透明传导基板和具有该基板的触摸面板制造技术

本申请公开了用于探测触摸屏面板中接触位置的透明传导基板和具有该基板的触摸面板。透明传导基板包含基底基板、在基底基板上形成的透明传导层和含树脂的聚合物树脂层，透明传导层包含图案部分和非图案部分，图案部分包含涂布基底基板的透明传导膜，基底基板经由非图案部分暴露，树脂具有1.4至1.6范围内的折射率，聚合物树脂层填充非图案部分的同时在透明传导层上形成，在图案部分的聚合物树脂层的厚度在1μm至1000μm的范围内。透明传导膜包含基底基板上的第一薄膜、第一薄膜上的金属薄膜和金属薄膜上的第二薄膜。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本申请公开了用于探测触摸屏面板中接触位置的透明传导基板和具有该基板的触摸面板。透明传导基板包含基底基板、在基底基板上形成的透明传导层和含树脂的聚合物树脂层，透明传导层包含图案部分和非图案部分，图案部分包含涂布基底基板的透明传导膜，基底基板经由非图案部分暴露，树脂具有1.4至1.6范围内的折射率，聚合物树脂层填充非图案部分的同时在透明传导层上形成，在图案部分的聚合物树脂层的厚度在1μm至1000μm的范围内。透明传导膜包含基底基板上的第一薄膜、第一薄膜上的金属薄膜和金属薄膜上的第二薄膜。【专利说明】透明传导基板和具有该基板的触摸面板相关申请的交叉引用本申请要求2012年9月28日申请的韩国专利申请第10-2012-0108927号的优先权,其全部内容就各方面而言通过弓I用并入本文。
本专利技术涉及透明传导基板(transparent conductive substrate)和具有该基板的触摸面板，更具体地，涉及用于探测触摸屏面板(TSP)中接触位置的透明传导基板和具有该基板的触摸面板。
技术介绍
通常，触摸面板指设置在显示装置(例如阴极射线管(CRT)、液晶显示器(IXD)、等离子体显示面板(PDP)或电致发光(EL)装置等)表面的装置，这样使用户在观看显示装置屏幕的同时，用手指或诸如触控笔的输入装置接触触摸面板时，信号可被输出。近来，触摸面板广泛用于各种电子装置，例如个人数字助理(PDA)、笔记本电脑、光学放大器(OA)装置、医疗器械或汽车导航系统。该触摸面板根据探测位置的工艺分为电阻薄膜型、电容型、超声波型和红外(IR)辐射型等。配置电阻薄膜型使每个用透明电极层(氧化铟锡(ITO)膜)涂布的两个基板连接到一起，以便透明电极层在点隔片的两侧彼此面对。当手指或笔等接触上部的基板时，用于探测位置的信号得到应用。当上部基板邻近下部基板的透明电极层时，该位置通过探测电信号而被探测到。该技术的优点是高的响应速度和经济上的竞争力，但缺点是低的耐久性和易碎性。配置电容型使透明电极通过用传导金属材料涂布触摸屏传感器的基板膜的一个表面而形成，其中允许特定量的电流沿玻璃表面流过。当用户接触屏幕时，接触位置通过识别因人体电容而变化的电流量的位置并计算大小而被探测到。该技术的优点是卓越的耐久性和高的透射率，但缺点是因该技术利用人体电容而难以用笔或带手套的手操作触摸面板。超声波型使用基于压电效应的压电装置，并通过计算从与触摸面板的接触而响应的压电装置以交替的方式在X和Y方向通过产生表面波的每个输入点的距离而探测位置。尽管该技术实现了高的清晰度和高的光透射率，但缺点是传感器易受污物和液体的损害。IR辐射型具有矩阵结构，其中多个发光装置和多个光电探测器设置在面板的周围。当光被用户阻断时，输入坐标通过获取阻断位置的X、Y坐标而确定。尽管该技术具有高的光透射率和强的抗外部冲击和划伤耐久性，但缺点是大尺寸、非精确接触的差识别和慢响应速率。在这些技术中电容型最受欢迎。这些技术都使用了由诸如氧化铟锡(IT0)制成的透明传导膜，以探测接触位置。透明传导膜被图案化，以探测接触位置。然而，图案化引起的问题在于图案部分的反射率与非图案部分的反射率不同，致使图案的形状可被目测看出。为了将图案与非图案部分之间的反射率差降至1%或更小(优选0.5%或更小)的值，将折射率匹配层置于视窗盖玻璃和透明传导薄膜之间。折射率匹配层通常包含由Nb2O5制成的中等折射率薄膜和由SiO2制成的低折射率薄膜。同时，显示器增加的面积增加了用于探测接触位置的电线长度。结果这需要具有更好导电性的透明传导膜。在实例中，用于移动电话(例如蜂窝电话或智能电话)的透明传导膜需要具有范围是约170 Q至约250Q的薄层电阻。另一方面，用于平板电脑的透明传导膜需要具有约120Q的薄层电阻，用于显示器的透明传导膜需要具有约50Q或更小的薄层电阻。为了实现具有低电阻特性的透明传导薄膜，可增加透明传导薄膜的厚度。然而，在这种情况下，图案可被目测看出，即使将折射率匹配层置于视窗盖玻璃与透明传导薄膜之间后，这是有问题的。专利技术背景部分中公开的信息仅是为了更好理解本专利技术的背景而提供，而不应认为是对该信息构成本领域技术人员已知的现有技术的确认或任何形式的暗示。
