一种光掩模板贴膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种光掩模板贴膜装置，所述光掩模板贴膜装置至少包括：底座；可调支架，设于所述底座上，且所述可调支架的中心具有一容置空间；用来放置待贴保护膜的膜片槽，设于所述容置空间内；用于支撑光掩模板的弹性支点，设于所述可调支架上；活动压板，压于所述光掩模板上；所述活动压板包括：至少两个压条、第一压板和第二压板。通过活动压板压于光掩模板上，使光掩模板表面为机械受力且受力较为均匀，防止光掩模板与膜框之间出现缝隙；另外，由于手指不直接接触光掩模板，光掩模板上无手指印，外观美观，而且利用该贴膜装置进行贴膜工艺，工艺受控，成品率也高。该光掩模板贴膜装置结构简单，适合工业化应用。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
一种光掩模板贴膜装置
本技术涉及半导体
，特别是涉及一种光掩模板贴膜装置。
技术介绍
光刻工艺是半导体器件制造过程中非常重要的一道工序，所谓光刻工艺就是将光掩模板上的图案转移到晶圆上的过程。光掩模板是在玻璃或石英板底板表层镀铬，加工完成后，在光掩模板的表面上形成半导体器件的电路图形。随着投影光刻机的发展，光掩模板的使用寿命得到很大的延长，这也促进了高质量的光掩模板的发展。但是，在生产线上，光掩模板使用一段时间后，光掩模板上可能或有灰尘和划痕，曝光时这些灰尘和划痕会产生影像，导致晶圆上产生缺陷，造成晶圆良品率降低。通常，光掩模板上会架设一层保护的薄膜，这层薄膜是一层在框架上拉伸平铺的无色有机聚合物薄膜，光掩模板上贴上薄膜之后，环境中的灰尘就会附着在薄膜表面，薄膜通过框架与光掩模板保持一定的距离，保证了灰尘不会在光掩模板的焦平面上，灰尘对于曝光光源来说是透明的。因此，在光掩模板表面贴装保护膜非常重要，这也是光掩模板出货前的最后一道工序，现有的3*5吋的光掩模板贴膜装置如图1和图2所示，其中，图1为现有光掩模板贴膜装置的俯视图，图2为现有光掩模板贴膜装置的右视图。现有的光掩模板贴膜装置的结构至少包括:底座1A、可调支架2A、膜片槽3A和弹性支点4A。首先，先把保护膜放入到膜片槽3A中，膜面朝下，膜框朝上；然后，把光掩模板6A放置到可调支架2A上的弹性支点4A上；接着，通过调节可调支架2A上的旋钮22A来调节支架的位置，使光掩模板6A和膜框的对准标记重合；最后双手按住光掩模板6A的上下两边，用力往下压并保持一定的时间，使膜框上的胶与光掩模板6A粘合。使用现有的贴膜装置完成的贴膜，由于是手工操作，用力的大小和均匀性不同，膜框和光掩模板之间会有出现缝隙，导致灰尘进入光掩模板，影响产品生产良率，并且手工贴膜后光掩模板的四个边角上会留有非常明显的手指印，影响产品的美观。因此，提供一种改进的光掩模板贴膜装置实属必要。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种光掩模板贴膜装置，用于解决现有技术中贴膜后光掩模板上留有手指印、膜框和光掩模板之间由于受力不均产生间隙的问题。为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种光掩模板贴膜装置，所述光掩模板贴膜装置至少包括:底座；可调支架，设于所述底座上，且所述可调支架的中心具有一容置空间；用来放置待贴保护膜的膜片槽，设于所述容置空间内；用于支撑光掩模板的弹性支点，设于所述可调支架上；活动压板，压于所述光掩模板上。优选地，所述底座包括支撑腿和设于所述支撑腿上的工作台。优选地，所述弹性支点为压缩弹簧。优选地，所述保护膜包括膜面和膜框，所述膜面粘结在膜框底部；所述膜框顶部涂有胶且与待贴膜的光掩模板对准。优选地，所述活动压板包括:至少两个压条、第一压板和第二压板；所述压条固定于所述第一压板的下表面边缘；所述第二压条固定于第一压条的下表面。优选地，每一个压条的下表面为斜面，所述斜面压于光掩模板上表面边缘的棱边上；所述斜面的倾斜角为α，0° < α <90°。优选地，所述斜面的倾斜角α为15 °。 优选地，所述压条的材料为聚四氟乙烯。优选地，所述第二压板的一端设有限位部件，另一端与所述底座固定连接；所述第二压板与底座连接的一端上还设有旋转轴。[0021 ] 优选地，所述第一压板和第二压板均为合金材质。如上所述，本技术提供的光掩模板贴膜装置，至少包括:底座；可调支架，设于所述底座上，且所述可调支架的中心具有一容置空间；用来放置待贴保护膜的膜片槽，设于所述容置空间内；用于支撑光掩模板的弹性支点，设于所述可调支架上；活动压板，压于所述光掩模板上。通过活动压板压于光掩模板上，使光掩模板表面为机械受力且受力较为均匀，防止光掩模板与膜框之间出现缝隙；另外，由于手指不直接接触光掩模板，光掩模板上无手指印，外观美观，而且利用该贴膜装置进行贴膜工艺，工艺受控，成品率也高。