调校装置及其调校方法制造方法及图纸

技术编号:9595997 阅读:111 留言:0更新日期:2014-01-23 01:35
一种调校装置及其调校方法,适用于调校感光组件。调校装置包含第一平台、第二平台、第三平台及盖体。第一平台具有至少三容槽,各容槽具有定位模块,各定位模块具有曲面体及定位弹性件。第二平台设置于第一平台的一侧,对应各曲面体具有凹槽,且第二平台向外延伸承抵部。第三平台设置于第一平台的另一侧,且电性连接控制模块,控制模块控制第三平台沿轴向进行位移,并使第一平台与第二平台同时随第三平台进行位移。盖体设置于第二平台的一侧,以压制感光组件,使其平贴于第二平台。外力推抵第二平台的承抵部,第二平台沿轴向进行位移,以进行感光组件的倾斜调整动作,通过各定位弹性件的伸张,各曲面体与各凹槽保持接触。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种,适用于调校感光组件。调校装置包含第一平台、第二平台、第三平台及盖体。第一平台具有至少三容槽,各容槽具有定位模块,各定位模块具有曲面体及定位弹性件。第二平台设置于第一平台的一侧,对应各曲面体具有凹槽,且第二平台向外延伸承抵部。第三平台设置于第一平台的另一侧,且电性连接控制模块,控制模块控制第三平台沿轴向进行位移,并使第一平台与第二平台同时随第三平台进行位移。盖体设置于第二平台的一侧,以压制感光组件,使其平贴于第二平台。外力推抵第二平台的承抵部,第二平台沿轴向进行位移,以进行感光组件的倾斜调整动作,通过各定位弹性件的伸张,各曲面体与各凹槽保持接触。【专利说明】
本专利技术涉及一种调校装置,特别涉及一种利用若干个可移动平台,结合若干个定位模块,以调整感光组件的对焦平面的倾斜角度及其与镜头的距离的。
技术介绍
随着光学科技的进步,与近年来各大相机厂的强力营销,现代人多以相机来记录日常生活的点滴,取代了以往以手写日记的纪录型态,而为了因应此消费市场的庞大需求,如何降低相机生产成本与简化生产流程,成了各大相机厂的首要课题。在相机出厂前,须经过多道校对作业,其中最重要的校对作业,莫过于感光组件与摄像装置光轴的调校。感光组件需设置于摄像装置的光轴上,且感光组件的感光面需与摄像装置的焦平面重合,以使摄像装置可清晰成像。若感光组件的感光面未与摄像装置的焦平面重合,则使用者在使用摄像装置时,会发生脱焦的状况,或是无法对焦的情况。现今感光组件的调校装置多利用调整模块,推抵感光组件的放置平台,以使感光组件与光轴平行,但往往在调校过程中,调整模块易使感光组件发生旋转,进而造成无法精准调校。故,如何设计理想的调校装置,能达到可调整感光组件与光轴与关系的功效,以解决目前调校装置的在调校过程中会发生旋转的问题,已成市场应用上的一刻不容缓的议题。有鉴于此,本专利技术的专利技术人思索并设计种调校装置,以针对现有技术的缺失加以改善,进而增进产业上的实施利用。
技术实现思路
有鉴于上述现有技术的问题,本专利技术的其中一目的就是在于提供一种调校装置,以解决目前无法防止感光组件在调校过程中发生旋转的问题。本专利技术的另一目的就是在于提供一种调校方法,用于调校感光组件,以解决目前无法防止感光组件在调校过程中发生旋转的问题。为实现上述目的,本专利技术采取以下技术方案: 根据本专利技术的目的,提出一种调校装置,其包含:第一平台、第二平台、第三平台及盖体。第一平台具有至少三容槽,各容槽具有一定位模块,各定位模块具有曲面体及定位弹性件。第二平台设置于第一平台的一侧,对应各曲面体具有凹槽,且第二平台向外延伸承抵部。第三平台设置于第一平台的另一侧,且电性连接控制模块,控制模块控制第三平台沿轴向进行位移,并使第一平台与第二平台同时随第三平台进行位移。盖体设置于第二平台的一侧,以压制感光组件,使其平贴于第二平台。其中,外力推抵第二平台的承抵部,第二平台沿轴向进行位移,以进行感光组件的倾斜调整动作,且通过各定位弹性件的伸张,各曲面体与各凹槽保持接触。其中,调校装置还可包含调整部,具有至少三工作爪,以分别推抵承抵部,进而使第二平台沿轴向进行位移。其中,第一平台与第二平台间可设有若干个回复弹性件,当第二平台进行沿轴向位移时,可通过所述若干个回复弹性件,以使第一平台可随第二平台进行轴向位移,第二平台还可具有若干个吸附单元,通过所述若干个吸附单元以使感光组件平贴于第二平台,且感光组件可放置于第二平台的放置表面,放置表面与承抵部的承抵表面相互平行。其中,盖体可具有若干个针脚,且所述若干个针脚对应感光组件的外形,均匀地压制在感光组件上,以使感光组件平贴于第二平台,且各针脚的间距可介于三厘米与感光组件的长宽值间。