由彼此直接层合的至少两个层A和B组成的胶粘带,优选为自胶粘带,层A或者B的至少一个或者两个为胶粘剂制造技术

技术编号:9797757 阅读:178 留言:0更新日期:2014-03-22 08:36
本发明专利技术提供由直接彼此层合的至少两个层A和B组成的胶粘带,优选自胶粘带,层A或者B的至少一个或者两个为胶粘剂,并且在所述层彼此层合之前,彼此层合的层A和B的界面经历物理方法,所述物理方法选自电晕放电、介质阻挡放电、火焰预处理或者等离子体处理,所述两种方法彼此不同。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】由彼此直接层合的至少两个层A和B组成的胶粘带,优选为自胶粘带,层A或者B的至少一^或者两个为胶粘剂本专利技术涉及由直接彼此层合的至少两个层A和B组成的胶粘带,优选为自胶粘带,层A或者B的至少一个或者两个为胶粘剂。在工业制造领域中,需要简单的预处理技术以改善被粘物的胶粘粘合性质。.通常使用高成本和不方便的方法如湿式化学清洗和打底被粘物表面,以得到自胶粘带的高强度粘合。.更具体地,出于用自胶粘带实现较高锚固力的目的,现在有利地将在大气压下的简单的物理预处理技术(电晕、等离子体、火焰)用于被粘物的表面处理。在应将两个或者超过两个层彼此层合的情况下,通常在层合之前将一个或者两个界面物理预处理。 已知的是,通过电晕和等离子体处理在活化边界层方面具有有限的持久性,所以处理在接近层合操作时或者主要在即将层合操作之前进行。等离子体和电晕预处理例如在DE2005027391A1和DE10347025A1中描述或者提及。在DE102007063021A1中声称,在先等离子体/电晕预处理有益于胶粘粘合的保持力和流式行为(flow-on behavior)。没有公认所述方法可导致粘合强度的增加。DE102006057800A1要求保护多层胶粘带,其包含至少两层压敏胶粘剂A和B,所述至少两层压敏胶粘剂A和B直接彼此层叠并且在层合之前各自化学和/或物理预处理。通过这种方法得到的压敏胶粘剂层的改善的整体胶粘性通过预处理的两侧面相等侧面性质得到。关于在工艺气体气氛下的电晕处理,DE4438533A1描述了电晕处理的方法,该方法包括工艺气体如二氧化碳或者一氧化碳和其它气体,其在该文献中被称为惰性气体,例如氮气或者氩气。其它已知现有技术经DE102007011235Al(Plasmatreat GmbH, Steinhagen)公布,其描述了改进的预处理,更具体地,清洗工件表面。例如,可相当程度地改善与另一工件的胶粘粘合。而且,在EP0740681B1中披露了在聚合物或者聚合物基质复合材料的表面处通过等离子体/电晕和偶合剂的处理,和胶粘剂或者自胶粘带的应用。热可活化增粘树脂层和热熔体层的等离子体处理(具体地,用适合的工艺气体)也是已知的,用于与压敏胶粘剂层的粘合的高强度。后者的实例参见EP1262532B1,其涉及双重功能胶粘带,所述双重功能胶粘带包含基于聚烯烃的热可活化增粘树脂层和基于丙烯酸酯的压敏胶粘剂层,所述聚烯烃层进行N2电晕处理,从而以此方式实现与压敏胶粘剂层的有效锚固。现有技术的特征是,预处理主要涉及载体材料或者被粘物,以建立与胶粘剂或者自胶粘带的较高锚固力。本专利技术的目的是在压敏胶粘剂和载体材料的物理表面改性的情况中寻找更加积极的效果,以实现高强度粘合。目的的要点是在压敏胶粘基层和载体材料之间实现高锚固;作为第二方面,目标是当在物理处理和层合之间具有相对长的时间时实现所述目的。这些目的通过由独立权利要求表示的胶粘带实现。从属权利要求提供本专利技术主题的有利发展。因此,本专利技术涉及由直接彼此层合的至少两个层A和B组成的胶粘带,优选自胶粘带,层A或者B的至少一个或者两个为胶粘剂,并且在所述层彼此层合之前,彼此层合的层A和B的界面经历物理方法,所述物理方法选自电晕放电、介质阻挡放电、火焰预处理或者等离子体处理,并且两种方法彼此不同。出于本专利技术的目的,物理方法是通过放电产生等离子体并将目标基底暴露于所述等离子体的方法。出于本专利技术的目的,所述处理在接近大气压的压力或者大气压下进行。在等离子体中的平均电子速度通常非常高,它的平均动能远高于离子的平均动能。因此,通过这种能量限定的电子温度不同于离子的温度,并且所述等离子体不处于热平衡:它是冷的〃。 常称为〃电晕〃的物理预处理技术通常为〃介电阻挡放电(DBD);关于这一点,也参见Wagner et al., Vacuum, 71 (2003), 417-436。它包括使目标基底以幅面形式通过两个高压电极,至少一个电极由介电材料组成或者涂覆有介电材料。将电晕处理的处理强度表示为以[Wmin/m2]计的〃剂量〃,剂量D=P/b*v,其中P=电力[W], b=电极宽度[m],以及v=幅面速度[m/min]。通过适当高的幅面张力,将基底压在设置为辊的对电极上,以防止空气夹杂。处理距离通常为约l_2mm。对于在电极和对电极之间的空间中的处理,这种二电极几何排列的根本缺点是可能的反面处理。在反面上夹杂非常少的空气或者气体的情况中,例如如果在辊-对-辊处理的情况中幅面张力太低,则通常发生不希望的反面电晕处理。在用kV范围内的高频交流电压处理的情况中,离散放电通道短暂地在电极和基底之间发生,并且加速电子也撞击基底表面。当电子撞击时,能量可达到塑料基底的通常的分子键的键能的2-3倍,并因此可破开该基底。二次反应在表面中引起官能和极性基团。极性基团的形成例如对于提高表面能量作出强力贡献。作为高能加速电子的作用的结果,这种处理在使用的电能方面非常有效率,并且非常强力,基于可能引发的反应。然而,高密度的极性和官能基团的产生通过链断裂和氧化与材料的降解竞争。简单电晕处理或者DBD常用于处理非极性表面和膜,使得它们的表面能量和湿润能力提高。例如,在印刷或者施用胶粘剂之前经常对聚合物膜实施电晕处理。尽管,在更广泛的意义上,在空气中的电晕处理是等离子体发挥作用的技术,但是在大气压的等离子体处理是通常理解的较窄的定义。如果电晕处理在不同于空气的气体混合物如基于氮气的气体混合物中进行,则等离子体已经部分地相关。然而,在较窄的意义上,大气压等离子体处理是均匀和不放电的处理。这种均匀等离子体可例如通过使用稀有气体,在一些情况中使用混合物产生。这种处理在均匀填充有等离子体的基本上二维的反应空间中进行。反应性等离子体包含能够与基底表面中的大量化学基团快速反应的自由基和游离电子。这导致在表面中形成气体反应产物和高度反应性的自由基。通过二次反应,这些自由基能够进一步与氧气或者其它气体快速地反应,并在基底表面上形成各种化学官能基团。如同所有的等离子体技术,官能基团的产生与材料的降解竞争。目标基底也可不暴露于二电极几何排列的反应空间,相反,仅暴露于不放电等离子体(间接〃等离子体)。在这种情况中,以良好的近似,等离子体通常也没有电势。这种等离子体通常通过气体流从放电区排出,并且在短路段后输送到基底上,而不需要对电极。经常称为余辉的反应性等离子体的寿命(并因此有用的路段)通过重组反应的精确细节和等离子体化学测定 。通常观察到,反应性随着与放电源的距离指数地下降。现代间接等离子体技术经常基于喷嘴原理。这里的喷嘴可为圆形或者线性配置;在一些情况中,操作旋转喷嘴-这里不希望强加任何限制。由于它的灵活性和它的固有的单面处理,这种喷嘴原理是有利的。这种喷嘴(例如来自公司Plasmatreat)在工业中广泛用于在胶粘粘合之前预处理基底。缺点是间接处理,其由于不放电而效率低,并因此幅面速度降低。然而,圆形喷嘴的常规构造形式尤其适于处理窄幅面产品,例如宽度为数厘米的胶粘带。市场上具有多种等离子体产生器,其在等离子体产生技术、喷嘴几何形状,和气氛方面不同。尽管所述处理在包括效率的多种因素上不同,但是根本效果通常是相似的并首先通过使用的气氛测定。等离子体处理可本文档来自技高网...

