真空保持阀门及利用该装置的扫描电子显微镜制造方法及图纸

技术编号:9664571 阅读:126 留言:0更新日期:2014-02-13 23:11
本发明专利技术提供真空保持阀门及利用该装置的扫描电子显微镜。本发明专利技术的真空保持阀门通过密封形成在腔室上的开口部,将腔室内部保持真空,其特征在于,包括:主体部,从外部接收动力而沿着腔室的壁面进行并进运动;止挡部,位于腔室上,具备旋转辊;阀门部,在与主体部连接的状态下移动,其一面与旋转辊接触,从而其移动方向转换为开口部侧方向或者远离开口部的方向中的一个方向而开闭腔室;旋转构件,在主体部上与旋转辊相对配置,当止挡部和阀门部接触时接触阀门部的另一面,以引导阀门部的移动方向。由此,本发明专利技术提供一种通过旋转辊和旋转构件引导阀门部的运动,以防止主体部的前进或者后退时发生的冲击,从而能够抑制粉尘产生。

【技术实现步骤摘要】
真空保持阀门及利用该装置的扫描电子显微镜
本专利技术涉及一种真空保持阀门及利用该装置的电子显微镜,特别涉及一种保持镜筒内部真空的同时,还能防止阀门开闭时产生颗粒的真空保持阀门及利用该装置的电子显微镜。
技术介绍
最近,不仅因为信息设备的极小化趋势,在尖端材料领域中也由于极微细技术产业化,切实要求有关微细结构物或者材料表面形象的信息。特别是,从1990年代后半期开始,随着全世界对纳米研究的活跃,人们进行查明纳米物质结构与特性的研究,而电子显微镜在此担当着非常重要的核心作用。真空显微镜的镜筒内部为了保护用于防止光线散射并产生电子的细丝需要保持真空,要保持10,?10_8的高真空。为此使用开闭镜筒的光线投入口的真空保持阀门。图1是概略表示以往的真空保持阀门的主视图。以往的真空保持阀门I包括腔室10、主体部20、阀门部30、密封部31、止挡部40和板簧50。如图1所示,所述阀门部30通过板簧50与所述主体部20连接,在与所述主体部20相连的状态下通过气缸12向左侧移动并与所述止挡部40相冲撞。在冲撞时,利用形成在止挡部40外表面的轴钉41,阀门部30沿着阀门部30的倾斜面向开口部侧移动。以往的这种技术,由于阀门部30同轴钉41的冲撞,阀门部30的一部分破碎而导致粉尘产生或阀门部30受损。而且,由于主体部20和阀门部30之间频频发生冲撞,导致粉尘产生或者主体部20或阀门部30受损。这一粉尘的产生会污染腔室内部的真空状态,并与光源产生的电子冲撞而破损光源。另外,由于通过板簧50连接主体部20和阀门部30,主要由板簧50来控制阀门部30开闭开口部11的过程。在这一控制过程中难以调节板簧50的弹力,并且板簧50的变形越大越存在产生粉尘这一问题。而且,与主体部20结合而运动的阀门部30的并进运动受气缸12的支配。在密封部31与腔室10的壁面接触的状态下阀门部30也会前进或者后退,因此存在由于摩擦而密封部31受损或者产生粉尘这一问题。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题提出的,其目的在于提供一种真空保持阀门及利用该装置的扫描电子显微镜。该真空保持阀门及扫描电子显微镜以在开闭阀门时缓和止挡部和阀门部冲撞时发生的冲击,并进行与主体部的运动分开的另一运动的方式配置有阀门部,使密封部不会沿着腔室的壁面滑动,以抑制粉尘产生。而且,本专利技术的目的在于提供一种真空保持阀门及利用该装置的扫描电子显微镜。该真空保持阀门及扫描电子显微镜同时支撑阀门部中相对的面,使投光口均匀密封,从而能够保持闻真空。[0011 ] 为了实现如上所述目的,本专利技术提供一种真空保持阀门。该真空保持阀门通过密封形成在腔室上的开口部,将腔室内部保持真空,其特征在于,包括:主体部,从外部接收动力而沿着所述腔室的壁面进行并进运动;止挡部,位于所述腔室上,具备旋转辊;阀门部,在与所述主体部连接的状态下移动,其一面与所述旋转辊接触,从而其移动方向转换为所述开口部侧方向或者远离所述开口部的方向中的一个方向而开闭所述腔室;旋转构件,在所述主体部上与所述旋转辊相对配置,当所述止挡部和所述阀门部接触时接触所述阀门部的另一面,以引导所述阀门部的移动方向。在此,在所述阀门部与所述旋转辊及所述旋转构件接触时,当所述旋转辊和所述旋转构件的相隔距离缩短时,所述阀门部可向所述开口部侧接近,当所述旋转辊和所述旋转构件的相隔距离增大时,所述阀门部可远离所述开口侧。