一种标定位移平台线性度的方法及系统技术方案

技术编号:9596124 阅读:96 留言:0更新日期:2014-01-23 01:42
本发明专利技术公开了一种标定位移平台线性度的方法及系统,在激光成像系统中使用,包括:第1步,第一图像采集设备获取标定尺上第一固定图形位置进行定位,获取所述第一图像采集设备的位置坐标;第2步,第二图像采集设备从相邻所述第一固定图形的第二固定图形起始,沿同一方向依次获取所述标定尺上的固定图形位置进行定位,依次获取所述第二图像采集设备的位置坐标;第3步,计算图像采集设备变化的线性度,根据所述线性度值可以表征所述位移平台的线性度。本发明专利技术的有益效果为,本发明专利技术结构简单,测量误差较小,实用性较强,通过简单的结构能够实现实时有效的标定测量系统间的变化,通过测量的线性度对位移平台进行补偿。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种标定位移平台线性度的方法及系统,在激光成像系统中使用,包括:第1步,第一图像采集设备获取标定尺上第一固定图形位置进行定位,获取所述第一图像采集设备的位置坐标;第2步,第二图像采集设备从相邻所述第一固定图形的第二固定图形起始,沿同一方向依次获取所述标定尺上的固定图形位置进行定位,依次获取所述第二图像采集设备的位置坐标;第3步,计算图像采集设备变化的线性度,根据所述线性度值可以表征所述位移平台的线性度。本专利技术的有益效果为,本专利技术结构简单,测量误差较小,实用性较强,通过简单的结构能够实现实时有效的标定测量系统间的变化,通过测量的线性度对位移平台进行补偿。【专利说明】一种标定位移平台线性度的方法及系统
本专利技术属于印刷线路板设备
,尤其是涉及一种标定位移平台线性度的方法及系统。
技术介绍
光刻技术是用于在基底表面上印刷具有特征的构图的技术。这样的基底可包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等的芯片。激光成像系统是在有衬底的表面上直接显示设计的图像,用紫外光、远紫外光、准直光等经空间光调制器SLM和投影物镜将光投向衬底的表面,触发衬底的表面感光材料的光触反应,曝光结束的衬底经显影剂等处理,显示出设计的图像,成像精度高,最小线宽达10 μ m0实际使用中,激光成像设备长期处于工作状态,其图像采集设备CXDl和(XD2的相对位置受到环境(如温度等)、材料的膨胀系数等影响会发生变化。变化的区间在0-40 μ m,甚至更大,这种微小的变化会对对准要求在十几微米的目标产生巨大的影响,会导致设备工作一段时间后无法精确对准。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种标定位移平台线性度的方法及系统,以解决现有技术中存在的上述缺陷。为实现本专利技术的目的,本专利技术提供了一种标定位移平台线性度的方法,在激光成像系统中使用,第I步,第一图像采集设备获取标定尺上第一固定图形位置进行定位,获取所述第一图像采集设备的位置坐标;第2步,第二图像采集设备从相邻所述第一固定图形的第二固定图形起始,沿同一方向依次获取所述标定尺上的固定图形位置进行定位,依次获取所述第二图像采集设备的位置坐标;第3步,设定所述标定尺固定图形的间距为L,设定获取的所述第一图像采集设备的位置坐标为P1,获取的所述第二图像采集设备的位置坐标依次为P2、P3、P4,计算Pl与P2的距离为LI,计算P3与P4的距离为L2,通过下述得到线性度值X: L-LD2+(L-L2)2 ,根据所述线性度值可以表征所述位移平台的线性度。相应地,本专利技术还提供了一种标定位移平台线性度的系统,应用于激光成像系统中,包括:工作平台、吸盘、标定尺、第一图像采集设备、第二图像采集设备、位移平台、龙门,所述吸盘放置于所述工作平台上,所述标定尺设置有固定图形,且放置于所述吸盘一侧,所述工作平台上设有龙门,所述第一图像采集设备与所述龙门上固定连接,所述第二图像采集设备与所述龙门滑动连接,所述第二图像采集设备与所述位移平台固定连接。本专利技术的有益效果为,本专利技术结构简单,测量误差较小,实用性较强,通过简单的结构能够实现实时有效的标定测量系统间的变化,通过测量的线性度对位移平台进行补【权利要求】1.一种标定位移平台线性度的方法,在激光成像系统中使用,其特征在于, 第I步,第一图像采集设备获取标定尺上第一固定图形位置进行定位,获取所述第一图像采集设备的位置坐标; 第2步,第二图像采集设备从相邻所述第一固定图形的第二固定图形起始,沿同一方向依次获取所述标定尺上的固定图形位置进行定位,依次获取所述第二图像采集设备的位置坐标; 第3步,设定所述标定尺固定图形的间距为L,设定获取的所述第一图像采集设备的位置坐标为P1,获取的所述第二图像采集设备的位置坐标依次为?2、?344,计算?1与?2的距离为LI,计算P3与P4的距离为L2,通过下述得到线性度值X: I=^CL-LI)2+(L-L2)2 ,根据所述线性度值可以表征所述位移平台的线性度。2.一种标定位移平台线性度的系统,应用于激光成像系统中,其特征在于,包括:工作平台、吸盘、标定尺、第一图像采集设备、第二图像采集设备、位移平台、龙门,所述吸盘放置于所述工作平台上,所述标定尺设置有等间距的固定图形,且放置于所述吸盘一侧,所述工作平台上设有龙门,所述第一图像采集设备与所述龙门上固定连接,所述第二图像采集设备与所述龙门滑动连接,所·述第二图像采集设备与所述位移平台固定连接。【文档编号】G03F7/20GK103529655SQ201310526171【公开日】2014年1月22日 申请日期:2013年10月29日 优先权日:2013年10月29日 【专利技术者】李显杰, 赵飞, 陈勇 申请人:天津芯硕精密机械有限公司本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种标定位移平台线性度的方法,在激光成像系统中使用,其特征在于,第1步,第一图像采集设备获取标定尺上第一固定图形位置进行定位,获取所述第一图像采集设备的位置坐标;第2步,第二图像采集设备从相邻所述第一固定图形的第二固定图形起始,沿同一方向依次获取所述标定尺上的固定图形位置进行定位,依次获取所述第二图像采集设备的位置坐标;第3步,设定所述标定尺固定图形的间距为L,设定获取的所述第一图像采集设备的位置坐标为P1,获取的所述第二图像采集设备的位置坐标依次为P2、P3、P4,计算P1与P2的距离为L1,计算P3与P4的距离为L2,通过下述得到线性度值X:根据所述线性度值可以表征所述位移平台的线性度。FDA0000403964600000011.jpg

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李显杰赵飞陈勇
申请(专利权)人:天津芯硕精密机械有限公司
类型:发明
国别省市:

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