本发明专利技术公开了一种彩膜基板、其制作方法、内嵌式触摸屏及显示装置，由于在黑矩阵与触控电极层之间新增一层第一正性光刻胶层，这样可以将黑矩阵与触控电极层进行隔离，从而可以避免在对黑矩阵进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响；在触控电极层与彩色树脂层之间新增一层第二正性光刻胶层，这样可以将触控电极层与彩色树脂层进行隔离，从而可以避免在对彩色树脂层进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响，从而避免触控电极层出现短路或断路的问题，保证了触控品质。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种彩膜基板、其制作方法、内嵌式触摸屏及显示装置，由于在黑矩阵与触控电极层之间新增一层第一正性光刻胶层，这样可以将黑矩阵与触控电极层进行隔离，从而可以避免在对黑矩阵进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响；在触控电极层与彩色树脂层之间新增一层第二正性光刻胶层，这样可以将触控电极层与彩色树脂层进行隔离，从而可以避免在对彩色树脂层进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响，从而避免触控电极层出现短路或断路的问题，保证了触控品质。【专利说明】一种彩膜基板、其制作方法、内嵌式触摸屏及显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板、其制作方法、内嵌式触摸屏及显示装置。
技术介绍
触摸屏按照组成结构可以分为:外挂式触摸屏(Add on Mode Touch Panel)、覆盖表面式触摸屏(On Cell Touch Panel)、以及内嵌式触摸屏(In Cell Touch Panel)。其中，内嵌式触摸屏将触摸屏的触控电极层内嵌在液晶显示屏内部，可以减小模组整体的厚度，降低触摸屏的制作成本。目前，内嵌式触摸屏将触控电极层设置在彩膜基板一侧，如图1所示的彩膜基板，包括衬底基板1，位于衬底基板I上的黑矩阵2 (黑色阴影部分)，位于黑矩阵2上的触控电极层3(斜线阴影部分)，以及位于触控电极层3上的彩色树脂层4，图1是图2沿AA方向的剖面图。在对黑矩阵2和彩色树脂层4进行构图的过程中，需先涂覆一层负性光刻胶，然后经过曝光、显影、刻蚀、剥离等处理得到黑矩阵2和彩色树脂层4的图案，其中，显影液为无机物氢氧化钾(KOH);在对触控电极层3进行构图的过程中，需先涂覆一层正性光刻胶，例如DQN (DQ为重氮醌，N为酚醛树脂)，然后经过曝光、显影、刻蚀、剥离处理得到触控电极层3的图案。通过实际测试得知，在对黑矩阵2与彩色树脂层4进行构图时使用到的显影液会对触控电极层3产生影响，导致触控电极层3容易出现短路或断路的问题，最终影响内嵌式触摸屏的触控品质。 其中，具体测试采用的是PE探针测试方法，在位于彩膜基板上、且与触控电极相连的各接线端子(如图1la所示的GND、R1-R12)中任意选取两个接线端子，测量它们之间的电阻值，图1lb和图1lc示出了针对上述各接线端子进行两次测试得到的电阻值，各接线端子之间的电阻值均小于3ΜΩ，证明与触控电极相连的各接线端子之间确实存在短路的问题。因此，如何避免在对黑矩阵与彩色树脂层进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响，是本领域技术人员亟需解决的技术问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提供一种彩膜基板、其制作方法、内嵌式触摸屏及显示装置，用以避免在对黑矩阵与彩色树脂层进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响。因此，本专利技术实施例提供了一种彩膜基板，包括衬底基板，位于所述衬底基板上的黑矩阵，位于所述黑矩阵上的触控电极层，以及位于所述触控电极层上的彩色树脂层，还包括:位于所述黑矩阵与所述触控电极层之间的第一正性光刻胶层；和/或，位于所述触控电极层与所述彩色树脂层之间的第二正性光刻胶层。本专利技术实施例提供的上述彩膜基板，由于在黑矩阵与触控电极层之间新增一层第一正性光刻胶层，这样可以将黑矩阵与触控电极层进行隔离，从而可以避免在对黑矩阵进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响；在触控电极层与彩色树脂层之间新增一层第二正性光刻胶层，这样可以将触控电极层与彩色树脂层进行隔离，从而可以避免在对彩色树脂层进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响，从而避免触控电极层出现短路或断路的问题，保证了触控品质。较佳地，所述触控电极层具有的图案在所述衬底基板上的正投影在所述黑矩阵的图案所在区域内。