光栅尺真空复制曝光设备制造技术

光栅尺真空复制曝光设备属于光栅尺制造工艺领域，目的在于解决光栅尺曝光过程中存在的压紧力不均匀以及光栅尺变形的问题。本发明专利技术的光栅尺真空复制曝光设备包括工作台、曝光光源、移动滑台、定位组件、侧面压紧组件、翻转组件和密封组件；母尺放置于工作台上，工作尺位于母尺上，通过定位组件和侧面压紧组件实现工作尺和母尺在工作台上的定位；母尺四周侧面的下边沿处涂密封胶；翻转组件与密封组件相连，通过翻转组件将密封组件压紧在工作台上形成一密封腔，对密封腔抽真空，通过大气压的作用实现母尺和工作尺的压紧；曝光光源固定在移动滑台的滑块上，在沿母尺长度方向做扫描运动的过程中，实现光栅尺的曝光复制。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
光栅尺真空复制曝光设备，包括工作台（7）、曝光光源（8）和移动滑台（9），其特征在于，还包括定位组件（1）、侧面压紧组件（2）、翻转组件（3）和密封组件（4）；工作台（7）长度方向上中间开有通孔，母尺（5）放置于工作台（7）的通孔上，工作尺（6）位于母尺（5）上，通过定位组件（1）和侧面压紧组件（2）实现工作尺（6）和母尺（5）在工作台（7）上的定位；母尺（5）四周侧面的下边沿处涂有密封胶（36）；翻转组件（3）与密封组件（4）相连，实现密封组件（4）的翻转；通过翻转组件（3）将密封组件（4）压紧在工作台（7）上，密封组件（4）与工作台（7）表面形成一密封腔，母尺（5）、工作尺（6）、定位组件（1）及侧面压紧组件（2）均位于所述密封腔内；对密封腔抽真空，通过大气压的作用实现母尺（5）和工作尺（6）的压紧；曝光光源（8）固定在移动滑台（9）的滑块上，在沿母尺（5）长度方向做扫描运动的过程中，经过工作台（7）的通孔照射母尺（5）和工作尺（6）实现曝光复制。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李小虎，黄剑波，李英志，孙强，王鹤，王尧，陈璐，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
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