描画装置及描画方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种描画装置及描画方法，能够简单地进行用于缓解边界部分的曝光不均匀的调整。在描画装置（1）中，接受从多个形状类型候补中选择射出率函数的形状类型的选择操作，其中，所述射出率函数规定光学单元（40）所具有的多个调制单位（442）在排列方向上的位置与射出率之间的关系。然后，根据所接受的形状类型，调整多个调制单位（442）的各自的射出率。然后，一边从光学单元（40）射出剖面呈带状的描画光，一边使光学单元（40）相对于基板（W）沿着与描画光的长度方向垂直的方向移动，由此对基板（W）执行描画处理。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供一种，能够简单地进行用于缓解边界部分的曝光不均匀的调整。在描画装置（1）中，接受从多个形状类型候补中选择射出率函数的形状类型的选择操作，其中，所述射出率函数规定光学单元（40）所具有的多个调制单位（442）在排列方向上的位置与射出率之间的关系。然后，根据所接受的形状类型，调整多个调制单位（442）的各自的射出率。然后，一边从光学单元（40）射出剖面呈带状的描画光，一边使光学单元（40）相对于基板（W）沿着与描画光的长度方向垂直的方向移动，由此对基板（W）执行描画处理。【专利说明】
本专利技术涉及一种对半导体基板、印刷基板、液晶显示装置等所具备的彩色滤光片用基板、液晶显示装置或等离子显示装置等所具备的平板显示器用玻璃基板、磁盘用基板、光盘用基板、太阳能电池板等的各种基板等(下面，简称为“基板”)照射光，来在基板上描画图案的技术。
技术介绍
近年来，如下的曝光装置(所谓的描画装置)受到关注:当在涂敷在基板上的感光材料上曝光电路等的图案时，不用掩膜等，而是利用调制的光(描画光)对基板上的感光材料进行扫描，由此直接在该感光材料上曝光图案，其中，上述调制的光是基于记录了图案的数据而调制的。描画装置从例如具有用于以像素为单位对光束进行打开/关闭(0N/0FF)调制的空间光调制器(例如，根据控制信号，以像素为单位在打开(ON)状态和关闭(OFF)状态之间进行切换的反射型的空间调制器，其中，打开(ON)状态是指，将从光源供给的光束反射到基板上的状态，关闭(OFF)状态是指，使光束向与打开(ON)状态不同的方向反射的状态)的光学头，对与光学头相对地移动的基板照射描画光，来在基板曝光(描画)图案(例如，参照专利文献I)。在描画装置中，光学头例如一边照射剖面呈带状的描画光，一边相对于基板沿着与描画光的长度方向垂直的轴(主扫描轴)移动(主扫描)。通过进行该主扫描，来对基板上的沿着主扫描轴的一条带状区域进行图案的曝光。当伴随描画光的照射的主扫描结束时，接着，光学头在相对于基板沿着与主扫描轴垂直的副扫描轴移动之后，再次进行伴随描画光的照射的主扫描。由此，对与通过之前的主扫描曝光了图案的带状区域相邻的带状区域进行图案的曝光。像这样，通过间隔副扫描，反复地进行伴随描画光的照射的主扫描，来在基板的整个区域曝光图案。 在通过上述的方式在基板上曝光图案的情况下，存在在带状区域之间的边界部分容易产生曝光不均匀的问题。边界部分的曝光不均匀还会导致边界部分的图案的不连续性(例如，图案的间断、太粗、太细)等。这种图案的不连续性可能会对成品的电气特性(通电特性)造成不良的影响。因此，在例如专利文献2中，将副扫描的移动距离设定为比从光学头射出的带状的光的长度短，使带状区域的边界部分处于重合的状态。根据这种结构，光学头的不均等特性带来的影响互相叠加而变得均衡，所以能够缓解带状区域之间的边界部分的曝光不均匀。专利文献1:日本特开2009-237917号公报专利文献2:日本特开2008-129 248号公报若应用专利文献2等，则在某种程度上能够缓解带状区域之间的边界部分的曝光不均匀。然而，带状区域之间的边界部分的曝光不均匀的出现方式根据处理条件不同而有很大的变化。S卩，由于边界部分为在不同时间点被照射光的区域彼此接近的(或重合)区域，所以，例如，若改变感光材料的种类、光学的漫射特性等，则边界部分的曝光不均匀的出现方式也会发生变化。另外，例如，若相对于光学头的基板的相对移动速度变化，则对边界部分照射光的时间差发生变化，因此，该曝光不均匀的出现方式也发生变化。因此，即使在某种处理条件下，在进行适当的调整之后没有产生边界部分的曝光不均匀，但当处理条件稍有变化时，产生边界部分的曝光不均匀的可能性很大。因此，若改变处理条件，则需要立即重新进行调整，但在以往，不易于进行该调整。因此，不能够灵活地应对处理条件的变更，难以充分确保曝光的均匀性。