该光掩模板贴膜装置结构简单，适合工业化应用。【附图说明】图1为现有技术中的光掩模板贴膜装置的俯视图。图2为现有技术中的光掩模板贴膜装置的右视图。图3为本专利技术的光掩模板贴膜装置中待贴的保护膜结构侧视图。图4为本专利技术的光掩模板贴膜装置中待贴的保护膜结构俯视图。图5为本专利技术的光掩模板贴膜装置的俯视图。图6为本专利技术的光掩模板贴膜装置的右视图。元件标号说明I, IA底座2, 2Α可调支架21容置空间22，22Α 旋钮3，3Α膜片槽31对准孔4，4Α弹性支点5活动压板51压条52第一压板53第二压板531限位部件532旋转轴6, 6A光掩模板7定位销8保护膜81膜面82膜框【具体实施方式】以下由特定的具体实施例说明本技术的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其他优点及功效。请参阅附图。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本技术所能产`生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本技术所揭示的
技术实现思路
得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本技术可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更
技术实现思路
下，当亦视为本技术可实施的范畴。如图5和图6所示，本技术提供一种光掩模板贴膜装置，所述光掩模板贴膜装置至少包括:底座1、可调支架2、膜片槽3、弹性支点4、及活动压板5。优选地，所述底座I包括支撑腿和工作台，所述工作台设于支撑腿上。所述可调支架2设于所述底座I上，进一步地，所述可调支架2设于所述底座2的工作台上，并且所述可调支架2的中心具有一容置空间21，如图5所示。优选地，在可调支架2上还设有定位销7，可防止光掩模板6掉落。在所述可调支架2的侧面还装设有用于调节可调支架2的的旋钮22，通过调节旋钮22使可调支架2在底座I的工作台上移动，直至可调支架2达到所需的位置。所述膜片槽3用来放置待贴保护膜8，且所述膜片槽3设于所述可调支架2中心的容置空间21内。所述保护膜8包括膜面81和膜框82，如图3和图4所示，所述膜面81朝下，粘结在膜框82底部，所述膜框82顶部涂有胶且与待贴膜的光掩模板6对准。所述膜片槽3中还具有两个对准孔31，用于后续使膜片槽3上的膜框82与光掩模板6位置对准。所述弹性支点4设于所述可调支架2上，用于支撑光掩模板6。优选地，所述弹性支点4包括但不限于压缩弹簧，也可以是其他合适的弹性部件。本实施例中，所述弹性支点4为压缩弹簧。所述活动压板5压于所述光掩模板6上。进一步地，所述活动压板5包括:至少两个压条51、第一压板52和第二压板53。其中，所述压条51固定于所述第一压板52的下表面边缘，当活动压板5压于光掩模板6上时，压条51直接和光掩模板6的上表面边缘接触。更进一步地，每一个压条51的下表面为斜面，所述斜面压于光掩模板6上表面边缘的棱边上；所述斜面的倾斜角为α，其中，0° < α <90°，如图6所示。本实施例中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光掩模板贴膜装置，用于在光掩模板表面贴装保护膜，其特征在于，所述光掩模板贴膜装置至少包括：底座；可调支架，设于所述底座上，且所述可调支架的中心具有一容置空间；用来放置待贴保护膜的膜片槽，设于所述容置空间内；用于支撑光掩模板的弹性支点，设于所述可调支架上；活动压板，压于所述光掩模板上。

【技术特征摘要】
1.一种光掩模板贴膜装置，用于在光掩模板表面贴装保护膜，其特征在于，所述光掩模板贴膜装置至少包括: 底座； 可调支架，设于所述底座上，且所述可调支架的中心具有一容置空间； 用来放置待贴保护膜的膜片槽，设于所述容置空间内； 用于支撑光掩模板的弹性支点，设于所述可调支架上； 活动压板，压于所述光掩模板上。2.根据权利要求1所述的光掩模板贴膜装置，其特征在于:所述底座包括支撑腿和设于所述支撑腿上的工作台。3.根据权利要求1所述的光掩模板贴膜装置，其特征在于:所述弹性支点为压缩弹簧。4.根据权利要求1所述的光掩模板贴膜装置，其特征在于:所述保护膜包括膜面和膜框，所述膜面粘结在膜框底部；所述膜框顶部涂有胶且与待贴膜的光掩模板对准。5.根据权利要求1所述的光掩模板贴膜装置，其特征在于:所述活动压板包...

【专利技术属性】
技术研发人员：凌震军，
申请(专利权)人：上海凸版光掩模有限公司，
类型：实用新型
国别省市：