纽扣的抛光方法技术

本发明专利技术公开了一种纽扣的抛光方法，在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，加水浸没上述物料；待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比1∶2-1∶7，硅砂粉、化学抛光剂的添加量分别为固体物料总质量的2%-7%、0.5%-1.5%；所述高频瓷粒的尺寸为2.5×8.0mm或3×3mm；设定第一抛光时间，涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；根据第一次抛光效果，设定第二次抛光时间，至纽扣光泽度满足要求，清洗纽扣。本发明专利技术所述纽扣的抛光方法，抛光效率较传统方法抛光效率提高了3～4倍，抛光效果更加稳定，缩短了生产工期，降低了人工成本和员工劳动强度，且所制得的纽扣外观优良。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及纽扣生产制造
，特别是涉及一种。
技术介绍
随着人们审美观点的变化和服装制造技术的不断发展，纽扣的装饰效果和功能性要求也越来越广泛。不饱和聚酯纽、塑料纽、木纽、果实纽、贝壳纽和金属钮等，各种材质的纽扣被广泛应用；浇片、制棍、注塑、滴胶等多种制纽工艺层出不穷。抛光是纽扣生产过程中的一个重要工序，抛光效率和抛光效果对生产周期和光饰效果及喷油等后加工处理产生重要影响。纽胚经车纽工序后，表面往往平整度不好，表面光泽不均匀，甚至有一些毛刺。传统的纽扣抛光方法是采用滚筒抛光机进行水磨，利用抛光物料对纽扣表面的磨擦作用，将纽扣表面打磨光滑。对于高光泽的纽扣，则需要利用果壳糠、植物油、硅油或石蜡等进行干磨。滚筒抛光机的抛光效率较低，抛光耗时较长；水磨过程中，泡沫丰富，纽扣会漂浮起来，影响了抛光效果；水磨过程中需要多次清洗，自来水消耗量较大，造成水资源的浪费。而目前，双联涡流抛光机主要使用于抛光金属产品和工艺品，到目前为止还没有使用到抛光非金属钮扣这个特别的行业；而直接将双联涡流抛光机替代滚筒抛光机，因为设备速度快，打磨力度大，所制得的纽扣尖角易被磨圆。
技术实现思路
基于此，本专利技术提供一种。解决上述技术问题的具体技术方案如下:一种，包括如下步骤:(I)根据纽扣光泽度的要求，在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，并加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:2-1:7,硅砂粉的添加量为固体物料总质量的1%_5%，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的0.5%-1.5% ;所述高频瓷粒的尺寸为0 2.5*8.0mm或3*3mm ;所述固体物料是指上述除水之外的其余物料；(2)设定第一抛光时间，双联涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；(3)根据第一次抛光效果，设定第二次抛光时间，至纽扣光泽度满足要求；(4)清洗纽扣。在其中一些实施例中，步骤(I)所述化学抛光剂为蜡乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠或有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或两种以上的混合物。在其中一些实施例中，所述化学抛光剂为主要由以下重量百分比的原料组成:蜡乳液75-84wt%，有机硅化合物4-6wt%和硬脂酸钠12_19wt%。在其中一些实施例中，步骤(I)所述硅砂粉的粒径为150-400目。在其中一些实施例中，步骤(2)所述第一抛光时间为2_6h，步骤(3)所述第二次抛光时间为0.5-1.5h。在其中一些实施例中，一种，包括如下步骤:(I)在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，并加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:5-1:7，高频瓷粒的尺寸为02.5*8.0mm，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的3%_5%，粒径为300-400目，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的1%_1.5%，所述化学抛光剂为棕榈蜡或高密度氧化聚乙烯蜡的水乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠和有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或几种的混合物；(2)设定第一抛光时间5_6h，双联涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；(3)设定第二次抛光时间0.5-1.5h ;(4)清洗纽扣，得光泽度为大于80度的全光纽扣。在其中一些实施例中，步骤(I)所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:巴西棕榈蜡乳液75-84wt%，有机硅化合物4-6wt%和硬脂酸钠12_19wt%。在其中一些实施例中，步骤(I)所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:巴西棕榈蜡乳液75-84wt%，DC-544-6wt%和硬脂酸钠12_19wt%。在其中一些实施例中，一种，包括如下步骤:(I)在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，并加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:4-1:5，高频瓷粒的尺寸为3*3mm，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的3%_4%，粒径为150-300目，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的0.5%-1%，所述化学抛光剂为石蜡或低密度氧化聚乙烯蜡的水乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠和有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或几种的混合物；(2)设定第一抛光时间4_5h，双联涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；(3)设定第二次抛光时间0.5-lh ;(4)清洗纽扣，得光泽度80-30度的半哑光纽扣。在其中一些实施例中，步骤(I)所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:低密度氧化聚乙烯蜡乳液75-84wt%，有机硅化合物4-6wt%和硬脂酸钠12_19wt%。在其中一些实施例中，步骤(I)所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:WE-215A75-84wt%，DC_514_6wt% 和硬脂酸钠 12_19wt%。在其中一些实施例中，一种，包括如下步骤:(I)在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，并加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:2-1:4，高频瓷粒的尺寸为3*3mm，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的2%_3%，粒径为150-300目，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的0.5%-1%，所述化学抛光剂为石蜡或低密度氧化聚乙烯蜡的水乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠和有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或几种的混合物；(2)设定第一抛光时间2_4h，涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；(3)设定第二次抛光时间0.5-lh ;(4)清洗纽扣，得光泽度小于30度的全哑光纽扣。在其中一些实施例中，步骤(I)所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:低密度氧化聚乙烯蜡乳液75-84wt%，有机硅化合物4-6wt%和硬脂酸钠12_19wt%。在其中一些实施例中，步骤(I)所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:WE-215A75-84wt%，DC_514_6wt% 和硬脂酸钠 12_19wt%。本专利技术所述一种具有以下优点和有益效果:( I)本专利技术所述，其抛光效率较传统抛光方法的效率提高了 3?4倍，抛光效果更加稳定，缩短了生产工期，降低了人工成本和员工劳动强度，且所制得的纽扣外观优良。(2)本专利技术采用双联涡流抛光机，利用机械性带动涡流流动的原理，加快了物料的流动速度，增强了纽扣表面和磨料之间的作用力，从而提高了抛光效率。(3)本专利技术所述纽扣抛光方法中所用的抛光物料中还添加了化学抛光剂，该化学抛光剂的组分和含量是经专利技术人的大量实验和研究确定的，其配合0 2.5*8.0mm或3*3mm的高频瓷粒及适宜的双联涡流抛光机的转速，不仅显著增强了纽扣的光泽度，且有效消除和抑制水磨过程中的泡沫，还进一步提高了抛光效率和改善了纽扣的光饰效果。(4)本专利技术所述的纽扣抛光方法还针对纽扣的不同光泽度要求，设计了相应磨料配方，使得抛光效果更高，抛光效果更稳定。(5)本专利技术所述的纽扣抛光方法，其抛光过程中所用水为循环水或自来水，实现了抛光水的回收和重复利用，尽可能地做到能耗低，用料少的节能减排要求。【具体实施方式】以下将结合具体实施例对本专利技术做进一步说明。下述实施例中所述双联涡流抛光机购自隆鑫研磨机械(东堯)有限公司；所述巴西棕榈蜡乳液购自东本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纽扣的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:2?1:7，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的1%?5%，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的0.5%?1.5%；所述高频瓷粒的尺寸为2.5*8.0mm或3*3mm；（2）设定第一抛光时间，双联涡流抛光机的转速为100?180转/分钟；（3）根据第一次抛光效果，设定第二次抛光时间，至纽扣光泽度满足要求；（4）清洗纽扣。FDA0000426266490000011.jpg

