一种定位缺陷亚像素位置的方法技术

本发明专利技术提供一种定位缺陷亚像素位置的方法及定位缺陷亚像素位置的装置，属于显示装置制造技术领域，其可解决现有的缺陷亚像素位置不能准确定位的问题。本发明专利技术的定位缺陷亚像素位置的方法，其中，基板包括复数个亚像素，复数个亚像素划分为多个像素周期，每个像素周期包括至少两个亚像素，包括：对各像素周期进行对比，确定缺陷亚像素所在的像素周期的位置；对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比，确定缺陷亚像素的位置。定位缺陷亚像素位置的装置包括比较单元，用于对像素周期进行比较，确定缺陷亚像素所在的像素周期的位置，并对含有缺陷亚像素所在的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比，确定缺陷亚像素的位置。

【技术实现步骤摘要】
一种定位缺陷亚像素位置的方法
本专利技术属于显示装置制造
，具体涉及一种定位缺陷亚像素位置的方法。
技术介绍
在薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，简称TFT-LCD)生产过程中，对于彩膜基板而言，在玻璃基板上做完BM（BlackMatrix，黑矩阵）之后，会利用图形修正机对玻璃基板上的有缺陷（如光刻胶残留或者存在其他异物）的亚像素进行修复。通过使用不同波长（532nm和266nm等）、不同能量的激光，可以对不同尺寸的缺陷进行激光切割，高能量的激光会使残留的光刻胶和其他异物瞬间挥发，从而弥补了因洗净不良所残留的颗粒引起的产品良率下降，从整体上可以提高产品的良率，减少了因原材返工所导致的损失。现有技术中图形修正机确定缺陷像素的位置是通过下述方法进行的。当全部亚像素形状均相同时，根据AOI（全数检查机）提供的坐标信息，通过将每个亚像素与其他的亚像素进行图像对比，确定缺陷点所在的亚像素（认为与其他亚像素图像均不同的亚像素有缺陷）。但对于全部亚像素分为两种及以上形状（比较常见的情况是6种）的情况，只能以多个形状不同的亚像素为一个像素周期（即彩膜基板包括多个相同的像素周期），并通过比较各像素周期的图像确定缺陷亚像素的位置。专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：当亚像素形状为两种或以上时，只能按照一个像素周期对缺陷亚像素进行定位寻找，即只能确定哪个像素周期中有缺陷，而不能确定缺陷具体在哪个亚像素中。因此进一步地，像素周期里面所有的亚像素（包括没有缺陷的亚像素）都必须按照完全相同的方式进行修复，对激光修复缺陷的时间会有较大的影响。尤其是当构成像素周期的亚像素较多时（比如3个以上），会严重影响到修复的效率，不利于产品良率的改善，并且会造成激光能量的浪费，增加了激光光源的使用成本。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题包括，针对现有的图形修正机对亚像素的形状较多的基板进行缺陷修复时，由于不能准确定位缺陷亚像素的位置而导致修复效率较低的问题，提供一种定位缺陷亚像素位置的方法和一种定位缺陷亚像素位置的装置，其能够对缺陷亚像素的位置进行准确定位，从而提高图形修正机修复缺陷的效率。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种定位缺陷亚像素位置的方法，其中，基板包括复数个亚像素，复数个亚像素划分为多个像素周期，每个像素周期包括至少两个亚像素，所述定位缺陷亚像素位置的方法包括如下步骤：对各像素周期进行对比，确定缺陷亚像素所在的像素周期的位置；对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比，确定缺陷亚像素的位置。本专利技术的定位缺陷亚像素位置的方法，通过对像素周期进行对比，从而确定缺陷亚像素所在的像素周期的位置，然后再对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比，进而确定缺陷亚像素的位置。因此，本专利技术能够对缺陷亚像素的位置进行准确定位，缩短了定位缺陷亚像素位置的时间，提高了产品生产效率。优选的是，所述每个像素周期中的各亚像素的形状均相同。进一步优选的是，所述对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比包括：对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与该像素周期内的其他亚像素进行对比。优选的是，所述每个像素周期中的各亚像素的形状均不相同。进一步优选的是，所述对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比包括：对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他像素周期内的相对位置的亚像素进行对比。进一步优选的是，所述亚像素的形状包括亚像素的大小和/或亚像素的线幅。优选的是，所述对各像素周期进行对比是根据像素周期的图像信息进行对比。优选的是，所述对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比是根据亚像素的图像信息进行对比。进一步优选的是，所述图像信息是灰度值。优选的是，所述玻璃基板为彩膜基板或阵列基板。