技术实现思路
本专利技术的各方面提供了透明传导基板和具有该基板的触摸面板，所述透明传导基板在具有低电阻和非可见特性的同时具有高的透光率。在本专利技术的一方面，提供了透明传导基板，包含基底基板；在所述基底基板上形成的透明传导层，所述透明传导层包含图案部分和非图案部分，所述图案部分包含涂布所述基底基板的透明传导膜，所述基底基板经由所述非图案部分暴露；和含树脂的聚合物树脂层，所述树脂具有1.4至1.6范围内的折射率，所述聚合物树脂层填充所述非图案部分的同时在所述透明传导层上形成，在所述图案部分的所述聚合物树脂层的厚度在I Pm至1000 的范围内。所述透明传导膜包含:在所述基底基板上形成的第一薄膜，所述第一薄膜的折射率在2.1至2.7的范围内，且所述第一薄膜的厚度在30nm至50nm的范围内；在所述第一薄膜上形成的金属薄膜，所述金属薄膜的厚度在5nm至15nm的范围内；和在所述金属薄膜上形成的第二薄膜，所述第二薄膜的折射率在2.1至2.7的范围内，且所述第二薄膜的厚度在30nm至50nm的范围内。根据本专利技术的示例性实施方式，所述第一薄膜和所述第二薄膜各自可包含选自由Nb2O5、TiO2和Ta2O5组成的组中的至少一种。所述金属薄膜可由Ag或Ag合金制成,所述金属薄膜的厚度在8nm至12nm的范围内。所述聚合物树脂层可由丙烯酸树脂或环氧树脂制成。所述图案部分和所述非图案部分之间的反射率差可为1%或更小。所述透明传导基板的吸光率可为5%或更小的。所述透明传导基板可进一步包含在所述第一薄膜和所述金属薄膜之间形成的平面化层，所述平面化层使所述第一薄膜平面化。这里，所述平面化层可由ZnO制成，所述平面化层的厚度在3nm至7nm的范围内，所述第一薄膜和所述平面化层的总厚度在30nm至50nm的范围内。所述透明传导基板可进一步包含在所述金属薄膜和所述第二薄膜之间形成的抗氧化层，所述抗氧化层防止所述金属薄膜被氧化。所述抗氧化层可由ZnO制成，所述抗氧化层的厚度在3nm至7nm的范围内，所述第二薄膜和所述抗氧化层的总厚度在30nm至50nm的范围内。本专利技术还提供了包含上述透明传导基板的触摸面板。根据本专利技术的实施方式，所述透明传导基板具有20Q或更小的低电阻特性、图案部分和非图案部分之间的反射率差为1%或更小的非可见特性和闻的透射率。此外，根据本专利技术的透明传导基板可易于制造，并由于快的涂布速度而具有优异的生产率。此外，由于未使用昂贵的氧化铟锡(IT0)，根据本专利技术的透明传导基板的制造成本低廉。本专利技术的方法和设备的具有其它特征和优点，一起用于解释本专利技术某些原理的并入本文的附图和以下本专利技术的详细说明将使上述特征和优点明显，或者更详细地陈述这些特征和优点。【专利附图】【附图说明】图1为显示根据本专利技术实施方式的透明传导基板的示意性截面图。【具体实施方式】现将详细参照本专利技术的透明传导基板和触摸面板，其实施方式示于附图并说明如下，以便与本专利技术相关领域的普通技术人本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明传导基板，包含：基底基板；在所述基底基板上形成的透明传导层，所述透明传导层包含图案部分和非图案部分，所述图案部分包含涂布所述基底基板的透明传导膜，所述基底基板经由所述非图案部分暴露；和含树脂的聚合物树脂层，所述树脂的折射率在1.4至1.6的范围内，所述聚合物树脂层填充所述非图案部分的同时在所述透明传导层上形成，在所述图案部分的所述聚合物树脂层的厚度在1μm至1000μm的范围内，其中，所述透明传导膜包含：在所述基底基板上形成的第一薄膜，所述第一薄膜的折射率在2.1至2.7的范围内，且所述第一薄膜的厚度在30nm至50nm的范围内；在所述第一薄膜上形成的金属薄膜，所述金属薄膜的厚度在5nm至15nm的范围内；和在所述金属薄膜上形成的第二薄膜，所述第二薄膜的折射率在2.1至2.7的范围内，且所述第二薄膜的厚度在30nm至50nm的范围内。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：金义洙，朴承元，
申请(专利权)人：三星康宁精密素材株式会社，
类型：发明
国别省市：