阻光基板及其制作方法、对盒工艺中阻隔UV光的方法技术

本发明专利技术公开了一种阻光基板及其制作方法，方法包括：在基板上设置阻光材料形成阻光层；使用光敏树脂板将转印层材料通过转印工艺在形成有阻光层的基板上转印形成具有光敏树脂板图形的转印层；对形成有转印层的基板进行刻蚀工艺。本发明专利技术还公开了一种在对盒工艺中阻隔VU光的方法，包括：在对盒工艺中，将制作的阻光基板设置于LCD基板上方，所述阻光基板的阻光层阻止紫外光对LCD基板中显示区的照射。通过本发明专利技术，用转印板代替掩膜板制作阻光基板，能够降低液晶面板生产的成本。

【技术实现步骤摘要】
阻光基板及其制作方法、对盒工艺中阻隔UV光的方法
本专利技术涉及液晶显示
，尤其涉及一种阻光基板及其制作方法、对盒工艺中阻隔UV光(紫外光)的方法。
技术介绍
在目前的液晶面板生产过程中，对盒工艺中所使用的seal胶(封框胶)需要通过UV光的照射来进行预固化，以防止seal胶污染液晶、对液晶屏幕的显示品质造成影响。为防止UV光照射过程中的UV光对液晶造成损伤，需要使用掩膜板并通过阵列工艺在基板上制作一个可以遮挡显示区的图形；这样，通过该基板对A/A区的遮挡，在UV光照射时，只会将seal胶暴露在UV光下。由于掩膜板的造价较高，因此会增加液晶面板的生产成本。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的主要目的在于提供一种阻光基板及其制作方法、对盒工艺中阻隔VU光的方法，以降低液晶面板生产的成本。为达到上述目的，本专利技术的技术方案是这样实现的:本专利技术提供了一种阻光基板的制作方法，该方法包括:在基板上设置阻光材料形成阻光层；使用光敏树脂板将转印层材料通过转印工艺在形成有阻光层的基板上转印形成具有光敏树脂板图形的转印层；对形成有转印层的基板进行刻蚀工艺。较佳的，所述阻光材料和/或转印层材料中添加有反射材料。较佳的，在经过刻蚀工艺后的基板的转印层上设置有反射材料。较佳的，该方法还包括:对刻蚀后的基板进行剥离工艺，剥离掉转印层。较佳的，在基板上的阻光层上设置有反射材料，之后进行所述转印工艺。较佳的，所述阻光材料为黑色有机树脂。较佳的，所述转印层材料为聚酰亚胺。较佳的，所述反射材料为白色油墨。本专利技术还提供了一种阻光基板，在基板上有通过上述任一方法所形成的、能阻止紫外光对LCD基板中的显示区进行照射的阻光层。本专利技术还提供了一种对盒工艺中阻隔VU光的方法，该方法包括:在对盒工艺中，将上述阻光基板设置于液晶显示器LCD基板上方，所述阻光基板的阻光层阻止紫外光对IXD基板中显示区的照射。本专利技术所提供的一种阻光基板及其制作方法、对盒工艺中阻隔VU光的方法，通过采用光敏树脂板来制作一张可以防止UV光透过的阻光基板，将该阻光基板应用于对盒工艺中，在对盒过程中能够防止UV光对液晶的损害。另外，本专利技术在制作时阻光基板时，无需使用掩膜板，从而能够降低液晶面板生产的成本。【附图说明】图1为本专利技术实施例的一种阻光基板的制作方法流程图；图2为本专利技术实施例中基板上设置阻光层的结构示意图；图3为本专利技术实施例中通过转印设备形成转印层的加工过程示意图；图4为本专利技术实施例中基板经转印后的结构示意图；图5为本专利技术实施例中基板经刻蚀后的结构示意图；图6为本专利技术实施例的另一种阻光基板的制作方法流程图；图7为本专利技术实施例中基板经剥离后的结构示意图；图8为使用本专利技术实施例中的一种阻光基板在对盒工艺中阻隔VU光的效果示意图。附图标记说明:10:基板；20:阻光层；30:涂料器；40:网纹辊；50:涂料调节辊；60:APR板；70:工作台;80:转印层；90 =LCD的上基板；100 =LCD的下基板；110:显示区的液晶；120:seal胶。【具体实施方式】下面结合附图和具体实施例对本专利技术的技术方案进一步详细阐述。作为本专利技术的第一个技术方案，一种阻光基板的制作方法，包括:在基板上设置阻光材料形成阻光层；使用光敏树脂板将转印层材料通过转印工艺在形成有阻光层的基板上转印形成具有光敏树脂板图形的转印层；对形成有转印层的基板进行刻蚀工艺。作为本专利技术的第二个技术方案，在第一个技术方案的基础上，所述阻光材料和/或转印层材料中添加有反射材料。添加有反射材料的转印层和/或阻光层具有反光能力，这样UV光被反射上去以后再反射下来到达没有转印层或阻光层的地方对封框胶进行固化，达到环保节能的效果。作为本专利技术的第三个技术方案，在第一或第二个技术方案的基础上，还可以在经过刻蚀工艺后的基板上的转印层上设置有反射材料，使其表面具有反光能力。作为本专利技术的第四个技术方案，在第一个技术方案的基础上，该方法还包括，对刻蚀后的基板进行剥离工艺，剥离掉转印层。