降低电子器件生产率的一个主要原因。单晶氧化铝(单晶蓝宝石)具有3.97g/cm3左右的密度且透明,可以实现I X 10_4g/m2/day左右的水蒸气透过率。因此,只要能够将单晶氧化铝形成于通用合成树脂膜上,则理论上可以制成透明、柔软且具备高阻隔性的膜。作为单晶蓝宝石的代表性制造方法,已知有Edge-defined Film-fed Growth法。在该方法中,将在规定结晶形状的模(模具)的狭缝中通过毛细管现象上升的原料熔融液在模具的上端部结晶化。但是,由于氧化铝的熔融温度超过2000°C,因此,不存在能够耐受如此高温的合成树脂。因此,认为无法在合成树脂膜上形成单晶氧化铝。如上所述,若具有一种在聚对苯二甲酸乙二醇酯膜等通用合成树脂膜上形成蒸镀层且透明、并具有lX10_4g/m2/day左右的水蒸气透过率的膜,则可以创新性地提高电子器件制造中的生产率,电子器件行业迫切期望这样的膜。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2005-178137号公报(权利要求1及10、段落、实施例)专利文献2:日本特表2005-528250号公报(权利要求1、段落)专利文献3:日本特开2004-9395号公报(权利要求1及2、段落)专利文献4:日本特开平10-278167号公报(权利要求1、段落,实施例)专利文献5:日本特开2005-313560号公报(权利要求1、段落,实施例)专利文献6:日本特开2005-7741号公报(权利要求1、实施例)本文档来自技高网...

【技术保护点】
膜,其在基体材料膜的至少一面上层叠由包含乙烯基化合物的聚合性组合物的固化物形成的锚固层,并在该锚固层上层叠有由氧化铝构成的蒸镀层,其中,在所述蒸镀层的厚度方向的至少一部分区域中,氧化铝(AlxOy)的组成比(y/x)的峰位于2.1~3.0。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:中村修司北口透
申请(专利权)人:株式会社大赛璐
类型:
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1