根据本发明专利技术的一方面，提供有机发光显示装置，包括：基板；第一钝化层，形成在所述基板上；至少一个彩色滤光片，形成在所述第一钝化层上；覆盖层，用于覆盖所述彩色滤光片；第二钝化层，形成在所述第一钝化层上以围绕所述覆盖层；第一电极，形成在所述第二钝化层上；第二电极，与所述第一电极相对；以及有机层，设置在所述第一电极和第二电极之间。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】根据本专利技术的一方面，提供有机发光显示装置，包括：基板；第一钝化层，形成在所述基板上；至少一个彩色滤光片，形成在所述第一钝化层上；覆盖层，用于覆盖所述彩色滤光片；第二钝化层，形成在所述第一钝化层上以围绕所述覆盖层；第一电极，形成在所述第二钝化层上；第二电极，与所述第一电极相对；以及有机层，设置在所述第一电极和第二电极之间。【专利说明】
本专利技术涉及，具体涉及具有每个子像素(sub-pixel)被单独密封的结构的。
技术介绍
通常,有机发光器件(Organic Light Emitting Device,简称为0LED)具有在阳电极(阳极)与阴电极(阴极)之间插入有功能性薄膜形态的有机发光层的结构，其是从阳极注入空穴、从阴极注入电子，从而电子与空穴在有机发光层内复合从而发射光的器件。根据驱动方式，有机电致发光器件分为被动驱动方式的无源矩阵(PassiveMatrix,简称为PM)型和主动驱动方式的有源矩阵(ActiveMatrix,简称为AM)型。在无源矩阵型OLED (PM-OLED)中，阳极和阴极只是分别单纯地排列成列(column)和行(row),从行驱动电路给阴极供应扫描信号，此时在多个行中只有一个行被选中。并且，列驱动电路给每个像素输入数据信号。另外，有源矩阵型OLED (AM-OLED)利用薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，简称为TFT)对给每一个像素输入的信号进行控制，其适用于对数据量庞大的信号进行处理，从而经常用作用于显示动态视频的显示装置。目前，为了实现具有低功耗和高亮室对比度(Bright Room ContrastRatio)特性的AM-OLED，经常使用正面发光方式的RGB独立沉积法。在制造过程中，RGB独立沉积方式需要使用微细金属掩模板，并且按照每一个发光颜色进行图案化。然而，由于在排列金属掩模板时的精度原因或者因掩模板尺寸的增加而引发的下倾现象等，其很难适用于大型尺寸中。作为形成RGB独立发光层的方式之一的另一种方式、即喷墨方式，虽然其具有可以使用大型尺寸基板的优点，然而目前可溶性(Soluble)材料的特性比沉积用材料的特性差，从而首先要保证物质的特性。除此之外，还有利用激光将形成在供体膜的发光层独立转印的激光热转印法(LITI)，然而其对OLED器件的寿命产生影响。考虑工序性和合格率等因素时，在白色OLED (White OLED)中采用彩色滤光片的TOLED-CF方式受人瞩目。对于WOLED-CF方式而言，为了彩色图案化(color patterning)使用彩色滤光片(color filter),并且为了对其实施平坦化使用覆盖层。然而，与无机膜不同，在彩色滤光片和覆盖层的材料中产生脱气(outgas)，由此产生因有机发光层的劣化而引发的像素收缩(pixel shrinkage)现象。
技术实现思路
本专利技术为了解决如上所述的技术问题和其他技术问题，提供了 一种，通过采用每一个子像素被单独密封的结构来有效地阻断脱气(outgas),从而防止由有机发光层的劣化所引发的像素收缩(pixel shrinkage)现象，由此可以提闻广品的稳定性。根据本专利技术的一方面，提供有机发光显示装置，包括:基板；第一钝化层，形成在所述基板上；至少一个彩色滤光片，形成在所述第一钝化层上；覆盖层，用于覆盖所述彩色滤光片；第二钝化层，形成在所述第一钝化层上以围绕所述覆盖层；第一电极，形成在所述第二钝化层上；第二电极，与所述第一电极相对；以及有机层，设置在所述第一电极和第二电极之间。根据本专利技术的另一特征，所述彩色滤光片可以是红色滤光片、绿色滤光片以及蓝色滤光片之一。根据本专利技术的再一特征，还包括:偏光膜，设置在所述基板的一面。根据本专利技术的再一特征，还可以包括:黑矩阵，形成在所述第二钝化层上，以区分光透射区域和光阻断区域。