填充间隙用溶胀胶带制造技术

本发明专利技术提供了填充间隙用溶胀胶带、制备该填充间隙用溶胀胶带的方法、填充间隙的方法、电极组件以及二次电池。例如，本发明专利技术的溶胀胶带可以应用于存在流体的间隙内，从而通过变为3D形状来填充间隙，并且在必要时可用于固定其中形成有间隙的对象。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】填充间隙用溶胀胶带
本申请涉及填充间隙用溶胀胶带、制备该填充间隙用溶胀胶带的方法、填充间隙的方法、电极组件以及二次电池。
技术介绍
通常而言，在许多情况下都必须对两个间隔的对象之间所形成的间隙进行填充。并且在许多情况下都需要通过填充间隙来固定两个间隔的对象。例如，在将电极组件收纳于圆柱形壳体中以制备电池时，电极组件的尺寸通常比圆柱形壳体的尺寸要小。因此，在电极组件和壳体的内壁之间会形成间隙。在这种情况下，收纳于壳体中的电极组件可能由于外部振动或冲击而在壳体内部移动。电极组件的这种移动可能使电池中产生例如内部电阻率增大以及电极片损坏的问题，从而大幅度降低电池的性能。因此，有必要对间隙进行填充并固定电极组件。
技术实现思路
技术问题本申请提供填充间隙用溶胀胶带、制备填充间隙用溶胀胶带的方法、填充间隙的方法、电极组件以及二次电池。技术方案根据示例性实施方案，填充间隙用溶胀胶带包括基底层和在所述基底层的至少一个表面上形成的压敏粘合层。所述基底层可以是，例如，当与流体比如液体接触时具有在长度方向上变形的性质的基底层。根据ー个示例性实施方案，所述基底层可以是，例如，在与流体接触时具有在长度方向上溶胀的性质的基底层。在整个说明书中，术语“填充间隙用溶胀胶带”可以指起到填充彼此间隔开的两个对象之间的间隙，并在必要时使这两个对象彼此固定的作用的胶带。根据ー个示例性实施方案，所述溶胀胶带可以是如下胶带:在胶带通过压敏粘合层粘贴于其间形成有间隙的两个对象中的ー个上的状态下，通过压敏粘合层的固定力与基底层溶胀时(例如，当基底层与比如液体的流体接触时)所产生的力之间的相互平衡，可以实现能够填充间隙的三维(3D)形状。根据ー个示例性实施方案，间隔开来形成间隙的两个对象可以分别是电池的电极组件和被配置以收纳该电极组件的壳体，但本专利技术并不局限于此。在这种情况下，所述胶带可以是例如用于电极组件的溶胀胶带，可以用于防止电极组件的解体并且将该电极组件固定在电池的壳体内。图1为显示了溶胀胶带如何通过在间隙中变为3D形状而填充该间隙的示意图。如图1中所示，胶带(101)通过压敏粘合层而粘贴于其间形成有间隙的两个对象(103,104)中的一个对象(104)上。例如，在上述粘贴状态下将流体引入间隙中，从而接触溶胀胶带(101)的基底层并引起该基底层在长度方向上溶胀。在这种情况下，由于基底层在胶带(101)通过压敏粘合层而固定于对象(104)上的状态下发生溶胀，因此溶胀胶带(102)可以实现3D形状。间隙通过上述3D形状可以被填充，并且在必要时其间形成有间隙的两个对象(103，104)可以彼此固定。就此而言，通过所述溶胀胶带实现的3D形状的尺寸，即间隙的宽度，可以在例如0.001mm至2.0mm、0.001mm至1.0mm或0.01mm至0.5mm的范围内。3D形状的尺寸可以根据应用溶胀胶带的间隙的具体种类而变化，但本专利技术并不特别局限于此。如将于后文中描述的，根据应用溶胀胶带的间隙的尺寸而变化的3D形状的尺寸可以例如通过调节基底层的变形率或压敏粘合层的剥离强度或图案形状，例如压敏粘合区域的面积比例或压敏粘合区域之间的距离，来进行控制。在整个说明书中，术语基底层的“长度方向”可以指当所述基底层保持水平时，与该基底层的厚度方向(例如，图2或图3中所示的箭头所指示的方向)垂直的方向。在整个说明书中，术语“垂直”或“平行”可以指在不减小所需效果的情况下基本上垂直或水平，并且例如可以包括不大于±10°、不大于±5°或不大于±3°的误差。可以使用能够在基底层的平面上以某个方向(包括横向、纵向或对角线方向)发生变形的基底层而没有限制，只要该基底层具有在长度方向上变形例如溶胀的性质即可。根据ー个示例性实施方案，所述基底层由下面等式I所定义的在长度方向的变形率可以为10%或大于10%。等式I基底层在长度方向上变形率=(L2-L1)/L1X 100在等式I中，L1表示在所述基底层与流体接触前该基底层的初始长度，L2表示在室温或60°C下所述基底层与流体接触24小时后测得的该基底层的长度。对于根据等式I的计算，基底层所接触的流体的具体种类可以根据待填充间隙的具体条件而进行选择，但本专利技术并不特别局限于此。根据ー个示例性实施方案，当待填充的间隙是由电极组件和被配置以收纳该电极组件的壳体所形成的间隙时，所述流体可以是注入壳体内的液相电解质。术语“电解质”可以指用于例如电池中的离子传导介质。并且，在整个说明书中，术语“室温”可以指既不被加热也不被冷却的自然温度，例如约10°C至约30°C、约20°C至约30°C、约25°C或约23°C的温度。