剥离掉转印层的基板上还有阻光层，所述阻光层可以实现遮挡UV光，防止其对液晶的损伤。作为本专利技术的第五个技术方案，在第四个技术方案的基础上，在基板上的阻光层上设置有反射材料，之后才进行转印工艺、刻蚀工艺及剥离工艺。除了在阻光层材料中添加反射材料使阻光层具有反光能力外，还可以在经过刻蚀工艺后的基板上的转印层上设置有反射材料，使其表面具有反光能力。作为本专利技术的第六个技术方案，在上述任一技术方案的基础上，所述阻光材料为黑色有机树脂。当然，所述阻光材料还可以选取其他材料，比如氧化铬，只要可以实现阻挡UV光照射的功能即可，本专利技术并不做限制。作为本专利技术的第七个技术方案，在上述一至五任一技术方案的基础上，所述转印层材料为聚酰亚胺。当然，所述转印层材料还可以选取其他材料，比如耐酸碱的树脂材料，只要可以实现保护阻光层材料，可以进行刻蚀工艺、剥离工艺即可，本专利技术并不做任何限制。作为本专利技术的第八个技术方案，上述技术方案中提及的反射材料可以为白色油墨，其实只要可以使阻光层或转印层具有反光能力即可，本专利技术并不做任何限制。作为本专利技术的第九个技术方案，一种阻光基板，在该基板上有通过上述一至八任一的方法所形成的、能阻止紫外光对LCD基板中的显示区进行照射的阻光层。作为本专利技术的第十个技术方案，一种对盒工艺中阻隔VU光的方法，该方法包括:在对盒工艺中，将第九个技术方案中所述的阻光基板设置于液晶显示器LCD基板上方，所述阻光基板的阻光层阻止紫外光对LCD基板中显示区的照射。下面再结合具体实施例对本专利技术的技术方案进一步详细阐述。如图1所示，本专利技术实施例提供的一种阻光基板的制作方法，主要包括以下步骤:步骤101，在基板上通过曝光工艺形成阻光层。阻光层可以采用array工艺中的栅线、数据线材料(导电金属材料)，也可以采用氧化镉，还可以采用黑色有机树脂材料。本专利技术实施例的阻光层材料并非仅限于上述所举，实际应用中任何能够在基板上通过曝光工艺形成阻光层的材料，应当都属于本专利技术实施例的保护范围。基板经曝光后形成阻光层的效果示意图，如图2所示，图中10为基板，20为基板上的形成的阻光层。步骤102,使用光敏树脂(APR, Asahikasei Photosensitive Resin)板并通过转印工艺在形成有阻光层的基板上转印形成具有APR板图形的转印层。转印工艺可以在图3所示的转印设备上进行，转印设备主要包括:涂料器(Dispenser) 30、网纹棍(Anilox Roll) 40、涂料调节棍(Doctor Roll) 50、APR板 60、工作台(stage) 70。其中，涂料器30内装有涂料,该涂料可以为聚酰亚胺(PI,Polyimide)或耐酸碱的树脂材料；网纹辊40上贴附一层版胴，版胴作为涂料的载体，涂料器30将涂料滴在网纹辊40的版胴上，当网纹辊40转动时，涂料调节辊50对版胴上的涂料进行调节，涂料调节辊50使得涂料均匀的涂覆在版胴上，涂料的厚度通常在300-1500埃之间。另外，由于APR板60较软，因此需要在APR板60上贴附一层版胴，版胴作为涂料的载体，当网纹辊40和APR板60同时转动时，网纹辊40上的涂料均匀涂覆在APR板60的版胴上；同时，工作台70的移动使得APR本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阻光基板的制作方法，其特征在于，该方法包括：在基板上设置阻光材料形成阻光层；使用光敏树脂板将转印层材料通过转印工艺在形成有阻光层的基板上转印形成具有光敏树脂板图形的转印层；对形成有转印层的基板进行刻蚀工艺。

【技术特征摘要】
1.一种阻光基板的制作方法,其特征在于,该方法包括: 在基板上设置阻光材料形成阻光层； 使用光敏树脂板将转印层材料通过转印工艺在形成有阻光层的基板上转印形成具有光敏树脂板图形的转印层； 对形成有转印层的基板进行刻蚀工艺。2.根据权利要求1所述阻光基板的制作方法，其特征在于，所述阻光材料和/或转印层材料中添加有反射材料。3.根据权利要求1所述阻光基板的制作方法，其特征在于，在经过刻蚀工艺后的基板的转印层上设置有反射材料。4.根据权利要求1所述阻光基板的制作方法，其特征在于，该方法还包括: 对刻蚀后的基板进行剥离工艺，剥离掉转印层。5.根据权利要求4所述阻光基板的制作方法，其特征在于，在基板上的阻光层上设置有反...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈小川，薛海林，车春城，王磊，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：