【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置，包括有镀膜设备中用来清洗的真空室，其特征在于：该真空室为凹型容腔，真空室上部的开口对应待清洗的镀膜基板；真空室的底部安装有用来抽真空的真空机构，在真空室内固定设有绝缘支撑件，在绝缘支撑件上设有用来提供清洁气体的布气孔，在绝缘支撑件上还分别间隔设有两个电极，两个电极分别通过各自的电源线与外部的高压中频电源电连接；工作时，在接通高压中频电源的两个电极作用下使清洁气体形成等离子体，所述镀膜基板位于该等离子体范围之内。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：金烈，
申请(专利权)人：深圳市金凯新瑞光电有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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