其中,调校装置还可包含感测模块,以感测第二平台沿轴向位移的位移量,以产生位移信号,控制模块依据位移信号,以控制所述第三平台沿所述轴向进行反向位移,进而使所述第一平台及所述第二平台沿所述轴向进行反向位移。根据本专利技术的再一目的,提出一种调校方法,适用于调校感光组件,其包含:提供第一平台,具有至少三容槽;设置定位模块于各容槽,且各定位模块具有曲面体及定位弹性件;设置第二平台于第一平台的一侧,对应各曲面体具有凹槽,且第一平台向外延伸承抵部;设置第三平台于第一平台的另一侧,且电性连接控制模块,控制模块控制第三平台沿轴向进行位移,并使第一平台与第二平台同时随第三平台进行位移;设置盖体于第二平台的一侧,以压制感光组件,使其平贴于第二平台。当承抵部被推抵时,第二平台沿轴向进行位移,且通过各定位弹性件的伸张,各曲面体与各凹槽保持接触。其中,调校方法还可包含下列步骤:通过调整部,具有至少三工作爪,分别推抵承抵部,以使第二平台沿轴向进行位移。其中,调校方法还可包含下列步骤:设置若干个回复弹性件于第一平台与第二平台间;当第二平台进行沿轴向位移时,通过所述若干个回复弹性件,以使第一平台随第二平台进行轴向位移;设置若干个吸附单元于第二平台,通过所述若干个吸附单元以使感光组件平贴于第二平台,且感光组件可放置于第二平台的放置表面,放置表面与承抵部的承抵表面相互平行。其中,盖体可具有若干个针脚,且所述若干个针脚对应感光组件的外形,均匀地压制在感光组件上,以使感光组件平贴于第二平台;各针脚的间距可介于三厘米与感光组件的长宽值间。其中,调校方法还可包含下列步骤:提供感测模块,以感测第二平台沿轴向位移的位移量,以产生位移信号;通过控制模块依据位移信号,以控制所述第三平台沿所述轴向进行反向位移,进而使所述第一平台及所述第二平台沿所述轴向进行反向位移。本专利技术的有益效果是:承上所述,依本专利技术的,其可具有一或多个下述优点: (I)此,利用至少三组定位模块,以使感光组件在调校过程中,仅进行轴向位移,而不发生旋转,以达到精确调校的功效。(2)此,利用控制模块及定位模块,以同步调整感光组件的焦平面倾角及焦平面距离,藉此可以有效地提升调校装置的效率。【专利附图】【附图说明】图1为本专利技术的调校装置的第一示意图。图2为本专利技术的调校装置的第二示意图。图3为本专利技术的调校装置的第一实施例的第一示意图。图4为本专利技术的调校装置的第一实施例的第二示意图。图5为本专利技术的调校装置的第一实施例的第三示意图。图6为本专利技术的调校装置的第二实施例的第一示意图。图7为本专利技术的调校装置的第二实施例的第二示意图。图8为本专利技术的调校方法的流程图。附图标号:1:调校装置;10:感光组件;11:第一平台;111:容槽;112:定位模块;1121:曲面体;1122:定位弹性件;12:第二平台;121:凹槽;122:承抵部;1221:承抵面;123:放置平面;124:吸附单元;13:第三平台;14:控制模块;15:盖体;151:针脚;16:调整部;161:工作爪;17:回复弹性件;18:感测模块;19:壳体。【具体实施方式】为利于贵审查员了解本专利技术的技术特征、内容与优点及其所能达成的功效,兹将本专利技术配合附图,并以实施例的表达形式详细说明如下,而其中所使用的图式,其主旨仅为示意及辅助说明书之用,未必为本专利技术实施后的真实比例与精准配置,故不应就所附的图式的比例与配置关系解读、局限本专利技术在实际实施上的权利范围,合先叙明。请一并参阅图1及图2。图1为本专利技术的调校本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种调校装置,其特征在于,适用于调校感光组件,它包含:第一平台,具有至少三容槽,各所述容槽具有定位模块,各所述定位模块具有曲面体及定位弹性件;第二平台,设置于所述第一平台的一侧,对应各所述曲面体具有凹槽,且所述第二平台向外延伸承抵部;第三平台,设置于所述第一平台的另一侧,且电性连接控制模块,所述控制模块控制所述第三平台沿轴向进行位移,并使所述第一平台与所述第二平台同时随所述第三平台进行位移;以及盖体,设置于所述第二平台的一侧,以压制所述感光组件,使其平贴于所述第二平台;其中,外力推抵所述第二平台的所述承抵部,所述第二平台沿所述轴向进行位移,以进行所述感光组件的倾斜调整动作,且通过各所述定位弹性件的伸张,各所述曲面体与各所述凹槽保持接触。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:谢明宗王敬中
申请(专利权)人:华晶科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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