脉冲激光沉积装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种脉冲激光沉积装置，包括沉积腔以及设于沉积腔内的靶材和基板座，所述的基板座与靶材相对设置，沉积腔腔体上设有与靶材倾斜相对的光学窗口，用于入射脉冲激光以轰击靶材，靶材烧蚀后产生等离子气并到达基板座上的基板表面，作用生成目标薄膜，所述的靶材为圆盘状，包括多种不同材料的扇形体；由于靶材是多种不同单元材料构成的多元靶材，绕中心轴旋转时，脉冲激光光束周期性照射在各单元靶材表面，由各单元靶材产生的等离子气在基板上进行自组装，形成所需的目标薄膜材料，通过调整多元靶材中的不同材料的面积比，即可得到任意比例的薄膜。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种脉冲激光沉积装置，包括沉积腔以及设于沉积腔内的靶材（4）和基板座（1），所述的基板座（1）与靶材（4）相对设置，沉积腔腔体上设有与靶材倾斜相对的光学窗口，用于入射脉冲激光（5）以轰击靶材（4），靶材（4）烧蚀后产生等离子气（3）并到达基板座（1）上的基板（2）表面，作用生成目标薄膜，其特征在于：所述的靶材（4）为圆盘状，由多种不同材料的扇形体组成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：章嵩，王传彬，沈强，张联盟，涂溶，
申请(专利权)人：武汉理工大学，
类型：发明
国别省市：湖北;42