【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及滤光片领域，具体涉及。
技术介绍
由于纳米材料和纳米技术相对于宏观材料的优越性和独特性，可以在诸多不同的新领域发挥出大作用，因而近些年纳米材料和纳米技术全面快速发展，从而使得越来越小的结构尺寸被制备出，同时越来越多的领域被涉及到。在纳米材料结构中，有序的孔状周期排列结构被大量研究，应用于照明显示、探测传感、光谱分析等方向。而多孔氧化铝，其孔洞以六角晶格周期有序排列，由于其简单方便的制备方法，吸引了越来越多的研究人员对其进行深入的多样化的研究。目前，多孔氧化铝的研究主要集中于对材料特性研究以及材料的物理结构应用的研究，例如纳米管的产生、孔状结构的转移、量子点结构的观察等等。但是对多孔氧化铝本身的物理性质引出的颜色效应研究较少。原子层沉积(ALD)技术是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基底上化学吸附并反应而形成薄膜的一种方法。它由芬兰科学家于20世纪70年代提出。随着90年代中期微电子和深亚微米芯片技术的发展，ALD在半导体领域的应用愈发广泛。由于ALD表面反应的自限性，理论上ALD沉积的精度可以达到原子量级。此外，相对于传统的光学薄膜沉积方式而言，ALD生长的薄膜在沉积温度、聚集密度和保形性上有着不可比拟的优势，使得利用ALD制备光学薄膜逐渐成为人们研究的热点。虽然基于多孔氧化铝和原子层沉积的结合的研究和应用不断被提出，但是通过在多孔氧化铝中使用原子层沉积填充高折射率氧化物以获取不同等效折射率的介质层从而进一步达到彩色滤光片的研究很少。而且，近年来通过微纳结构产生滤光片往往需要电子束曝光、激光直写或者纳米压印等技术实现，制...
【技术保护点】
一种基于多孔氧化铝的彩色滤光片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1）对于预期特定中心波长的彩色滤光片，通过等效层的方法，设计出与之对应的多孔氧化铝孔径和高折射率氧化物厚度；2）将洁净的铝箔电解抛光，然后清洗；3）经阳极氧化制备有序排列的多孔氧化铝；4）在有序排列的多孔氧化铝上通过原子层沉积填充不同厚度的高折射率氧化物；5）在经原子层沉积的多孔氧化铝上镀一层金属层，完成彩色滤光片的制备。
【技术特征摘要】
1.一种基于多孔氧化铝的彩色滤光片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤: 1)对于预期特定中心波长的彩色滤光片，通过等效层的方法，设计出与之对应的多孔氧化铝孔径和高折射率氧化物厚度； 2)将洁净的铝箔电解抛光，然后清洗； 3)经阳极氧化制备有序排列的多孔氧化铝； 4)在有序排列的多孔氧化铝上通过原子层沉积填充不同厚度的高折射率氧化物； 5)在经原子层沉积的多孔氧化铝上镀一层金属层，完成彩色滤光片的制备。2.根据权利要求1所述的基于多孔氧化铝的彩色滤光片的制备方法，其特征在于，步骤2)中，所述洁净的铝箔分别经丙酮、乙醇中脱脂去油以及水洗后制备。3.根据权利要求1所述的基于多孔氧化铝的彩色滤光片的制备方法，其特征在于，步骤2)中，所述电解抛光的条件为:在由体积比为1:2?4的H4ClO4和无水乙醇形成的混合溶液中，电压14?20V,温度5?15°C,时间I?5min。4.根据权利要求1所述的基于多孔氧化铝的彩色滤光片的制备方法，其特征在于，步骤3)中，经阳极氧化制备有序排列的多孔氧化铝，包括:a)第一次阳极氧化:以0.1?0.5mol/L的草酸水溶液为电解液，控制氧化电极电压稳定在20?60V，氧化5?15h，氧化后清洗山)第二次阳极氧化:先在H3PO4和H2CrCV混合水溶液中浸泡以去除第一次阳极氧化生成的氧化层，然后清洗，再次放入0.1?0.5mol/L的草酸水溶液中电解氧化，电解氧化时间由所需孔深确定，多孔氧化铝的孔径由氧化电极电压确定，氧化...
【专利技术属性】
技术研发人员：沈伟东，杨陈楹，章岳光，叶志杰，张兴，李衎，陈贝石，刘旭，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：
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