真空镀膜图案生成装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种真空镀膜图案生成装置及方法，真空镀膜图案生成装置包括真空腔室、靶材、带有通孔的镂花板和基材；靶材、镂花板和基材设置在真空腔室内，镂花板设置在靶材与基材之间，靶材出射的镀覆材料透过镂花板上的通孔在基材上沉积成膜。本发明专利技术的真空镀膜图案生成装置及方法，利用镂花板镀膜显花原理形成图案，工艺过程简单，易于操作，并且是一次成型，可实现镀膜与图案同步生成，生产效率高，可满足工业化大批量生产的需求。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及一种，真空镀膜图案生成装置包括真空腔室、靶材、带有通孔的镂花板和基材；靶材、镂花板和基材设置在真空腔室内，镂花板设置在靶材与基材之间，靶材出射的镀覆材料透过镂花板上的通孔在基材上沉积成膜。本专利技术的，利用镂花板镀膜显花原理形成图案，工艺过程简单，易于操作，并且是一次成型，可实现镀膜与图案同步生成，生产效率高，可满足工业化大批量生产的需求。【专利说明】
本专利技术涉及真空镀膜领域，更具体的说，涉及一种。
技术介绍
真空镀膜是一种生成薄膜材料的技术，在真空室内镀膜材料的原子或分子从表面离析出来打到被镀物体的表面上。真空镀膜一般是指用物理的方法沉积薄膜，主要有蒸发镀膜、离子镀和溅射镀膜。其中溅射镀膜中的磁控溅射镀膜以其膜基结合牢度好、效率高、无污染等优点被广泛应用。磁控溅射是为了在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射效率的方法。其原理是:把基材和靶材安装于真空室内，在处于低压状态(10_3~10_5乇)气体的辉光放电中形成正、负离子及电子。正离子轰击作为阴极的靶材，使靶材原子被溅射出来，在基材上形成薄膜，从而实现基体材料的各种功能化。利用磁控溅射技术在基材表面形成一层金属、金属合金或其他镀覆材料的薄膜，使基材具有特定的功效并兼具薄膜的颜色和光效应。但是这种镀膜基材的表面装饰效果单调，缺少图案和色彩变化，难以满足人们对基材的功能性与美观性兼具的需求。因此，现在急需一种能快速得到各种图案花样的的镀膜装置和镀膜方法。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，针对现有的真空镀膜技术所获得的镀膜基材的表面装饰效果单调缺乏图案和色彩变化，难以满足人们对基材的功能性和美观性兼具的需求，提供一种，以克服上述缺陷。本专利技术提供一种真空镀膜图案生成装置，包括:真空腔室、靶材、带有通孔的镂花板和基材；靶材、镂花板和基材设`置在真空腔室内，镂花板设置在靶材与基材之间，靶材出射的镀覆材料透过镂花板上的通孔在基材上沉积成膜。本专利技术的真空镀膜图案生成装置，还包括镂花板传动装置和基材传动装置，用于带动镂花板和基材以相同速度传动。本专利技术的真空镀膜图案生成装置，还包括设置在基材下方的平面支持装置。当使用平面支持装置支撑基材时，镂花板与基材之间的间距为0至5厘米连续可调。本专利技术的真空镀膜图案生成装置，还包括设置在基材下方的弧面支持装置。使用弧面支持装置支撑基材时，镂花板紧贴基材。本专利技术还提供一种真空镀膜图案生成方法，包括以下步骤:S100)设置真空腔室沉积薄膜环境；S200)安装镂花板与基材，设置镂花板与基材的间隔；S300)启动靶材，向镂花板与基材溅射镀覆材料。本专利技术的真空镀膜图案生成方法，其中步骤S200还包括:S201)设置镂花板传动装置和基材传动装置，使镂花板和基材以相同速度传动。本专利技术的真空镀膜图案生成方法，步骤S200中，在镂花板下方使用平面支撑装置支撑镂花板时，镂花板与基材的间隔为0至5厘米；在镂花板下方使用弧面支撑装置支撑镂花板时，镂花板紧贴基材。实施本专利技术的，利用镂花板镀膜显花原理形成图案，工艺过程简单，易于操作，并且是一次成型，可实现镀膜与图案同步生成，生产效率高，可满足工业化大批量生产的需求。【专利附图】【附图说明】以下结合附图对本专利技术进行说明，其中:图1为本专利技术真空镀膜图案生成装置第一实施例的结构示意图；图2为本专利技术真空镀膜图案生成装置第二实施例的结构示意图；图3为本专利技术真空镀膜图案生成装置第三实施例的结构示意图图4a为本专利技术的一则镂花板的实施例；图4b为图4a镂花板对应生成的基材图样；图5为本专利技术真空镀膜图案生成方法的一则优选实施例。