而且,阀门部的与旋转辊接触的表面可为越是朝向开口部侧越会偏向止挡部侧倾斜,以使阀门部在与旋转辊接触时,向开口部侧移动。在此,主体部的端部可向阀门部的上侧突出,并形成有狭槽,用于在阀门部与旋转辊接触时,引导阀门部向主体部的移动方向的相反方向运动,且可进一步包括连接部,连接部的一侧在收容于狭槽内的状态下,当开放腔室时偏向位于止挡部侧,当密封腔室时偏向位旋转构件侧,另一侧插入于阀门部并连接主体部和阀门部。而且,连接部可包括:轴构件,在插入阀门部侧的端部上形成有凹凸部;弹性构件,沿着所述轴构件的外周面而配设,并与所述凹凸部接触,当密封所述腔室时被压缩,当开放所述腔室时被拉伸。在此,可进一步包括缓冲构件,配置在主体部和阀门部之间,用于缓冲由于弹性构件拉伸时产生的恢复力而产生的冲击。而且,可进一步包括密封部,配置在阀门部的下面,当密封腔室时密封部处于腔室壁面和阀门部之间。在此,腔室可进一步包括彼此间隔开配置的一对导向部,用于使所述主体部能够通过。而且,本专利技术的目的在于提供一种扫描电子显微镜。其特征在于包括:光源;腔室,用于收容光源并形成有开口部;上述第一项至第八项的任一项所述的真空保持阀门,用于密封腔室;聚光镜,用于将从光源发射的电子束聚焦成一点;光圈,用于改变通过聚光镜的光线波长;物镜,用于使被光圈改变了波长的光线通过;镜筒,用于收容腔室、真空保持阀门、聚光镜、光圈及物镜;以及载物台,用于支撑试样。在此,可进一步包括检测部,配置在所述真空保持阀门的上方,用于检测从所述光源发射的电子束量。根究本专利技术,提供一种真空保持阀门及利用该装置的扫描电子显微镜。该真空保持阀门及扫描电子显微镜通过旋转辊和旋转构件引导阀门部的运动,防止主体部前进或者后退时发生的冲击,以抑制粉尘发生。而且,由于阀门部和主体部通过连接部连接,阀门部和主体部之间配置缓冲构件,从而防止阀门部和主体部的接触,故能够抑制接触导致的粉尘的产生。而且,在阀门部的下面设有密封部,防止外部空气流入,从而能够保持腔室内部的闻真空。而且,沿着形成在主体部上的狭槽可移动地配置有连接部,因此在密封腔室时防止密封部从腔室壁面滑动,从而能够防止由于摩擦而在密封部产生粉尘或者密封部破损。而且,当密封腔室时,通过旋转构件和旋转辊支撑阀门部的两个侧面,并均匀地下压密封部,故在高真空下也能够保持遮蔽。而且,导向部以主体部为中心相隔配置,因此能够防止主体部的移动路径脱离。【附图说明】图1是概略表示以往的扫描电子显微镜中保持腔室真空的真空保持阀门的主视图。图2是概略表示本专利技术的第一实施例的真空保持阀门的立体图。图3是概略表示图2所示真空保持阀门的分解立体图。图4是概略表示图2所示真空保持阀门中腔室开口部打开状态的剖视图。图5是概略表示图2所示真空保持阀门中腔室开口部封闭状态的剖视图。图6是概略表示图2所示真空保持阀门中阀门部工作的剖视图。图7是概略表示包括本专利技术第二实施例的真空保持阀门的扫描电子显微镜的剖视图。符号说明100:真空保持阀门 110:主体部`120:阀门部130:密封部140:连接部150:止挡部160:旋转构件170:缓冲构件180:导向部200:扫描电子显微镜210:光源 220:真空保持阀门230:腔室 240:聚光镜250:光圈 260:物镜270:镜筒 280:载物台290:检测部【具体实施方式】在详细说明本专利技术之前需要强调的是,在以下多个实施例中,对于具有相同结构的结构要素,采用相同符号在第一实施例中代表性地加以说明,而在其他实施例中只说明不同于第一实施例的其他结构。下面,参照附图详细说明本专利技术的第一实施例的真空保持阀门100。图2是概略表示本专利技术的第一实施例的真空保持阀门的立体图,图3是概略表示图2所示真空保持阀门的分解立体图,图4是概略表示图2所示真空保持阀门中腔室开口部打开状态的本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种真空保持阀门,通过密封形成在腔室上的开口部,将腔室内部保持真空,其特征在于,包括:主体部,从外部接收动力而沿着所述腔室的壁面进行并进运动;止挡部,位于所述腔室上,具备旋转辊;阀门部,在与所述主体部连接的状态下移动,其一面与所述旋转辊接触,从而其移动方向转换为所述开口部侧方向或者远离所述开口部的方向中的一个方向而开闭所述腔室;旋转构件,在所述主体部上与所述旋转辊相对配置,当所述止挡部和所述阀门部接触时接触所述阀门部的另一面,以引导所述阀门部的移动方向。