基底层在长度方向上的变形率例如溶胀率可以根据所要实现的3D形状的尺寸而变化，并且可以为例如30%或大于30%、40%或大于40%、50%或大于50%、60%或大于60%、70%或大于70%、80%或大于80%、或者90%或大于90%。对于基底层在长度方向上的变形率的上限没有特别限制。换句话说，变形率的值越高，可实现的3D形状越大，因此可以例如根据所需3D形状的尺寸控制变形率。例如，基底层的变形率上限可以为500%。在等式I中，L1和L2表示在基底层与流体接触前和后该基底层的长度。基底层的长度是以相对于该基底层预定的方向測量的。在这种情况下，只要以相同的方向测量长度L1和L2，则对于测量长度的具体方向没有特别限制。例如，当基底层为矩形片形状时，该基底层的长度可以是矩形片的横向、纵向或对角线长度，或是在平面上的某个方向上的长度。然而，对长度L1和L2的測量要应用相同的测量长度方向。例如，当基底层的横向长度用作L1吋，则该基底层的横向长度也用作L2。对于基底层的形状没有特别限制，可以为例如膜或片形状。并且，具有膜或片形状的基底层可以为例如四角形、圆形、三角形或无规则的形状。可以使用任何基底层用材料而没有限制，只要该材料具有上述变形率即可。根据一个示例性实施方案，所述基底层可以是聚合物膜或片。并且，该基底层可以是被制备成当该基底层在电池制备过程中的伸长或收缩条件下与流体接触时显示出如上所述的变形性质例如溶胀性质的聚合物膜或片。根据ー个示例性实施方案，可以使用含有氨基甲酸酯键、酯键或醚键，或包含纤维素酯化合物的基底层作为本专利技术的基底层。可用于此处的基底层可以包括基于丙烯酸酯的基底层、基于聚氨酯的基底层、基于环氧的基底层或基于纤维素的基底层。根据ー个示例性实施方案，可以使用由活性能量射线可固化组合物形成的浇铸层(cast layer)作为所述基于丙烯酸酷、基于聚氨酯或基于环氧的基底层。在整个说明书中，术语“浇铸层”可以指采用浇铸法对可固化组合物进行涂布并固化所涂布的层而形成的基底层。并且，术语“活性能量射线可固化组合物”可以指ー种通过用活性能量射线照射而固化的组合物。所述活性能量射线的范围可以包括例如a-粒子束、质子束、中子束或电子束的粒子束，以及微波、红外线(IR)、紫外线(UV)、X射线和Y射线。所述组合物可以例如包括活性能量射线可固化丙烯酸酯化合物和自由基可聚合稀释剂。就此而言，可以例如使用在本领域中已知作为光固化低聚物的聚氨酯丙烯酸酯作为所述活性能量射线可固化丙烯酸酯化合物。例如，可用于此处的聚氨酯丙烯酸酯可以包括包含聚异本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种填充间隙用溶胀胶带，包括：基底层，所述基底层在与流体接触时在长度方向上变形；以及压敏粘合层，所述压敏粘合层以平行于所述基底层的长度方向的方向在该基底层的一个表面上形成，且包括压敏粘合区域和非压敏粘合区域。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.04.05 KR 10-2011-0031314;2012.04.05 KR 10-201.一种填充间隙用溶胀胶带，包括: 基底层，所述基底层在与流体接触时在长度方向上变形；以及 压敏粘合层，所述压敏粘合层以平行于所述基底层的长度方向的方向在该基底层的一个表面上形成，且包括压敏粘合区域和非压敏粘合区域。2.根据权利要求1所述的填充间隙用溶胀胶带，其中，当该溶胀胶带与流体接触吋，以垂直于长度方向的方向形成高度为0.0Olmm至2.0Omm的三维结构。3.根据权利要求1所述的填充间隙用溶胀胶带，其中，根据下面的等式1，所述基底层在长度方向上的变形率为10%或大于10%: 等式I 在长度方向上变形率=(L2-L1) /L1X 100 其中，L1表示在所述基底层与流体接触前该基底层的初始长度，L2表示在室温或60°C下所述基底层与流体接触24小时后测得的该基底层的长度。4.根据权利要求1所述的填充间隙用溶胀胶带，其中，所述基底层含有氨基甲酸酯键、酯键或醚键，或包含纤维素酷化合物。5.根据权利要求1所述的填充间隙用溶胀胶带，其中，所述压敏粘合区域的面积与所述压敏粘合层表面的全部面积的比例在5%至95%的范围内。6.根据权利要求1所述的填充间隙用溶胀胶带，其中，所述压敏粘合层为包括两个或更多个压敏粘合区域的单层压敏粘合层。7.根据权利要求6所述的填充间隙用溶胀胶带，其中，所述压敏粘合区域之间的距离在0.1mm至10_的范围内。8.根据权利要求1所述的填充间隙用溶胀胶带，其中，所述压敏粘合区域或所述非压敏粘合区域布置成条纹图案，或所述压敏粘合区域和所述非压敏粘合区域形成海岛图案。9.根据权利要求1所述的填充间隙用溶胀胶带，还包含非压敏粘合材料，...

【专利技术属性】
技术研发人员：金世罗，张锡基，朱孝叔，黄闰泰，梁世雨，金俊衡，金成钟，
申请(专利权)人：LG化学株式会社，
类型：
国别省市：