【具体实施方式】 以下结合附图和【具体实施方式】对本专利技术进行详细说明。如图1所示为本专利技术真空镀膜图案生成装置第一实施例的结构示意图，其中，真空镀膜图案生成装置包括真空腔室100，设置在真空腔室100内部的靶材500、带有通孔的镂花板300、基材200。镂花板300设置在靶材500与基材200之间。在本实施例中，靶材500通过磁控溅射镀膜的方法，将镀覆材料，例如金属、金属氧化物、合金材料等，溅射出来，透过镂花板300上的通孔在基材200上沉积，形成带有图案的镀膜基材。优选的，基材200与镂花板300之间的距离为0至5厘米，这个距离为连续可调，当两者的距离越接近产生的图案的边缘越清晰，当两者完全紧贴的时候，能获得与镂花板300完全对应的图案；考虑到当基材200与镂花板300之间的距离太远的时候，图案边缘的模糊效应，该距离一般不超过5厘米。优选的，在本实施例中，真空镀膜图案生成装置还包括基材前处理装置、抽真空装置、冷却装置等，用于使真空腔室100产生合适进行磁控溅射的环境。通过选择合适的靶源500与基材200，最终能获得呈现不同色彩的图案效果，增强了基材的装饰性。在本实施例中使用了真空磁控溅射技术，在其他类型的真空镀膜中，依据相应的镀膜原理也能进行与本实施例中相似的图案镀膜效果。如图2所示为本专利技术真空镀膜图案生成装置第二实施例的结构示意图，在本实施例中，真空镀膜图案生成装置除了真空腔室100，设置在真空腔室100内部的靶材500、带有通孔的镂花板300、基材200之外，还包括镂花板传动装置和基材传动装置，用于带动镂花板300和基材200以相同速度传动。其中，镂花板传动装置包括调节轮401、402、403、404，调节轮401和402可以上下调节，实现镂空板300与基材200相对距离的连续可调，调节轮403与404在调节轮401、402上下调节时作适应性的水平调节，以控制镂花板300的张进度，避免镂花板打滑影响传动速度。基材传动装置包括张紧轮405、406，用于调苄基材200的张力，特别是对纺织类的基材材料，其不同的织物组织要求的张力不同。通过调节张紧轮405、406的位置，基材200能够获得不同的张紧程度。镂花板传动装置和基材传动装置还包括电机，在电机带动下，镂花板300和基材200以相同速度传动，在靶材500的建设区域，镂花板300与基材200相对静止，以保证图案的成型质量。在本实施例中，还包括一个平面支持装置601，在溅射区安装于基材200的下方，以确保基材在平面上运行，避免了基材200因重力作用而产生形变，进而影响镀覆的效果。在本实施例中，靶材500包括多种镀覆材料，以满足多种材料的同时或分别溅射，实现镀膜的多样性，确保多层镀膜的生产效率。如图3所示为本专利技术真空镀膜图案生成装置第三实施例的结构示意图。在本实施例中将平面支撑装置替换成弧面支撑装置602。由于两端的重力作用，镂花板300和基材200在弧面支撑装置602上将会紧贴其弧面，配合排列成与弧面支撑装置602相配合的弧线型靶材500，将能在基材200上获得良好的平面镀覆效果。为了保证镂花板300能够以适当绷紧程度传动，防止打滑，在传动轮401与传动轮404之间，以及在传动轮402与传动轮403之间，加装张紧轮407、408，避免镂花板300在传动过程中发生打滑。在本实施例中，镂花板300和基材200相互紧贴。以下结合图4a和图4b具体说明镂空板300与基材200的镀覆效果。图4a给出一种镂空板300的实施例，在柔性的材本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空镀膜图案生成装置，包括真空腔室（100）、靶材（500）和基材（200），其特征在于，所述真空镀膜图案生成装置还包括带有通孔的镂花板（300），所述靶材（500）、镂花板（300）和基材（200）设置在所述真空腔室（100）内，所述镂花板（300）设置在靶材（500）与基材（200）之间，靶材（500）出射的镀覆材料透过镂花板（300）上的通孔在基材（200）上沉积成膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：姜绶祥，赵殿栋，张雷，丁峰，郭荣辉，简志伟，罗天颐，莫崧鹰，尚颂民，袁进华，杨妍丽，
申请(专利权)人：香港纺织及成衣研发中心有限公司，
类型：发明
国别省市：