根据本专利技术的再一特征，还可以包括:黑矩阵，形成在所述基板和所述第一钝化层之间，以区分光透射区域和光阻断区域。根据本专利技术的再一特征，还可以包括:像素限定膜，形成在所述第二钝化层上，以区分像素区域和非像素区域。根据本专利技术的再一特征，所述彩色滤光片的厚度可以在Im以上且5μπι以下。根据本专利技术的再一特征，所述覆盖层的厚度可以在Iym以上且10 μ m以下。根据本专利技术的再一特征，所述第一钝化层和所述第二钝化层可以包括:SiOx类的膜或者SiNx类的膜。根据本专利技术的再一特征，所述第二钝化层的厚度可以在50nm以上且IOOOnm以下。根据本专利技术的另一方面，提供有机发光显示装置的制造方法，包括:步骤a，提供基板；步骤b，在所述基板上形成第一钝化层；步骤C，在所述第一钝化层上形成至少一个的彩色滤光片；步骤d，形成用于覆盖所述彩色滤光片的覆盖层；步骤e，在所述第一钝化层上形成第二钝化层以围绕所述覆盖层；步骤f，在所述第二钝化层上形成第一电极；步骤g，在所述第一电极上形成有机层；以及步骤h，在所述有机层上形成第二电极。根据本专利技术的另一特征，在所述步骤b中，可以以SiOx类的膜或者51队类的膜形成所述第一钝化层；在所述步骤e中，可以以SiOx类的膜或者SiNx类的膜形成所述第二钝化层。根据本专利技术的再一特征，在所述步骤e中，所述第二钝化层的厚度可以在50nm以上且IOOOnm以下。根据本专利技术的再一特征，在所述步骤c中，所述彩色滤光片的厚度可以在Iym以上且5 μ m以下。根据本专利技术的再一特征，在所述步骤d中，所述覆盖层的厚度可以在I μπι以上且IOym以下。根据本专利技术的再一特征，在所述步骤f和所述步骤g之间可以包括:在所述第二钝化层上形成像素限定膜，以区分像素区域和非像素区域。根据本专利技术的再一特征，在所述步骤h后，还可以包括:在所述基板的一面设置偏光膜。根据本专利技术的再一特征，在所述步骤e和所述步骤f之间还可以包括:在所述第二钝化层上形成黑矩阵，以区分光透射区域和光阻断区域。根据本专利技术的再一特征，在所述步骤a和所述步骤b之间，还可以包括:在所述基板上形成黑矩阵，以区分光透射区域和光阻断区域。如上所述的根据本专利技术的有机发光显示装置，通过将每一个子像素单独密封，从而防止因脱气(Out-gassing)现象引发的有机发光层的劣化所引起的像素收缩(pixelshrinkage)现象，由此可以提高产品的稳定性。【专利附图】【附图说明】图1是表示根据本专利技术的一优选实施例的主动驱动型有机发光显示装置的一像素的像素电路的电路图。图2是简要图示在根据本专利技术一实施例的有机发光显示装置中用于形成图1的电路的、相邻的三个像素的截面图，即红色像素R、绿色像素G、蓝色像素B的截面图。图3是简要图示图2的驱动电路的截面图。图4是简要图示在现有的有机发光显示装置中相邻的三个像素的截面图，即红色像素R、绿色像素G、蓝色像素B的截面图。图5是简要图示在根据本专利技术另一实施例的有机发光显示装置中用于形成图1的电路的、相邻的三个像素的截面图，即红色像素R、绿色像素G、蓝色像素B的截面图。图6是简要图示在根据本专利技术另一实施例的有机发光显示装置中用于形成图1的电路的、相邻的三个像素的截面图，即红色像素R、绿色像素G、蓝色像素B的截面图。图7是简要图示在根据本专利技术另一实施例的有机发光显示装置中用于形成图1的电路本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种有机发光显示装置，包括：基板；第一钝化层，形成在所述基板上；至少一个彩色滤光片，形成在所述第一钝化层上；覆盖层，用于覆盖所述彩色滤光片；第二钝化层，形成在所述第一钝化层上以围绕所述覆盖层；第一电极，形成在所述第二钝化层上；第二电极，与所述第一电极相对；以及有机层，设置在所述第一电极和所述第二电极之间。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金头焕，洪日和，朴相河，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR
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