【技术特征摘要】
2012.07.23 KR 10-2012-00800951.一种真空保持阀门,通过密封形成在腔室上的开口部,将腔室内部保持真空,其特征在于,包括: 主体部,从外部接收动力而沿着所述腔室的壁面进行并进运动; 止挡部,位于所述腔室上,具备旋转辊; 阀门部,在与所述主体部连接的状态下移动,其一面与所述旋转辊接触,从而其移动方向转换为所述开口部侧方向或者远离所述开口部的方向中的一个方向而开闭所述腔室; 旋转构件,在所述主体部上与所述旋转辊相对配置,当所述止挡部和所述阀门部接触时接触所述阀门部的另一面,以引导所述阀门部的移动方向。2.根据权利要求1所述的真空保持阀门,其特征在于, 在所述阀门部与所述旋转辊及所述旋转构件接触时,当所述旋转辊和所述旋转构件的相隔距离缩短时,所述阀门部向所述开口部侧接近,当所述旋转辊和所述旋转构件的相隔距离增大时,所述阀门部远离所述开口侧。3.根据权利要求1所述的真空保持阀门,其特征在于, 所述阀门部的与所述旋转辊接触的表面越是朝向开口部侧越偏向止挡部侧倾斜,以使所述阀门部在与所述旋转辊接触时,向所述开口部侧移动。4.根据权利要求3所述的真空保持阀门,其特征在于, 所述主体部的端部向所述阀门部的上侧突出,并形成有狭槽,用于在所述阀门部与旋转辊接触时,引导所述阀门部向所述主体部的移动方向的相反方向运动, 且进一步包括连接部,所述连接部的一侧在收容于狭槽内的状态下,当开放所述腔室时偏向位于所述止挡...

【专利技术属性】
技术研发人员:李行三金锡李义杓
申请(专利权)人:SNU精度株式会社
类型:发明
国别省市:

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