【技术保护点】
由直接彼此层合的至少两个层A和B组成的胶粘带,优选为自胶粘带,层A或者B的至少一个或者两个为胶粘剂,并且在所述彼此层合的层彼此层合之前,所述彼此层合的层A和B的界面经历物理方法,所述物理方法选自电晕放电、介质阻挡放电、火焰预处理或者等离子体处理,并且两种方法彼此不同。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.05.06 DE 102011075470.91.由直接彼此层合的至少两个层A和B组成的胶粘带,优选为自胶粘带,层A或者B的至少一个或者两个为胶粘剂,并且在所述彼此层合的层彼此层合之前,所述彼此层合的层A和B的界面经历物理方法,所述物理方法选自电晕放电、介质阻挡放电、火焰预处理或者等离子体处理,并且两种方法彼此不同。2.权利要求1的胶粘带,其特征在于所述彼此层合的界面具有酸-碱相互作用或者给体-受体相互作用,所述酸-碱相互作用或者给体-受体相互作用通过界面的不同类型的物理处理,更具体地通过使用补充工艺气体,更具体地通过使用氧化气体和还原气体,更具体地通过使用酸性改性气体和碱性改性气体强化或者产生。3.权利要求1或者2的胶粘带,其特征在于所述第一物理处理为空气中的电晕处理,且所述第二物理处理为N2中的电晕处理,所述N2气氛的02含量优选〈lOOOppm,更优选〈lOOppm,特别优...

【专利技术属性】
技术研发人员:A库普斯H纽豪斯斯坦梅茨U舒曼T舒伯特O柯皮斯诺克K韦兰德D珀尔巴赫S赖克
申请(专利权)人:德莎欧洲公司
类型:
国别省市:

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