本发明专利技术提供一种彩膜基板、显示装置及彩膜基板的制造方法，该彩膜基板包括衬底基板和多个彩色滤光单元，该多个彩色滤光单元间隔设置在该衬底基板上，相邻两个彩色滤光单元之间还设置有黑矩阵，其特征在于，该黑矩阵上设置有凹槽，该黑矩阵与相邻的彩色滤光单元重叠，该重叠的区域延伸至该黑矩阵上的凹槽。本发明专利技术通过在彩膜基板上的黑矩阵上设置凹槽，并使该黑矩阵与相邻的彩色滤光单元重叠的区域延伸至该黑矩阵的凹槽，从而能够有效的减小黑矩阵与相邻的彩色滤光单元之间的角度差，提高显示品质。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供一种，该彩膜基板包括衬底基板和多个彩色滤光单元，该多个彩色滤光单元间隔设置在该衬底基板上，相邻两个彩色滤光单元之间还设置有黑矩阵，其特征在于，该黑矩阵上设置有凹槽，该黑矩阵与相邻的彩色滤光单元重叠，该重叠的区域延伸至该黑矩阵上的凹槽。本专利技术通过在彩膜基板上的黑矩阵上设置凹槽，并使该黑矩阵与相邻的彩色滤光单元重叠的区域延伸至该黑矩阵的凹槽，从而能够有效的减小黑矩阵与相邻的彩色滤光单元之间的角度差，提高显示品质。【专利说明】
本专利技术涉及显示领域，尤其涉及一种。
技术介绍
扭曲向列(Twisted Nematic，TN)型液晶显示器是一种常见的液晶显示器，该种液晶显示器主要由彩膜基板和阵列基板对盒而成，其中，彩膜基板的制作方法如图1至图3所示，首先在衬底基板I’上形成黑矩阵2’的图形，并在衬底基板I’上涂覆色阻材料3’，并通过掩膜版4’对其进行曝光处理，该掩膜版4’包括不透光区域5’和开口部6’，紫外光通过开口部6’照射至色阻材料上，之后对曝光处理后的衬底基板I’进行显影烘烤处理，从而使彩色滤光单元8’与黑矩阵2’间隔设置在衬底基板I’，其中，在得到的彩膜基板中，彩色滤光单元8’和黑矩阵2’的搭接区域7’形成角段(PW)，为了提高TN(Twisted Nematic，扭曲向列型)产品品质，管理与控制角段差一直是各大面板厂商在实际量产中需要考虑的课题，角段差过大，影响液晶取向(Rubbing)工艺、液晶扭转、IXD画面品质。目前，可以通过降低黑矩阵厚度或者提高色阻层的厚度的方法来改善角段差。但是，降低黑矩阵厚度，存在光学密度降低，影响对比度，将色阻层膜厚提高，则存在透过率低的问题。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本专利技术要解决的技术问题是:如何减小彩膜基板中黑矩阵与相邻的彩色滤光单元之间的角段差。(二)技术方案为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种彩膜基板，包括衬底基板和多个彩色滤光单元，所述多个彩色滤光单元间隔设置在所述衬底基板上，相邻两个彩色滤光单元之间还设置有黑矩阵，所述黑矩阵上设置有凹槽，所述黑矩阵与相邻的彩色滤光单元重叠，所述重叠的区域延伸至所述黑矩阵上的凹槽。进一步地，所述凹槽位于所述黑矩阵的中部。进一步地，所述凹槽的深度小于或等于所述黑矩阵的厚度。进一步地，所述凹槽的截面形状为矩形或者梯形。为解决上述技术问题，本专利技术还提供一种彩膜基板的制造方法，包括:在衬底基板上形成黑矩阵，所述黑矩阵上设置有凹槽；在所述衬底基板上形成多个间隔设置的彩色滤光单元，使所述黑矩阵位于相邻两个彩色滤光单元之间，且所述黑矩阵与相邻的彩色滤光单元重叠，所述重叠的区域延伸至所述黑矩阵上的凹槽。为解决上述技术问题，本专利技术还提供一种显示装置，包括阵列基板和上述任意一种的彩膜基板。进一步地，所述阵列基板上设置有与所述黑矩阵相对的数据线，所述黑矩阵的凹槽与所述数据线正对设置。进一步地，所述黑矩阵的凹槽的宽度小于或等于所述数据线的宽度。(三)有益效果本专利技术通过在彩膜基板上的黑矩阵上设置凹槽，并使该黑矩阵与相邻的彩色滤光单元重叠的区域延伸至该黑矩阵的凹槽，从而能够有效的减小黑矩阵与相邻的彩色滤光单兀之间的角度差，提闻显不品质。【专利附图】【附图说明】图1?3是现有技术提供的制造彩膜基板的示意图；图4是本专利技术实施方式提供的一种彩膜基板的结构图；图5?6是本专利技术实施方式提供的制造彩膜基板的示意图；图7是本专利技术实施方式提供的一种黑矩阵的结构图图8是本专利技术实施方式提供的一种显示装置的结构图。【具体实施方式】下面结合附图和实施例，对本专利技术的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本专利技术，但不用来限制本专利技术的范围。