【技术实现步骤摘要】
—种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层
本技术涉及一种多晶硅铸锭用涂层，具体为一种用于多晶硅铸锭用的石英坩埚涂层。
技术介绍
目前以及将来一段时间内，多晶硅铸锭都是硅材料太阳能电池行业中的核心技术，为了获取更高的光电转换效率，更低的光伏发电成本，新的铸锭技术不断产生。多晶硅铸锭技术按照引晶类型，大致可以分为普通多晶硅铸锭技术和高效多晶硅铸锭技术。普通多晶硅铸锭技术指不使用籽晶，而以坩埚底部的氮化硅涂层中的氮化硅颗粒作为形核点，生长多晶硅。普通多晶硅铸锭所使用的氮化硅涂层与硅熔体浸润性低，形核所需的形核功大，非均匀形核的能力低，生长的硅锭晶粒尺寸较大，随着晶体高度的增加，晶粒有进一步增大的趋势。而大尺寸的晶粒，晶界较少，不利于位错的吸收，造成位错的聚集和不断增殖，使得晶体质量变差。高效多晶硅铸锭技术是指以硅质材料作为籽晶的铸锭技术。硅锭生长时，可省去形核阶段，直接从籽晶上生长晶体，用此方法生长的硅锭晶粒尺寸小、晶界多，有利于位错的吸收，晶体的质量好。该技术虽然显著降低了晶体的缺陷密度，但以硅质材料作为籽晶，其硅锭底部红区较长,硅锭成品率较低,加大了生产成本。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，该结构的涂层能有效降低形核功，促进非均匀形核能力，从而快速形核，用该方法生产的硅锭晶粒尺寸小、大小均匀，缺陷密度低，底部红区相对较短，成品率高。本技术的目的通过采取以下技术措施予以实现:一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，其特征在于，由下层氮化硅涂层、中间层形核功能层和上层氮化硅涂层组成，所述下层氮化硅涂层设置在坩埚本体的...
【技术保护点】
一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，其特征在于，由下层氮化硅涂层（1）、中间层形核功能层（2）和上层氮化硅涂层（3）组成，所述下层氮化硅涂层（1）设置在坩埚本体（4）的底部，所述中间层形核功能层（2）设置在下层氮化硅涂层（1）上，所述上层氮化硅涂层（3）设置在中间层形核功能层（2）上，所述中间层形核功能层（2）上分布有均匀或不均匀的孔洞或裂缝。2．根据权利要求1所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，其特征在于，所述中间层形核功能层（2）由高纯氮化硅、高纯硅微粉或高纯塞隆粉材料制成。3．根据权利要求2所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，其特征在于，所述中间层形核功能层（2）的厚度为1?5mm。4．根据权利要求3所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，其特征在于，所述孔洞为圆形、椭圆形或正方形孔洞，孔洞直径为0.1mm?1mm，孔洞间距为0.5?20mm。5．根据权利要求4所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，其特征在于，所述裂缝为连续或断续的直线或曲线式裂缝，裂缝宽度为0.1mm?1mm，裂缝间距为0.5?20mm。6．根据权利要求4或5所述...
【技术特征摘要】
1.一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，其特征在于，由下层氮化硅涂层(I)、中间层形核功能层(2 )和上层氮化硅涂层(3 )组成，所述下层氮化硅涂层(I)设置在坩埚本体(4)的底部，所述中间层形核功能层(2)设置在下层氮化硅涂层(I)上，所述上层氮化硅涂层(3)设置在中间层形核功能层(2)上，所述中间层形核功能层(2)上分布有均匀或不均匀的孔洞或裂缝。2.根据权利要求1所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，其特征在于，所述中间层形核功能层(2)由高纯氮化硅、高纯硅微粉或高纯塞隆粉材料制成。3.根据权利要求2所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄新明，周绪成，尹长浩，钟根香，明亮，周海萍，
申请(专利权)人：东海晶澳太阳能科技有限公司，南京工业大学，
类型：实用新型
国别省市：
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