【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
单晶硅片清洗装置，其特征在于，包括：一进料槽，一与进料槽顺次连接的第一药槽和第二药槽，以及一与第二药槽连接的自来水溢流槽，还包括一纯水供水系统，所述纯水供水系统包括一第一纯水槽，一第二纯水槽以及一第三纯水槽，所述第一纯水槽，第二纯水槽以及第三纯水槽相互连通，将通过第三纯水槽、第二纯水槽至第一纯水槽的纯水通过一溢流管通入纯水溢流槽，所述进料槽和自来水溢流槽均连接一自来水供水管，所述第一药槽，第二药槽，纯水溢流槽，第二纯水槽以及第三纯水槽均连接一纯水管。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：牛龙，王文，童林剑，张斌，胡亚东，董典谟，樊帅，
申请(专利权)人：陕西天宏硅材料有限责任公司，
类型：新型
国别省市：陕西;61
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