图4是本专利技术实施方式提供的一种彩膜基板，包括衬底基板I和多个彩色滤光单元，所述多个彩色滤光单元间隔设置在所述衬底基板上，相邻两个彩色滤光单元之间还设置有黑矩阵2，所述黑矩阵2上设置有凹槽21，所述黑矩阵2与相邻的彩色滤光单元8重叠，所述重叠的区域7延伸至所述黑矩阵2上的凹槽21。在本专利技术实施方式中，凹槽21可以位于黑矩阵2的中部。此外，凹槽21的深度可以小于或等于所述黑矩阵2的厚度。优选地，该凹槽的深度21可以等于黑矩阵2的厚度。其中，所述凹槽的截面形状为矩形或者梯形。其中，黑矩阵2与相邻的彩色滤光单元8重叠的宽度可以为6?7um。本专利技术实施方式通过在彩膜基板上的黑矩阵上设置凹槽，并使该黑矩阵与相邻的彩色滤光单元重叠的区域延伸至该黑矩阵的凹槽，从而能够有效的减小黑矩阵与相邻的彩色滤光单元之间的角度差，提高显示品质。此外，本专利技术还能大大降低对色阻层的对位精度要求，使其管理余裕扩大，同时对色阻线宽管控可放宽正向管理范围(Margin)。此外，本专利技术实施方式还提供一种彩膜基板的制造方法，包括:步骤S1:在衬底基板上形成黑矩阵，所述黑矩阵上设置有凹槽；步骤S2:在所述衬底基板上形成多个间隔设置的彩色滤光单元，使所述黑矩阵位于相邻两个彩色滤光单元之间，且所述黑矩阵与相邻的彩色滤光单元重叠，所述重叠的区域延伸至所述黑矩阵上的凹槽。具体地，参见图5和图6，首先在衬底基板I上形成黑矩阵2的图形，并在黑矩阵2上形成凹槽21，在衬底基板I上涂覆色阻材料3，并通过掩膜版4对其进行曝光处理，该掩膜版4包括不透光区域5和开口部6，紫外光通过开口部6照射至色阻材料3上，之后对上述得到的衬底基板进行显影烘烤处理，得到如图4所示的彩膜基板，其中，色阻材料3在曝光显影烘烤后，不会在彩色滤光单元8和黑矩阵2的搭接区域7上堆积，而是平缓地进入该黑矩阵2上的凹槽21内，使显影后的图案(Pattern)呈现平滑的轮廓(Profile)，有效地减小了彩色滤光单元和黑矩阵之间的角段差。例如，现有技术中的角段差为0.5um左右，通过本专利技术实施方式得到的彩膜基板，其角段差则可以降低至0.2?0.3um。参见图7，彩膜基板上的黑矩阵(BM)图案被其上的凹槽21 —分为三，包括凹槽21以及凹槽两侧的图案22，图案22为考虑对盒极限(A’ ssy Margin)、确保遮光的图案，其宽度可结合对盒极限(A’ ssy Margin)计算得出，例如,该凹槽的深度可以与黑矩阵的厚度相同，则黑矩阵的凹槽区为无图案区，当色阻材料被曝光显影烘烤后，不会在BM上堆积，而是平缓地由BM上进入凹槽21内，该BM图案的形成可通过BM掩膜版设计实现，具体地，可以根据对盒极限(A’ ssy Margin)计算出黑矩阵两侧的图案22的线宽a，结合BM工艺评估出BM材料的偏差(Bias ) b，则凹槽的宽度C=N- (a+b ) *2，其中，N为原设计线宽，在BM掩膜版出图时可以针对N重新设计a、b、c三部分即可。此外，本专利技术实施方式还提供一种显示装置，包括阵列基板和上述任意一种的彩膜基板。该显示装置可以为:液晶面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。参见图8，图8是本专利技术实施方式提供的一种显示装置，包括阵列基板10和上述任意一种的彩膜基板9，其中，彩膜基板9上设置有黑矩阵2，黑矩阵2设置有凹槽21，阵列基板上10设置有与所述黑矩阵2相对的数据线11，所述黑矩阵的凹槽21与所述数据线11正对设置。其中，该凹槽本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种彩膜基板，包括衬底基板和多个彩色滤光单元，所述多个彩色滤光单元间隔设置在所述衬底基板上，相邻两个彩色滤光单元之间还设置有黑矩阵，其特征在于，所述黑矩阵上设置有凹槽，所述黑矩阵与相邻的彩色滤光单元重叠，所述重叠的区域延伸至所述黑矩阵上的凹槽。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：袁慧芳，陆相晚，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司， 京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34
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