【技术特征摘要】
1.一种纽扣的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤: (1)在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:2-1:7，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的1%_5%，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的0.5%-1.5% ;所述高频瓷粒的尺寸为0 2.5*8.0mm 或 3*3mm ； (2)设定第一抛光时间，双联涡流抛光机的转速为100-180转/分钟； (3)根据第一次抛光效果，设定第二次抛光时间，至纽扣光泽度满足要求； (4)清洗纽扣。2.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，步骤(1)所述化学抛光剂为蜡乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠或有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或两种以上的混合物。3.根据权利要求2所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，所述化学抛光剂为主要由以下重量百分比的原料组成:蜡乳液75-84wt%，有机硅化合物4-6wt%和硬脂酸钠12_19wt%。4.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，步骤(1)所述硅砂粉的粒径为150-400 目。5.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，步骤(2)所述第一抛光时间为2-6h，步骤(3)所述第二次抛光时间为0.5-1.5h。6.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤: (1)在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:5-1:7，高频瓷粒的尺寸为02.5*8.0mm,硅砂粉的添加量为固体物料总质量的3%-5%，粒径为300-400目，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的1%_1.5%，所述化学抛光剂为棕榈蜡或高密度氧化聚乙烯蜡的水乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠和有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或两种以上的混合物； (2)设定第一抛光时间5-6h，双联涡流抛光机的转速为100-180转/分钟； (3)设定第二次抛光时间0.5-1.5h ； (4)清洗纽扣，得光泽...

【专利技术属性】
技术研发人员：王学甜，盛峭敏，龚凡，王青松，程福奎，
申请(专利权)人：广东溢达纺织有限公司，
类型：发明
国别省市：