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真空吸嘴制造技术

技术编号:9683518 阅读:216 留言:0更新日期:2014-02-15 12:46
本实用新型专利技术公开了一种真空吸嘴,其特征在于:包括压头(2),所述压头(2)中设置有吸头(4),所述吸头(4)的前端延伸至所述压头(2)的外部,所述吸头(4)的前端具有一吸附面(6),所述吸头(4)的内部具有至少一个贯穿所述吸头(4)并与所述吸附面(6)连通的吸引孔(8),所述压头(2)中具有与所述吸引孔(8)相通的吸孔(10)。本实用新型专利技术的真空吸嘴不会压伤芯片表面,同时具有使用寿命长、能够满足小尺寸加工,且易于安装和更换的优点。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
真空吸嘴
本实验新型涉及一种吸嘴,尤其涉及一种真空吸嘴,具体适用于半导体芯片的吸取。
技术介绍
吸嘴,特别是真空吸嘴是一种较常见的器件,被广泛的应用于半导体封装技术或贴片技术中,其作用在于吸取半导体芯片或者电子元件并将其转移到特定位置。使用时,吸嘴安装在粘片设备上,并在粘片设备的控制下,吸嘴与半导体芯片或者电子元件直接接触,利用真空原理吸取半导体芯片或电子元件,最终完成转移和放置等一系列动作。实际使用中,使用者通常根据产品的应用要求采用不同的吸嘴,例如:在MOS集成电路中,由于电路集成度高、电路复杂,且吸附温度多为室温,因此硬度偏软、弹性好、对芯片损伤小、结构简单、更换快捷的橡胶吸嘴则被广泛采用,然而,这种吸嘴却存在磨损快、寿命短的缺陷与问题,同时因材料的局限性而无法满足小尺寸的加工和应用;再如:吸取产品为二极管、三极管时,此类电路简单、芯片尺寸小、吸附温度范围从室温到420°C,因此硬度高、耐磨性好的聚酰亚胺工程塑料、陶瓷或钨钢材料制成的吸嘴则被广泛采用,然而,这种吸嘴由于硬度高,所以易在芯片表面形成划痕或对芯片造成压伤,并且更换时需要整体装卸和调节,因此,还存在装卸较麻烦的缺陷与问题。综上所述,现有的真空吸嘴存在磨损快、寿命短、无法满足小尺寸加工需求或因硬度过高易造成芯片损伤或装卸较麻烦的缺陷与问题。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种不会压伤芯片表面、使用寿命长、可满足小尺寸的加工,且易于安装和更换的真空吸嘴。为解决上述技术问题,本技术提供一种真空吸嘴,包括压头,所述压头中设置有吸头,所述吸头的前端延伸至所述压头的外部,所述吸头的前端具有一吸附面,所述吸头的内部具有至少一个贯穿所述吸头并与所述吸附面连通的吸引孔,所述压头中具有与所述吸引孔相通的吸孔。所述吸引孔的直径小于所述吸孔的直径。所述压头为橡胶压头。所述吸头为工程塑料吸头。与现有技术相比,本技术的有益效果为:1.由于本技术的真空吸头由压头和吸头两部分组成,使用时压头可缓冲吸头对芯片或者电子元件的压力,同时也能减少切割硅屑对吸头的嵌入伤害,所以不仅能够防止吸头压伤芯片表面,还能延长吸头的使用寿命,因此本技术不会压伤芯片表面,且使用寿命较长。2.由于本技术的真空吸头由压头和吸头两部分组成,从而便于加工,特别是小尺寸的加工,且便于安装和更换。【附图说明】图1为本技术第一实施例的结构示意图;图2为本技术第二实施例的结构示意图;图中:压头2,吸头4,吸附面6,吸引孔8,吸孔10。【具体实施方式】以下结合附图和【具体实施方式】对本技术做进一步详细说明第一实施例:参见图1所示,本技术的一种真空吸头,包括压头2和固定在压头2中的吸头4,吸头4的前端延伸至压头2的外部,且吸头4的前端具有一吸附面6,吸头4的内部具有至少一个贯穿吸头4并与吸附面6连通的吸引孔8,实际实用中,可根据产品的外形尺寸设置吸引孔8的数量,压头2中设置有与吸引孔相通的吸孔10。制作时,压头2优选丁晴类橡胶硫化模压成型,也可采用硅胶类或热塑橡胶;而吸头4优选采用聚酰亚胺工程塑料制作,也可采用其它材料,如陶瓷及金属材料,为便于加工,简化制作工艺,吸孔10的直径大于吸引孔8的直径。压头2为一体结构,同时具有相互连接的圆柱部和锥台部,锥台部上开设有安装吸头4的安装孔,吸头4的安装部位于安装孔内,前端延伸至安装孔的外部,吸附面6位于吸头的前端,特别之处在于吸头4上位于压头2外部的延伸部呈锥台状。第二实施例:第二实施例与第一实施例相比基本相同,区别紧在于吸头4的形状,具体是吸头4上位于压头2外部的延伸部除锥台部外还具有与压头2相接触的圆柱部。综上所述,本技术的真空吸嘴不会压伤芯片表面,同时具有使用寿命长、能够满足小尺寸加工,且易于安装和更换的优点。以上所述仅为本技术的较佳实施方式,本技术的保护范围并不以上述实施方式为限,但凡本领域普通技术人员根据本技术所揭示内容所作的等效修饰或变化,皆应纳入权利要求书中记载的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空吸嘴,其特征在于:包括压头(2),所述压头(2)中设置有吸头(4),所述吸头(4)的前端延伸至所述压头(2)的外部,所述吸头(4)的前端具有一吸附面(6),所述吸头(4)的内部具有至少一个贯穿所述吸头(4)并与所述吸附面(6)连通的吸引孔(8),所述压头(2)中具有与所述吸引孔(8)相通的吸孔(10)。

【技术特征摘要】
2013.01.15 CN 201320018213.81.一种真空吸嘴,其特征在于:包括压头(2),所述压头(2)中设置有吸头(4),所述吸头(4)的前端延伸至所述压头(2)的外部,所述吸头(4)的前端具有一吸附面(6),所述吸头(4)的内部具有至少一个贯穿所述吸头(4)并与所...

【专利技术属性】
技术研发人员:马光远
申请(专利权)人:马光远
类型:实用新型
国别省市:

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