一种清洗装置和清洗方法制造方法及图纸

技术编号:9848702 阅读:160 留言:0更新日期:2014-04-02 16:09
本发明专利技术涉及清洁工具技术领域,特别涉及一种清洗装置及清洗方法,用于在不损伤物体表面的情况下,利用该清洗装置和清洗方法可以有效地去除物体表面异物。本发明专利技术公开的清洗装置包括:使清洗液产生自由基的自由基产生器;与自由基产生器连通、接收从自由基产生器输出的含有自由基的清洗液的暂存箱,暂存箱具有将含有自由基的清洗液喷射到待清洗物体表面的至少一个喷头;相对设置且形成覆盖待清洗物体表面的电场的阳极和阴极,含有自由基的清洗液喷射到待清洗物体表面后,清洗液中的自由基在阳极和阴极形成的电场作用下运动并与待清洗物体表面的异物发生化学反应,使待清洗物体表面的异物脱离待清洗物体表面。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及清洁工具
,特别涉及。
技术介绍
目前,在显示面板如液晶显示面板的制造过程中,通常在将基板组装前对基板表面进行清洁处理,以去除基板表面附着的微粒等异物,从而提高显示面板的良品率。所采用的清洁工具为超声波清洗装置,具体清洗过程为:首先将待清洗基板放入装有清洗液的清洗槽中,超声波发生器对清洗液施加超声波,利用超声波的振动使得清洗液中产生大量的气泡或空穴,当这些气泡或空穴破裂时,会冲击基板表面附着的微粒等异物,从而将微粒等异物从基板表面剥离,进而达到去除基板表面异物的目的。不过,本申请专利技术人发现,在利用超声波制造对基板进行清洗后,基板表面还存在一些顽固微粒,特别是具有取向膜层的基板,这些顽固微粒的存在将会影响显示面板的良品率,如果通过减小超声波的频率来加大超声波的振幅来去除这些顽固微粒,可能会损伤基板表面或取向膜层表面。因此,如何提供一种可以有效地去除待清洗物体表面的异物、同时又不损伤待清洗物体表面的清洗装置成为当前急需解决的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供,在不损伤待清洗物体表面的情况下,利用该清洗装置和清洗方法可以有效地去除待清洗物体表面的异物。为了实现上述目的,本专利技术提供以下技术方案:一种清洗装置,包括:使清洗液产生自由基的自由基产生器;与所述自由基产生器连通、接收从所述自由基产生器输出的含有自由基的清洗液的暂存箱,所述暂存箱具有将含有自由基的清洗液喷射到待清洗物体表面的至少一个喷头;相对设置且形成覆盖所述待清洗物体表面的电场的阳极和阴极,含有自由基的清洗液喷射到所述待清洗物体的表面后,清洗液中的自由基在所述阳极和阴极形成的电场作用下运动并与所述待清洗物体表面的异物发生化学反应,使所述待清洗物体表面的异物脱离待清洗物体表面。优选地,所述阳极和所述阴极分别为平板状电极。优选地,所述阳极为圆筒状电极,所述阴极为圆柱状电极,或,所述阴极为圆筒状电极,所述阳极为圆柱状电极。进一步地,上述清洗装置还包括:用于回收从各个所述喷头喷出的清洗液的清洗槽,所述清洗槽中设置有用于支撑待清洗物体的支撑件。优选地,所述清洗槽为矩形槽,所述阳极和所述阴极分别为平板状电极;所述阳极和所述阴极分别设置于所述矩形槽的相对的两个侧壁上。进一步地,上述清洗装置还包括:位于所述暂存箱旁、用于增加所述暂存箱内的自由基的活性的超声波发生器,以及与所述超声波发生器信号连接、以控制所述超声波发生器的频率的控制器。优选地,所述清洗槽位于所述暂存箱的下方,放置于所述支撑件上的待清洗物体与各个所述喷头相对;所述超声波发生器位于所述暂存箱的上方,所述超声波发生器增加所述暂存箱内自由基活性的同时,也使所述清洗槽中的清洗液产生振动以冲击待清洗物体表面的异物。