瓷器制品的上釉工艺以及由此生产出来的制品制造技术

一种用于给瓷器制品上釉的工艺，包括形成具有底部（１２）的瓷器制品，该底部包括上釉底足（１４）和无釉底足（１６）。上釉底足（１４）从底部（１２）中向下延伸到无釉底足（１６）下方的某点处。在制品上涂上釉料，使得在上釉底足（１４）上涂有釉料，而无釉底足（１６）基本上没有釉料。制品被支撑在支撑装置（２０）上，使得无釉底足（１６）与装置（２０）接合，而上釉底足（１４）被暴露出来。对制品（１０）进行加热以将包括有釉料的制品烧好。在此工艺中可生产出上釉的瓷器制品（１０）。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
本专利技术大体上涉及一种用于给瓷器制品上釉的工艺。更具体地说，本专利技术涉及一种在一次烧制过程中给瓷器制品上釉并且所得瓷器制品具有上釉底足(foot)的工艺。本专利技术还涉及这样得到的瓷器制品。瓷器制品如瓷器盘子可制成为具有上釉底足或无釉底足(即无釉面的底足)。底足是盘子在其以正常位置搁置于桌上的表面。在使用频繁的环境如酒店和饭店中，已经发现在瓷器制品中采用上釉底足比采用无釉底足更加有利。例如，上釉底足允许制品在叠放在一起时能容易地在相邻制品的表面上滑动，不会擦伤或损坏其表面。具有无釉底足的瓷器在接触时会擦伤相邻的制品。另外，上釉底足因其釉面而不会渗水，并且不会粘附上金属印记或来自其它表面的印记。未上釉的底足还易于粘附上异物。这就会导致卫生问题，因为无釉底足可能会成为细菌繁殖的场所。当瓷器制品如瓷器盘子制作成具有上釉底足时，在釉烧之前必须先进行素烧。这在本行业中称为“二次烧制”工艺，其中在第一次烧制中先制出素瓷，然后对素瓷上釉，并再次烧制以使釉料烧好。当素瓷已上釉并准备烧制时，必须通过与盘子的外底边相接触的支脚(通常为3个)来支撑已上釉的盘子。这些支脚会留下必须被去除的印记。制造上釉瓷器的另一方法是“一次烧制”工艺。在该工艺中，将瓷器制品成形为具有底足的“生瓷”。在制品上涂上釉料，并在此期间从底足上除去多余的釉料。如果有釉料留在底足上，那么制品就会在烧制过程中粘附到支撑面上。在烧制后瓷器制品就具有未上釉的粗糙的“无釉”底足。可对无釉底足进行抛光以降低粗糙度。然而，与上釉底足相比，无釉底足仍然比较粗糙。与二次烧制工艺相比，一次烧制工艺在制造瓷器制品方面通常成本较低且用时较少。然而，由于上述原因，对于某些用途而言，由一次烧制工艺制成的具有无釉底足的制品是不合要求的。已经发现，需要一种能够在一次烧制工艺中给瓷器制品上釉并使最终制品具有上釉底足的工艺。本专利技术满足了这一需要。本专利技术提供了一种高效且经济的工艺。专利技术概要本专利技术是一种用于给瓷器制品上釉的工艺。该工艺包括形成具有底部的瓷器制品，该底部包括上釉底足和无釉底足，其中上釉底足从底部中向下延伸到无釉底足下方的某点处。在制品上涂上釉料，使得在上釉底足上涂有釉料，而无釉底足基本上没有釉料。制品被支撑在用于支撑瓷器制品的装置上，使得无釉底足与支撑装置相接合，而上釉底足被暴露出来。对制品进行加热或烧制，以将包括有釉料的制品烧好。本专利技术还涉及根据本专利技术的工艺来上釉的瓷器制品。本专利技术的首要目的是提供一种用于在一次烧制工艺中给瓷器制品上釉并使制品包括有上釉底足的工艺。本专利技术的一个重要目的是提供一种根据本专利技术的工艺来上釉的瓷器制品。在阅读了对优选实施例的下述详细介绍和附图之后，本领域的技术人员可以清楚本专利技术的其它目的和优点。附图简介附图说明图1是根据本专利技术的工艺生产出来的瓷器制品的第一实施例的底部的平面图2是沿着图1中的线2-2剖切的第一实施例的瓷器制品的侧剖视图，其位于同样以剖面示出的第一实施例的耐火支撑垫板上；图3是图2所示上釉底足的详细视图；图4是图2所示无釉底足的详细视图；图5是位于第二实施例的耐火支撑垫板上的第二实施例的瓷器制品的剖视图；图6是图5的局部放大视图；图7是位于第三实施例的耐火支撑垫板上的第三实施例的瓷器制品的剖视图；图8是第四实施例的瓷器制品和第四实施例的耐火支撑垫板的剖视图；图9是第五实施例的瓷器制品的底部及其相应的耐火支撑垫轨的平面图；图10是沿图9中的线10-10的剖视图；图11是第六实施例的瓷器制品的底部及其相应的耐火支撑垫轨的平面图；图12是图11所示耐火支撑垫轨的透视图；图13是沿图11中的线13-13的剖视图；图14是根据本专利技术第七实施例的瓷器制品的底部的平面图；图15是第七实施例的瓷器制品的沿图14中的线15-15的剖视图和第七实施例的耐火支撑垫板的剖视图；图16是图15的局部放大视图；图17是根据本专利技术第八实施例的瓷器制品的底部的平面图；图18是第八实施例的瓷器制品的沿图17中的线18-18的剖视图和第八实施例的耐火支撑垫板的剖视图；图19是图18的局部放大视图；图20是根据本专利技术第九实施例的瓷器制品的底部的平面图；图21是第九实施例的瓷器制品的沿图20中的线21-21的剖视图和第九实施例的耐火支撑垫板的剖视图；图22是图21的局部放大视图；和图23是显示了根据本专利技术的工艺步骤的流程图。优选实施例的详细描述下面将参考附图来详细地介绍本专利技术的优选实施例和最佳实施方式。本专利技术是一种用于给瓷器制品上釉的工艺。本专利技术还涉及一种根据该工艺来上釉的瓷器制品。本专利技术包括多个实施例。但是，各实施例均包括以下工艺步骤(a)形成具有包括了上釉底足和无釉底足在内的底部的瓷器制品，上釉底足从底部中向下延伸到无釉底足下方的某点处；(b)在制品上涂上釉料，其中在上釉底足上涂有釉料，而无釉底足基本上没有釉料；(c)将制品支撑在用于支撑瓷器制品的装置或器具上，使得无釉底足与支撑装置相接合，而上釉底足被暴露出来；和(d)加热制品以将包括有釉料的制品烧好。如下所述，瓷器制品可成形为多种形状。各瓷器制品的共同特征在于，制品的底部包括上釉底足和无釉底足，其中上釉底足从底部中向下延伸到无釉底足下方的某点处。用语“上釉底足”指在本专利技术的工艺期间被上釉的底足。用语“无釉底足”指的是没有或基本上没有釉料的底足。在成形后将釉料涂在瓷器制品上。这可通过将制品浸入到釉料池中或对制品喷涂釉料来完成。在涂上釉料之后，从无釉底足上除去多余的釉料，使得它没有或基本上没有釉料。将瓷器制品支撑在用于支撑制品的装置或器具上，使得无釉底足与支撑装置相接合，而上釉底足暴露出来。支撑装置可以是耐火支撑垫板或垫环，其适于支撑瓷器制品的无釉底足。对瓷器制品进行加热或烧制，以将包括釉料在内的整个制品烧好。在一个优选实施例中，这一步骤在一次烧制工艺中完成，其中瓷器制品在制造期间只被加热或烧制一次。本专利技术的工艺可生产出这样一种瓷器制品，其具有包括了上釉底足和无釉底足的底部，其中上釉底足从底部中向下延伸到无釉底足下方的某点处。这消除了与原有一次烧制工艺及制品相关的问题。本专利技术还提供了一种工艺以及所得到的瓷器制品，与原有的二次烧制工艺及制品相比其更加经济和有效率。参见图1-4，第一实施例的制品10包括底部12，其具有上釉底足14和无釉底足16。如图2和3所示，上釉底足14从底部12中向下延伸到无釉底足16下方的点P处。如图1所示，瓷器制品10形成有上釉底足14和无釉底足16，它们是具有中心C的连续同心环。无釉底足16设于由上釉底足14所限定的空间18内。参见图2-4，瓷器制品10被支撑在第一实施例的耐火垫板20上，该垫板20具有大小适于与无釉底足16接合同时允许上釉底足14暴露出来的开口22。垫板20具有与无釉底足16的形状相对应的形状。在一个优选实施例中，垫板20具有与图1所示无釉底足16的圆形相对应的圆形。然而应当理解，垫板20可具有多种形状，这取决于无釉底足的形状。在工艺的加热或烧制步骤期间，垫板20将瓷器制品10支撑在加热装置如窑炉中。在加热后从垫板20上取下瓷器制品10。如图3和4所示，所制成的瓷器制品10包括如上所述的上釉底足14和无釉底足16。在图中，釉料由标号24表示。参见图5和6，第二实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于给瓷器制品上釉的工艺，包括：（ａ）形成具有包括了上釉底足和无釉底足在内的底部的瓷器制品，所述上釉底足从所述底部中向下延伸到所述无釉底足下方的某点处；（ｂ）在所述制品上涂上釉料，其中在所述上釉底足上涂有所述釉料，而所述无釉底足基本上没有所述釉料；（ｃ）将所述制品支撑在用于支撑瓷器制品的装置上，使得所述无釉底足与所述支撑装置相接合，而所述上釉底足被暴露出来；和（ｄ）加热所述制品以将包括有所述釉料的所述制品烧好。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：WJ齐特库斯，JN伯努瓦，
申请(专利权)人：锡拉丘兹瓷器公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]