含有嘧啶并环的SYK抑制剂制造技术

本发明专利技术属于医药技术领域，具体涉及通式（Ⅰ）所示含有嘧啶并环的SYK抑制剂、其药学上可接受的盐、其立体异构体或其溶剂化合物，其中X、Y、R1、R2、R3、R4如说明书中所定义；本发明专利技术还涉及这些化合物的制备方法，含有这些化合物的药物制剂，以及这些化合物在制备治疗和/或预防由syk介导的信号通路有关的疾病的药物中的应用。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
通式（Ⅰ）所示的化合物、其药学上可接受的盐、其立体异构体或其溶剂化合物：其中，X选自6‑10元芳基、5‑6元杂芳单环基或9‑10元杂芳双环基；R1选自氢原子或5‑6元杂芳单环基，R1可任选被1‑3个取代基进一步取代，所述取代基独立地选自C1‑8烷基、C2‑8烯基、C2‑8炔基、氨基、羟基、C1‑8烷氧基、卤素原子、C1‑8烷基胺基、二(C1‑8烷基)胺基、C1‑8烷基羰基、氨基甲酰基、C1‑8烷基羰基氨基、C1‑8烷基胺基甲酰基、氨基C1‑8烷基、羟基C1‑8烷基、氰基、卤代C1‑8烷基、卤代C1‑8烷氧基或氨基磺酰基；R2选自氢原子或C1‑8烷基；R3、R4独立地选自氢原子、氰基、C1‑8烷基、羟基C1‑8烷基、氨基C1‑8烷基或C3‑8环烷基；Y选自C3‑8环烷基、C3‑8环烷基C1‑8烷基、4‑8元杂环烷基、4‑8元杂环烷基C1‑8烷基或Z为氧原子或硫原子，f为整数1、2或3，R5为氢原子、C1‑8烷基或C3‑8环烷基，R6和R7独立地选自氢原子、C1‑8烷基、羟基C1‑8烷基、卤代C1‑8烷基、氨基、C1‑8烷基胺基、C1‑8烷氧基C1‑8烷基或C3‑8环烷基，或Y与R2连接与氮原子一起形成4‑8元杂环烷基，Y或Y与R2连接与氮原子一起形成的基团可进一步被1‑3个取代基取代，所述取代基独立地选自氨基、羟基、氧代、C1‑8烷基、C1‑8烷基胺基、二(C1‑8烷基)胺基、氨基C1‑8烷基、羧基、C1‑8烷基胺基C1‑8烷基、C1‑8烷氧基C1‑8烷基、羟基C1‑8烷基、羧基C1‑8烷基、氨基甲酰基或C1‑8烷基羰基。FDA0000381278170000011.jpg,FDA0000381278170000012.jpg...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：罗浩贤，王爱臣，
申请(专利权)人：山东亨利医药科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：山东;37