进一步地，所述第一正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案；或，所述第一正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案。进一步地，所述第二正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案；或，所述第二正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案。本专利技术实施例还提供了一种内嵌式触摸屏，包括本专利技术实施例提供的上述彩膜基板。本专利技术实施例还提供了一种显示装置，包括本专利技术实施例提供的上述内嵌式触摸屏。针对本专利技术实施例提供的上述彩膜基板的实施方式，本专利技术实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括:在衬底基板上形成包括黑矩阵的图案，在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成包括触控电极层的图案，在形成有所述触控电极层的衬底基板上形成包括彩色树脂层的图案，还包括:在形成所述黑矩阵的图案之后且在形成所述触控电极层的图案之前，形成第一正性光刻胶层；和/或，在形成所述触控电极层的图案之后且在形成所述彩色树脂层的图案之前，形成第二正性光刻胶层。在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，所述在衬底基板上形成包括黑矩阵的图案，具体包括:利用负性光刻胶采用构图工艺形成包括黑矩阵的图案； 所述在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成包括触控电极层的图案，具体包括:利用正性光刻胶采用构图工艺形成包括触控电极层的图案；所述在形成有所述触控电极层的衬底基板上形成包括彩色树脂层的图案，具体包括:利用负性光刻胶采用构图工艺形成包括彩色树脂层的图案。较佳地，所述触控电极层具有的图案在所述衬底基板上的正投影在所述黑矩阵的图案所在区域内。进一步地，所述第一正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案，或所述第一正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案；所述第二正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案，或所述第二正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案。【专利附图】【附图说明】图1为现有技术中彩膜基板的结构示意图之一；图2为现有技术中彩膜基板的结构示意图之二 ；图3为本专利技术实施例提供的彩膜基板的结构示意图之一；图4为本专利技术实施例提供的彩膜基板的结构示意图之二 ；图5为本专利技术实施例提供的彩膜基板的结构示意图之三；图6为本专利技术实施例提供的彩膜基板的结构示意图之四；图7为本专利技术实施例提供的彩膜基板的结构示意图之五；图8为本专利技术实例一中的彩膜基板的制作方法的流程图；图9为本专利技术实例二中的彩膜基板的制作方法的流程图；图10为本专利技术实例三中的彩膜基板的制作方法的流程图；图1la为现有技术中彩膜基板上与触控电极相连的各接线端子示意图；图1lb和图1lc为现有技术中彩膜基板上与触控电极相连的各接线端子之间的电阻值；图1ld为本专利技术实施例提供的彩膜基板上与触控电极相连的各接线端子之间的电阻值。【具体实施方式】下面结合附图，对本专利技术实施例提供的彩膜基板、其制作方法、内嵌式触摸屏及显示装置的【具体实施方式】进行详细地说明。附图中各膜层的形状和厚度不反映彩膜基板的真实比例，目的只是示意说明本
技术实现思路
。本专利技术实施例提供的一种彩膜基板，如图3所示，包括衬底基板1，位于衬底基板I上的黑矩阵2，位于黑矩阵2上的触控电极层3，以及位于触控电极层3上的彩色树脂层4，还包括:位于黑矩阵2与触控电极层3之间的第一正性光刻胶层5 ;和/或，位于触控电极层3与彩色树脂层4之间的第二正性光刻胶层6。图3是以在黑矩阵2与触控电极层3之间设置有第一正性光刻胶层5，且在触控电极层3与彩色树脂层4之间同时设置有第二正性光刻本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种彩膜基板，包括衬底基板，位于所述衬底基板上的黑矩阵，位于所述黑矩阵上的触控电极层，以及位于所述触控电极层上的彩色树脂层，其特征在于，还包括：位于所述黑矩阵与所述触控电极层之间的第一正性光刻胶层；和/或，位于所述触控电极层与所述彩色树脂层之间的第二正性光刻胶层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王灿，陈宁，刘英伟，高浩然，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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