进一步地,上述清洗装置还包括:与所述自由基发生器连通的气液混合泵,通过输液管路与所述气液混合泵连通的液体加压罐,通过输气管路与所述气液混合泵连通的气体加压罐,以及设置于所述输液管路上的液体控制阀,设置于所述输气管路上的气体控制阀;清洗液所需的液体和气体分别进入所述液体加压罐中和所述气体加压罐中加压,并通过对应的所述输液管路和所述输气管路输出至所述气液混合泵中混合形成所需的清洗液。优选地,所述液体控制阀和所述气体控制阀分别与所述控制器信号连接,所述控制器通过控制所述液体控制阀的开度和所述气体控制阀的开度来控制所述清洗液中的气液比率。本专利技术同时还提供了一种利用上述技术方案所提的清洗装置去除待清洗物体表面的异物的清洗方法,包括:将待清洗物体放置于所述阳极和所述阴极形成的电场内,并与所述至少一个喷头相对;清洗液经过所述自由基产生器后输出给所述暂存箱含有自由基的清洗液,含有自由基的清洗液从各个所述喷头喷淋到待清洗物体表面;清洗液中的自由基在所述阳极和阴极形成的电场作用下运动并与所述待清洗物体表面的异物发生化学反应,使所述待清洗物体表面的异物脱离待清洗物体表面。当采用本专利技术提供的清洗装置对待清洗物体进行表面异物清洗时,首先将待清洗物体放置于阳极和阴极形成的电场内,并与各个喷头相对,以保证清洗液可以喷淋到待清洗物体的需要清洁的面上;接下来供应清洗液,清洗液首先进入自由基产生器中,在自由基产生器中的交变高频电磁场作用下,清洗液中产生大量的自由基,然后,含有自由基的清洗液通过各个喷头喷淋到待清洗物体的表面并形成清洗液膜层,因清洗液中含有大量的自由基,因此,大量的自由基在阳极和阴极形成的电场作用下,正性自由基朝向阴极运动,负性自由基朝向阳极运动,当自由基与待清洗物体表面的异物相遇时,会发生化学反应,生成溶于清洗液的物质,从而去除了待清洗物体表面的异物。从上述技术方案可知,与现有技术采用超声波清洗装置对待清洗物体进行清洗相t匕,本专利技术提供的清洗装置可以在不损伤待清洗物体表面的情况下,有效地去除待清洗物体表面的异物。【附图说明】图1为本专利技术实施例提供的一种清洗装置的结构示意图;图2为图1中A向视图;图3为本专利技术实施例提供的另一种清洗装置的结构示意图。附图标记:1-待清洗物体,10-自由基产生器,20-暂存箱,21-喷头,30-阳极,31-阴极,40-清洗槽,41-支撑件,50-超声波发生器,60-控制器,70-气液混合泵,80-液体加压罐,81-输液管路,82-液体控制阀90-气体加压泵,91-输气管路,92-气体控制阀。【具体实施方式】现有使用超声波清洗装置来清除物体表面的异物,但存在清除不彻底,加大超声波能量又会损伤物体表面,有鉴于此,本专利技术提供了一种在不损伤物体表面的情况下、有效地去除物体表面异物的清洗装置,包括自由基产生器,与自由基产生器连通的暂存箱,以及相对设置形成覆盖待清洗物体表面的电场的阳极和阴极,含有自由基的清洗液喷射到所述待清洗物体表面后,清洗液中的自由基在所述阳极和阴极形成的电场作用下运动并与所述待清洗物体表面的异物发生化学反应,使所述待清洗物体表面的异物脱离待清洗物体表面。为了使本领域技术人员更好的理解本专利技术的技术方案,下面结合说明书附图对本专利技术实施例进行详细的描述。请参阅图1和图2,其中,图1为本专利技术实施例提供的一种清洗装置的结构示意图;图2为图1中A向视图。本专利技术实施例提供的清洗装置包括:使清洗液产生自由基的自由基产生器10 ;与自由基产生器10连通、接收从自由基产生器10输出的含有自由基的清洗液的暂存箱20,暂存箱20具有将含有自由基的清洗液喷射到待清洗物体I表面的至少一个喷头21 ;相对设置且形成覆盖待清洗物体I表面的电场的阳极30和阴极31,含有自由基的清洗液喷射到待清洗物体I的表面后,清洗液中的自由基在阳极30和阴极31的电场作用下运动并与待清洗物体I表面的异物发生化学反应,使待清洗物体I表面的异物脱离待清洗物体I表面。