测量系统技术方案

一种用于投射曝光设备（1）的物镜（27），包含布置在物镜框架（28）上的度量台（30）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】测量系统相关申请的交叉引用通过参考，将德国专利申请DE102011077223.5和US61/494，678的内容结合于此。
本专利技术涉及一种表征投射曝光设备的至少一个部件的测量系统。本专利技术进一步涉及一种用于投射曝光设备的物镜、一种包含该类型物镜的投射光学单元以及一种包含该类型投射光学单元的投射曝光设备。此外，本专利技术涉及一种表征投射曝光设备的至少一个部件的方法、一种用于制造微结构部件的方法以及一种根据该方法制造的部件。
技术介绍
例如，从US2011/0013171A1可知包含测量装置的投射曝光设备。
技术实现思路
本专利技术基于改进用于表征投射曝光设备的至少一个部件的测量系统的目的。该目的利用权利要求1的特征来实现。本专利技术的核心在于以可移动的方式将定位至少一个测量装置的定位装置连接至投射曝光设备的物镜。特别地，定位装置是所谓的“度量台”。该定位装置尤其用于布置多个测量装置，其包含例如用于将光信号转换为电信号的光电检测器。测量装置可包含空间解析的，尤其是二维空间解析的辐射检测器，例如一个或多个CCD相机。测量装置尤其可包含用于测量侧向像偏移的装置和/或用于光瞳透射测量的装置和/或用于波前测量的装置和/或用于光谱测量的装置。定位装置在物镜处的布置确保至少一个测量装置相对于物镜的特别稳定且因此可再现的布置。此外，该类型布置使得至少一个测量装置的定位，尤其是移动能够独立于投射曝光设备的其他组件的位移，尤其是独立于晶片安装件的位移。根据本专利技术的布置的另一优点在于定位装置在物镜处的布置使得能够更好利用晶片平面中(即，投射光学单元的像平面中)可用的空间。定位装置具有至少一个位移自由度。特别地，定位装置可在物镜光轴的横向方向上移动。利用定位装置，所述至少一个测量装置尤其可在物镜光路中的至少一个测量位置和停放位置之间移动，其中，在该停放位置，至少一个测量装置优选地完全布置在物镜光路之外。在该情况下，所述至少一个测量位置和停放位置可彼此分开多于1mm，尤其是多于Icm,尤其是多于5cm。作为在光轴横向方向上的可移动性的替代或附加，所述至少一个测量位置可利用定位装置在平行于物镜光轴的方向上移动。在一个特别有利的实施例中，定位装置还可具有旋转自由度。特别地，这使得所述至少一个测量位置能够关于平行于物镜光轴的轴线旋转。优选地，测量系统包含用于产生测量辐射的至少一个辐射源。辐射源可为EUV辐射源。特别地，可包含用于将物场中的结构成像至布置在像场中的晶片的同一辐射源。作为其替代，测量系统还可包含用于产生测量辐射的单独辐射源，测量辐射的波长范围尤其不与用于将布置在物场中的结构成像在布置在像场中的晶片上的波长范围重叠。特别地，由测量系统的辐射源产生的辐射的波长处于用于图案化晶片的光敏涂层对其不敏感的波长范围内。这是特别有利的，因为在该情况下的晶片曝光对测量辐射的散射不敏感。特别地，测量系统的辐射源可为一个或多个发光二极管(LED)。发光二极管可产生具有相同或不同波长的光。可利用成像光学单元来耦合来自辐射源的辐射。在该情况下，成像光学单元可包含一个或多个光波导。优选地，所述至少一个测量装置布置在光瞳附近或场附近。特别地，所述至少一个测量装置可布置在物镜的光瞳平面区域中或中间像平面区域中。该类型布置是有利的，这取决于提供的测量类型。在一个特别有利的实施例中，定位装置确保测量装置在平行于物镜光轴方向上的位移。测量系统可进一步包含特定的测量掩模母版。特定的测量掩模母版可布置在掩模母版保持器上。该掩模母版保持器可以与提供用于安装掩模母版的掩模母版保持器相同，掩模母版具有待成像到晶片上的结构。作为其替代，还可提供单独的测量掩模母版。特别地，测量掩模母版保持器和掩模母版保持器可彼此独立地移动。因此，测量系统的灵活性进一步增加。保持器还称为“台”。本专利技术的另一目的是改进用于投射曝光设备的物镜。该目的利用权利要求2的特征来实现。本专利技术的核心在于将度量台安装在物镜的框架上。度量台尤其直接连接至物镜框架。度量台具有至少一个位移自由度，用于移动布置在度量台上的至少一个测量装置。位移自由度可为线性自由度和/或旋转自由度。特别地，度量台可在物镜光轴的横向方向上，尤其在垂直于物镜光轴的方向上移动，和/或可在平行于物镜光轴的方向上移动，和/或可绕平行于物镜光轴的轴线旋转。该优点对应于测量系统的上述优点。优选地，多个测量装置可布置在度量台上。定位装置(尤其是度量台)和/或测量装置可被认为是物镜的元件。它们还可被认为是连接至物镜的框架而局部位于物镜之外的单独元件。定位装置优选构造为使得所述至少一个测量装置局部位于布置有物镜的光学部件的范围之外。测量装置可优选布置在物镜光路的方向上物镜的最后一个光学部件之后。优选地，所述至少一个测量装置可在至少一个测量位置和停放位置之间移动，在至少一个测量位置，该至少一个测量装置布置在物镜的光路中，在停放位置，该至少一个测量装置完全布置在物镜的光路之外。优选地，提供用于校准物镜的致动器。致动器可尤其以数据传输方式连接至布置在度量台上的所述至少一个测量装置。在该情况下，度量台形成物镜操纵器的组件，尤其用于校准物镜。换句话说，物镜可具有布置在度量台上的至少一个测量装置形式的校准装置和致动器。优选地，定位装置不与磁场相互作用。特别地，定位装置实施为使得其驱动器不对外部磁场变化有反应。该类型变化例如可通过晶片安装件的驱动器来产生。相反地，定位装置，尤其是定位装置的驱动器实施为使得其不产生磁场，尤其不影响外部磁场。特别地，这可通过以下事实来实现:定位装置具有作为驱动器的压电致动器或压电驱动器。利用该类型的压电驱动器可产生非常高的驱动力。附加地，它们可被非常精确地驱动。最后，该类型的驱动器适用于真空。从而，包含真空兼容的驱动器。这是特别有利的，因为根据权利要求7的具有度量台的物镜布置在真空室中。在真空室中的该类型布置是物镜可用于EUV投射曝光设备中的事实的前提。优选地,物镜具有至少一个可移动的平衡件(counterweight),用于补偿作用在定位装置和/或物镜上的可变力。因此，平衡件还称为补偿配重件。平衡件使得可以至少部分地补偿物镜框架上的力，由于定位装置的位移和/或测量装置或多个测量装置在定位装置上的布置的变化，该物镜框架上的力是可变的。在定位装置具有旋转自由度的情况下，这是特别有利的。补偿配重件增加了度量台的稳定性。此外，因此可以减少，尤其是防止物镜框架由于度量台的位移而变形的风险以及度量台对物镜的光学质量的损害。本专利技术的另一目的是改进用于将物场投射在像场中的投射光学单元和投射曝光设备。这些目的利用权利要求9和10的特征来实现。其优点对应于关于物镜已经描述过的那些优点。优选地，测量装置关于物镜的光路布置在物镜的最后一个光学部件和像场(尤其是晶片台)之间。如果测量装置被认为是独立于物镜的部件，则测量装置优选地布置在物镜和像场(尤其是晶片台)之间。优选地，投射曝光设备包含可移动的晶片保持器，其中具有一个或多个测量装置的度量台可独立于晶片保持器移动。因此，增加了投射曝光设备的灵活性。可独立于晶片保持器移动的度量台尤其确保并行地测量投射曝光设备的至少一个参数以及利用投射曝光设备曝光晶片。特别地，因此增加了投射曝光设备的吞吐量。本专利技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于表征投射曝光设备（1）的至少一个部件的测量系统（37），包含：a.至少一个测量装置（16），用于测量光学参数，以及b.定位装置（30），用于定位所述至少一个测量装置（16），c.其中，所述定位装置（30）以可移动的方式连接至所述投射曝光设备（1）的物镜（27）。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.06.08 DE 102011077223.5;2011.06.08 US 61/4941.一种用于表征投射曝光设备(I)的至少一个部件的测量系统(37)，包含: a.至少一个测量装置(16)，用于测量光学参数，以及 b.定位装置(30)，用于定位所述至少一个测量装置(16 )， c.其中，所述定位装置(30)以可移动的方式连接至所述投射曝光设备(I)的物镜(27)。2.一种用于投射曝光设备(I)的物镜(27)，包含: a.至少一个光学部件(26)， b.物镜安装件(28)，用于安装所述至少一个光学部件(26)，以及 c.定位装置(30)，用于保持至少一个测量装置(16 )， d.其中，所述定位装置(30)连接至所述物镜安装件(28)，以及 e.其中，所述定位装置(30)具有至少一个位移自由度，用于移动所述测量装置(16 )。3.根据权利要求2所述的物镜(27)，其特征在于，所述至少一个测量装置(16)布置在所述物镜(27)的光路方向上最后一个光学部件(26)之后。4.根据权利要求2或3所述的物镜(27)，其特征在于，所述定位装置(30)构造为使得所述至少一个测量装置(16)可以在所述物镜(27)的光路中的至少一个测量位置和停放位置之间移动，在该停放位置中，所述定位装置完全布置在所述物镜(27)的光路之外。5.根据权利要求2至4中任一项所述的物镜(27)，其特征在于用于校准所述物镜(27)的致动器(36 )，其中，所述致动器(36 )能够以数据传输方式连接至所述至少一个测量装置(16)。6.根据权利要求2至5中任一项所述的物镜(27)，其特征在于，所述定位装置(30...

【专利技术属性】
技术研发人员：M戈珀特，H海德纳，R弗赖曼，C斯特雷贝尔，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：
国别省市：