【技术实现步骤摘要】
一种设有搅拌装置的足浴盆
本技术属于足浴盆
。
技术介绍
现有足浴盆内的水一般为不活动的水，这会导致足浴盆内的药物沉淀，药物分布不均匀，水温差异大，足疗效果差。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有足浴盆内水不能流动易导致药物分布不均匀或沉淀，水温差异大，本技术提供一种设有搅拌装置的足浴盆。为了实现上述目的，本技术为解决其技术问题所采取的技术方案是:一种设有搅拌装置的足浴盆，包括盆体，盆体内设有刺激足部的按摩底板、按摩滚轮、药盒和加热装置，在所述的盆体上端设有挡水板，挡水板上设有控制面板，在所述的按摩底板的中心位置设有一搅拌装置。进一步地，所述的搅拌装置包括与盆体内部密封连接的搅拌电机，在电机的电机轴的端部设有一搅拌风叶，搅拌风叶设在盆体内部，且搅拌风叶的高度为药盒高度的一半。进一步地，还包括一风叶保护罩，所述的风叶保护罩设于搅拌风叶的外部，所述的搅拌风叶和风叶保护罩均为塑料材质制成。本技术的有益效果:本技术在盆体内设有搅拌装置使得盆体内水的流通性好，从而使得盆体内的水温均匀无差异，药物不会沉淀，足浴效果更佳。【附图说明】图1为本技术的结构示意图。【具体实施方式】为了使本技术便于理解，下面结合附图对本技术作进一步阐述。如图1所示的一种设有搅拌装置的足浴盆，包括盆体1，盆体I内设有刺激足部的按摩底板2、按摩滚轮3、药盒4和加热装置9，在所述的盆体I上端设有挡水板5，挡水板5上设有控制面板6，值得注意的是，在所述的按摩底板2的中心位置设有一搅拌装置。进一步值得注意的是，所述的搅拌装置包括与盆体I内部密封连接的搅拌电机，在电机的电机轴的端部设有一搅拌风...
【技术保护点】
一种设有搅拌装置的足浴盆，包括盆体(1)，盆体(1)内设有刺激足部的按摩底板(2)、按摩滚轮(3)、药盒(4)和加热装置(9)，在所述的盆体(1)上端设有挡水板(5)，挡水板(5)上设有控制面板(6)，其特征在于：在所述的按摩底板(2)的中心位置设有一搅拌装置。
【技术特征摘要】
1.一种设有搅拌装置的足浴盆，包括盆体(1)，盆体(1)内设有刺激足部的按摩底板(2)、按摩滚轮(3)、药盒(4)和加热装置(9)，在所述的盆体(1)上端设有挡水板(5)，挡水板(5)上设有控制面板(6)，其特征在于:在所述的按摩底板(2)的中心位置设有一搅拌装置。2.根据权利要求1所述的一种设有搅拌装置的足浴盆，其特征在于:所述的搅拌装置包括...
【专利技术属性】
技术研发人员：葛军，
申请(专利权)人：宁波美妙电器有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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