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题而提出的，其目的在于，提供一种能够简单地进行用于缓解边界部分的曝光不均匀的调整的技术。第一方案是一种描画装置，其通过对形成有感光材料的基板照射光，来在所述基板上描画图案，其具有:光学单元，其一边射出剖面呈带状的描画光，一边相对于所述基板沿着与所述描画光的长度方向垂直的方向移动；调整部，其调整沿着所述描画光的长度方向的光量分布，所述光学单元具有:光源部，其射出剖面呈带状的光；空间光调制部，其具有排列成一列的多个调制单位，所述空间光调制部使从所述光源部射出的光入射到多个所述调制单位，并且使多个所述调制单位对入射的所述光进行调制，以形成所述描画光，其中，从所述光源部射出的光的长度方向与多个所述调制单位的排列方向一致，所述调整部具有:接受部，其接受从多个形状类型候补中选择射出率函数的形状类型的选择操作，其中，所述射出率函数是规定所述调制单位在排列方向上的位置与射出率之间的关系的函数，所述射出率是射出光量与入射到所述调制单位的入射光量的比；射出率调整部，其根据所述接受部接受的形状类型，对多个所述调制单位中的各个调制单位的所述射出率进行调難iF.0第二方案是第一方案中涉及的描画装置，多个所述形状类型候补包括阶梯型，所述阶梯型包括所述射出率恒定的中央部分和与所述中央部分相连且所述射出率呈阶梯状地变化的变化部分。第三方案是第二方案中涉及的描画装置，在选择了所述阶梯型的情况下，所述接受部接受对所述变化部分的宽度进行的指定。第四方案是第二或者第三方案中涉及的描画装置，在选择了所述阶梯型的情况下，所述接受部接受对所述变化部分的所述射出率进行的指定。第五方案是第一?第四中任一个方案中涉及的描画装置，多个所述形状类型候补包括梯形型，所述梯形型包括所述射出率恒定的中央部分和与所述中央部分相连且所述射出率呈倾斜状地变化的变化部分。第六方案是第五方案中涉及的描画装置，在选择了所述梯形型的情况下，所述接受部接受对所述变化部分内的一个以上的代表位置的各自的所述射出率进行的指定。第七方案是在第一?第六中任一个方案中涉及的描画装置，所述接受部在显示装置上显示接受画面，并且通过所述接受画面来接受所述选择操作，其中，在所述接受画面上一览显示了多个所述形状类型候补。第八方案是在第一?第七中任一个方案中涉及的描画装置，所述调整部还具有登记部，所述登记部与在所述基板上描画图案的处理的处理条件相对应地登记所述接受部所接受的信息。第九方案是一种描画方法，通过对形成有感光材料的基板照射光，来在所述基板上描画图案，其包括:(a)工序，一边从光学单元射出剖面呈带状的描画光，一边使所述光学单元相对于所述基板沿着与所述描画光的长度方向垂直的方向移动；(b)工序，调整沿着所述描画光的长度方向的光量分布；所述(a)工序包括:(al)工序，从光源部射出剖面呈带状的光；(a2)工序，使从所述光源部射出的光入射到多个所述调制单位，并且使多个所述调制单位对入射的所述光进行调制，以形成所述描画光，其中，从所述光源部射出的光的长度方向与排列成一列的多个调制单位的排列方向一致；所述(b)工序包括:(bl)工序，接受从多个形状类型候补中选择所述射出率函数的形状类型的选择操作，其中，所述射出率函数是规定所述调制单位在排列方向上的位置与射出率之本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种描画装置，其通过对形成有感光材料的基板照射光，来在所述基板上描画图案，其特征在于，具有：光学单元，其一边射出剖面呈带状的描画光，一边相对于所述基板沿着与所述描画光的长度方向垂直的方向移动，调整部，其调整沿着所述描画光的长度方向的光量分布；所述光学单元具有：光源部，其射出剖面呈带状的光，空间光调制部，其具有排列成一列的多个调制单位，所述空间光调制部使从所述光源部射出的光入射到多个所述调制单位，并且使多个所述调制单位对入射的所述光进行调制，以形成所述描画光，其中，从所述光源部射出的光的长度方向与多个所述调制单位的排列方向一致；所述调整部具有：接受部，其接受从多个形状类型候补中选择射出率函数的形状类型的选择操作，其中，所述射出率函数是规定所述调制单位在排列方向上的位置与射出率之间的关系的函数，所述射出率是射出光量与入射到所述调制单位的入射光量的比，射出率调整部，其根据所述接受部接受的形状类型，对多个所述调制单位中的各个调制单位的所述射出率进行调整。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：本庄由宜，上里诚，
申请(专利权)人：大日本网屏制造株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP