电致发光显示装置制造方法及图纸

技术编号:9836629 阅读:92 留言:0更新日期:2014-04-02 01:20
本发明专利技术是一种彩色滤光片方式的EL显示装置,其能够降低由于混色导致的画质劣化,其具有:具备下部电极、像素分离膜和EL层的第一基板;具备黑色矩阵和彩色滤光片的第二基板;和由所述第一基板和所述第二基板夹着的密封层,满足下式:W>2tan(θm)(HBM+H+HG+HS)-(WS+WBM),其中,W为特定像素的开口区域的宽度,WBM为黑色矩阵的宽度,WS为像素分离膜的宽度,HBM为黑色矩阵的厚度,H为特定像素中的彩色滤光片的厚度,HG为从像素分离膜的前表面至特定像素中的彩色滤光片的后表面的距离,HS为像素分离膜的高度(从下部电极的前表面至像素分离膜的前表面的距离),θm为第二基板与空气之间的临界角。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术是一种彩色滤光片方式的EL显示装置,其能够降低由于混色导致的画质劣化,其具有:具备下部电极、像素分离膜和EL层的第一基板;具备黑色矩阵和彩色滤光片的第二基板;和由所述第一基板和所述第二基板夹着的密封层,满足下式:W>2tan(θm)(HBM+H+HG+HS)-(WS+WBM),其中,W为特定像素的开口区域的宽度,WBM为黑色矩阵的宽度,WS为像素分离膜的宽度,HBM为黑色矩阵的厚度,H为特定像素中的彩色滤光片的厚度,HG为从像素分离膜的前表面至特定像素中的彩色滤光片的后表面的距离,HS为像素分离膜的高度(从下部电极的前表面至像素分离膜的前表面的距离),θm为第二基板与空气之间的临界角。【专利说明】电致发光显示装置
本专利技术涉及电致发光显示装置。
技术介绍
在日本专利文献JP4262902B中公开了一种顶部发光型的彩色滤光片方式的有机电致发光(以下记作“EL”)显示装置。在该文献中记载了:将有机EL显示装置的发光元件层在全部像素设为发白色光,在透明密封部件设置彩色滤光片层作为颜色单元。另外,在元件基板与透明密封部件的间隙(密封空间)配置有遮光部件,防止在像素间的漏光。
技术实现思路
当在EL显示装置中采用顶部发光型的结构时,特别是在各个像素为微细的高精细或小型的显示装置中,像素的尺寸与彩色滤光片的厚度的尺寸相对地接近,所以存在如下问题:在白色有机EL层中产生的发光,传播到绝缘基板与密封基板之间的空间或树脂层中,进入到相邻的像素而产生混色。专利文献I所示的结构虽然是解决该问题的结构,但需要用于形成遮光壁的工艺成本,此外在高精细或小型的显示装置中形成宽度窄的遮光壁较为困难,存在开口率降低的问题。本专利技术是鉴于所述观点而研发的,其目的在于在彩色滤光片方式的EL显示装置中,降低由于混色导致的画质的劣化。本申请所公开 的专利技术之中,对代表性的内容的概要进行简单的说明如下。(I)—种EL显不装置,其具有:第一基板,具备:在上述第一基板的前表面按每个像素形成的下部电极、将上述下部电极隔开的像素分离膜、和形成在上述下部电极和上述像素分离膜的上层的发白色光的EL层;第二基板,在上述第二基板的后表面具备黑色矩阵和彩色滤光片;和由上述第一基板和上述第二基板夹着的密封层,该EL显示装置的特征在于,满足下式:W > 2tan ( Θ m) (Hbm + H + Hg + Hs) — (Ws + ffBM)。其中,W为特定的像素的开口区域的宽度,Wbm为黑色矩阵的宽度,Ws为像素分离膜的宽度,Hbm为黑色矩阵的厚度,H为特定的像素中的彩色滤光片的厚度,He为从像素分离膜的前表面至特定的像素中的彩色滤光片的后表面的距离,Hs为像素分离膜的高度(从下部电极的前表面至像素分离膜的前表面的距离),θ m为第二基板与空气之间的临界角。(2)在(I)所述的EL显示装置中,其特征在于,还满足下式: Hg ≥ 3 。根据上述(1),在彩色滤光片方式的EL显示装置中,能够降低由于混色导致的画质劣化。根据上述(2),能够进一步降低制造时的不良的发生率。【专利附图】【附图说明】图1是表示本专利技术的实施方式的EL显示装置的像素部分的局部截面图。图2是表示图1的中央像素(绿色像素)的右半部分和右侧像素(蓝色像素)的局部放大截面图。图3是表示混色率M与L*u*v表色系的色度的变化量Au*v*的关系的图。图4是表示He与制造不良的发生率的关系的图。【具体实施方式】以下参照【专利附图】【附图说明】本专利技术的实施方式的EL显示装置。图1是表示本专利技术的实施方式的EL显示装置100的像素部分的局部截面图。在EL显示装置100中,在绝缘性的第一基板I上规则地配置多个像素,通过控制与各像素对应的位置的EL层6的发光量来形成图像。因此,在第一基板I上形成规则地(本实施方式的情况下,呈格子状地)配置有电路的电路层2,该电路包括用于控制流过各像素的电流的量的TFT (Thin Film Transistor:薄膜晶体管)等。另外,第一基板I在本实施方式中为玻璃基板,但只要是绝缘性的基板就对其材质不作特别限定,也可以是合成树脂等其他材质。另外,不论其为透明还是不透明。电路层2具备:相应的绝缘层;包括扫描信号线、视频信号线、电源线和接地线等的配线;和包括栅极电极、源极电极、漏极电极和半导体层的TFT。构成电路层的电路及其截面结构是公知的,所以在此省略详细说明,将它们简化并简单地作为电路层2表示。在电路层2上,每个像素独立地设置有反射层3。反射层3具有将来自设置于更上层的EL层6的发光反射的功能。反射层3可以由适当的金属膜形成,例如可以采用铝、铬、银或它们的合金。另外,在反射层3与下面说明的下部电极4利用任意的绝缘层等绝缘的情况下,反射层3并不一定需要按每个像素独立地设置,例如也可以以覆盖配置有EL显示装置100的像素的整个区域的方式设置。在反射层3的更上层按每个像素设置有下部电极4。下部电极4由像素分离膜5(也被称为隆起(bank))彼此隔开而绝缘。下部电极4为透明导电膜,优选使用ΙΤ0(铟锡氧化物)、InZnO (锌锡氧化物)等导电性金属氧化物,或在该导电性金属氧化物中混入银等金属而得到的材料。另外,像素分离膜5只要是绝缘性的材料就可以是任意材料,可以由聚酰亚胺、丙烯酸树脂等有机绝缘材料、氮化硅等形成。像素分离膜5沿着各像素的边界配置,将各像素彼此分离。在下部电极4和像素分离膜5的上层设置有EL层6。EL层6不是按每个像素独立,而是以覆盖配置有EL显示装置100的像素的整个区域的方式设置。另外,EL层6的发光色是白色。所述白色的发光,一般是通过将发出多种颜色、例如红色、绿色、蓝色各色的光或发出黄色和蓝色的光的EL材料层叠,作为合成色而得到的,但本实施方式中对于EL层6的具体结构并没有特别限定,对于是单层还是层叠的层结构没有任何限定,只要结果能够得到发白色光,就可以是任意的。另外,构成EL层的材料,可以是有机的也可以是无机的,本实施方式中使用有机材料。进一步,在EL层6的上部设置有上部电极7。上部电极7也不是按每个像素独立,而是以覆盖配置有EL显示装置100的像素的整个区域的方式设置。上部电极7也为透明导电膜,优选使用在ITO (铟锡氧化物)、InZnO (锌锡氧化物)等导电性金属氧化物中混入银、镁等金属而得到的材料、或将银、镁等金属薄膜与导电性金属氧化物层叠而得到的材料。进一步,在上部电极7的上层设置有密封层8,用于防止氧、水分进入以EL层6为代表的各层,从而保护各层。密封层8可以由氮化硅、环氧类树脂等适当的有机材料构成,也可以通过将多种不同种材料层叠来构成密封层8。密封层8选择透明的材料。隔着密封层8配置有以与第一基板I相对的方式设置的第二基板9,在第二基板9的后表面,即与第一基板I相对的面,在作为像素的边界的部分形成有黑色矩阵10,而且以覆盖其上的方式在与各像素对应的位置形成有与各像素的发光色对应的颜色的彩色滤光片11R、11G、11B。第二基板9为玻璃或合成树脂制,相对于可视光是透明的。另外,黑色矩阵10只要是相对于可视光为黑色即具有吸光性的材料,就可以是任意材料,例如可以使用在聚酰亚胺、丙烯酸类合成树脂中混入碳而得到的材料。另外,彩本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种EL显示装置,其具有:第一基板,其具备:在所述第一基板的前表面按每个像素形成的下部电极、将所述下部电极隔开的像素分离膜、和形成在所述下部电极和所述像素分离膜的上层的发白色光的EL层;第二基板,在所述第二基板的后表面具备黑色矩阵和彩色滤光片;和由所述第一基板和所述第二基板夹着的密封层,该EL显示装置的特征在于,满足下式:W>2tan(θm)(HBM+H+HG+HS)-(WS+WBM),其中,W为特定的像素的开口区域的宽度,WBM为黑色矩阵的宽度,WS为像素分离膜的宽度,HBM为黑色矩阵的厚度,H为特定的像素中的彩色滤光片的厚度,HG为从像素分离膜的前表面至特定的像素中的彩色滤光片的后表面的距离,HS为像素分离膜的高度,即从下部电极的前表面至像素分离膜的前表面的距离,θm为第二基板与空气之间的临界角。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:丰田裕训佐藤敏浩
申请(专利权)人:株式会社日本显示器
类型:发明
国别省市:日本;JP

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