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种定位缺陷亚像素位置的装置，包括：比较单元，用于对像素周期进行比较，确定缺陷亚像素所在的像素周期的位置，并对含有缺陷亚像素所在的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比，确定缺陷亚像素的位置。本专利技术的定位缺陷亚像素位置的装置包括比较单元，其能够对缺陷亚像素的位置进行准确定位，因此，节省了定位缺陷亚像素位置的时间，提高了生产效率。附图说明图1为本专利技术的实施例1的基板（包括亚像素）的结构示意图；图2为本专利技术的实施例1的像素周期的结构示意图。其中附图标记为：1、像素周期；2、基板；4、缺陷点；5、5′、第一亚像素；6、6′、第二亚像素；7、7′、第三亚像素；601、第一像素周期；602、第二像素周期；603、第三像素周期。具体实施方式为使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细描述。实施例1：本实施例提供一种定位缺陷亚像素位置的方法，这里的缺陷是指制作工艺中残留在亚像素里的杂质，比如光刻胶等。如图1和图2所示，其中，基板2包括复数个亚像素，其中，每个亚像素是指在进行显示时，可独立发出一定颜色的光的最小单元，通常多个不同颜色的亚像素组成一个外界可见的“像素点”。而基板2优选为彩膜基板或阵列基板，相应的，基板2上设有彩膜、公共电极、栅极线、数据线、薄膜晶体管、像素电极等结构，在此不再详细描述。复数个亚像素划分为多个像素周期1，每个像素周期1包括至少两个亚像素。也就是说，基板2上包括多个相同的像素周期，而每个像素周期1中包括两个或更多个亚像素。具体的，定位缺陷亚像素位置的方法包括如下步骤：对各像素周期1进行对比，确定缺陷亚像素所在的像素周期1的位置；对含有缺陷亚像素的像素周期1内的各亚像素与其他亚像素进行对比，确定缺陷亚像素的位置。根据像素周期1内的亚像素的形状是否相同，对缺陷亚像素的位置进行定位包括两种情况。优选的，亚像素的形状包括亚像素的大小和/或亚像素的线幅。第一种情况，优选的，像素周期1内的各亚像素的形状相同。进一步优选的，对含有缺陷亚像素的像素周期1内的各亚像素与其他亚像素进行对比包括：对含有缺陷亚像素的像素周期1内的各亚像素与该像素周期1内的其他亚像素进行对比。如果一个亚像素的图像与其他的亚像素的图像不同，则可判定该亚像素存在缺陷，从而确定缺陷的具体位置。针对全部亚像素形状相同的情况，上述定位缺陷亚像素位置的方法减少了定位缺陷亚像素的时间，提高了生产效率。第二种情况，优选的，像素周期1内的各亚像素的形状不同。进一步优选的，对含有缺陷亚像素的像素周期1内的各亚像素与其他亚像素进行对比包括：对含有缺陷亚像素的像素周期1内的各亚像素与其他像素周期1内的相对位置的亚像素进行对比。具体地，如图2所示，其中，假定第二像素周期602中含有缺陷点4，下面对如何定位缺陷亚像素的位置进行描述。先对像素周期601、602以及603进行对比，确定缺陷亚像素所在的像素周期的位置，即确定缺陷点4在第二像素周期602中，再把第二像素周期602内的第一亚像素5与第一像素周期601的位置相对的第一亚像素5′进行对比，确定缺陷点4所在的具体的亚像素的位置，即判定缺陷点4在第一亚像素5中。同理，把第二像素周期602内的第二亚像素6、第三亚像素7分别与第一像素周期601的位本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种定位缺陷亚像素位置的方法，其中，基板包括复数个亚像素，复数个亚像素划分为多个像素周期，每个像素周期包括至少两个亚像素，其特征在于，所述定位缺陷亚像素位置的方法包括如下步骤：对各像素周期进行对比，确定缺陷亚像素所在的像素周期的位置；对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比，确定缺陷亚像素的位置。

【技术特征摘要】
1.一种定位缺陷亚像素位置的方法，其中，基板包括复数个亚像素，复数个亚像素划分为多个像素周期，每个像素周期包括至少两个亚像素，其特征在于，所述定位缺陷亚像素位置的方法包括如下步骤：对各像素周期进行对比，确定缺陷亚像素所在的像素周期的位置，所述对各像素周期进行对比是根据像素周期的图像信息进行对比；对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比，确定缺陷亚像素的位置，所述对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比是根据亚像素的图像信息进行对比。2.根据权利要求1所述的定位缺陷亚像素位置的方法，其特征在于，所述每个像素周期中的各亚像素的形状均相同。3.根据权利要求2所述的定位缺陷亚像素位置的方法，其特征在于，所述对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比包括：对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与该像素周期内的其他亚像素进行对比。4.根据权利要求1所述的定位缺陷亚像素位置的方法，其特征在于，所述每...

【专利技术属性】
技术研发人员：张力舟，尹镇镐，孟祥明，张磊，张畅，郭建强，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司， 京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34