具体实施时,上述暂存箱20用于暂时存储含有自由基的清洗液,以及将含有自由基的清洗液喷射到待清洗物体I的表面;暂存箱20包括:箱体,以及与箱体连通用于将含有自由基的清洗液喷射到待清洗物体I表面的至少一个喷头21,为了到达喷淋效果,通常在各个喷头21分别与箱体连通的各个管道上,分别设置一个加压泵,以便于将含有自由基的清洗液喷淋的喷淋到待清洗物体I表面;或者,上述箱体采用密封箱体,含有自由基的清洗液进入密封箱体后,会增加密封箱体内压本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于去除待清洗物体表面的异物的清洗装置,其特征在于,包括:使清洗液产生自由基的自由基产生器;与所述自由基产生器连通、接收从所述自由基产生器输出的含有自由基的清洗液的暂存箱,所述暂存箱具有将含有自由基的清洗液喷射到待清洗物体表面的至少一个喷头;相对设置且形成覆盖所述待清洗物体表面的电场的阳极和阴极,含有自由基的清洗液喷射到所述待清洗物体的表面后,清洗液中的自由基在所述阳极和阴极形成的电场作用下运动并与所述待清洗物体表面的异物发生化学反应,使所述待清洗物体表面的异物脱离待清洗物体表面。

【技术特征摘要】
1.一种用于去除待清洗物体表面的异物的清洗装置,其特征在于,包括: 使清洗液产生自由基的自由基产生器; 与所述自由基产生器连通、接收从所述自由基产生器输出的含有自由基的清洗液的暂存箱,所述暂存箱具有将含有自由基的清洗液喷射到待清洗物体表面的至少一个喷头;相对设置且形成覆盖所述待清洗物体表面的电场的阳极和阴极,含有自由基的清洗液喷射到所述待清洗物体的表面后,清洗液中的自由基在所述阳极和阴极形成的电场作用下运动并与所述待清洗物体表面的异物发生化学反应,使所述待清洗物体表面的异物脱离待清洗物体表面。2.如权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述阳极和所述阴极分别为平板状电极。3.如权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述阳极为圆筒状电极,所述阴极为圆柱状电极,或,所述阴极为圆筒状电极,所述阳极为圆柱状电极。4.如权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,还包括:用于回收从各个所述喷头喷出的清洗液的清洗槽,所述清洗槽中设置有用于支撑待清洗物体的支撑件。5.如权利要求4所述的清洗装置,其特征在于,所述清洗槽为矩形槽,所述阳极和所述阴极分别为平板状电极;所述阳极和所述阴极分别设置于所述矩形槽的相对的两个侧壁上。6.如权利要求4或5所述的清洗装置,其特征在于,还包括:位于所述暂存箱旁、用于增加所述暂存箱内的自由基的活性的超声波发生器,以及与所述超声波发生器信号连接、以控制所述超声波发生器的频率的控制器。7.如权利要求6所述的清洗装置,其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员:井杨坤
申请(专利权)人:合肥京东方光电科技有限公司 京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:安徽;34

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