相对于表面进行移动的经涂覆的构件及该经涂覆的构件的制造方法技术

在此披露了一种被适配成相对于一个表面（26）进行移动的经涂覆的构件（22）以及该经涂覆的构件（22）的制造方法，其中在该经涂覆的构件（22）与该表面（26）之间的间隙距离（40）存在于该经涂覆的构件（22）的临界区域（30）中。该经涂覆的构件（22）在该临界区域（30）中具有一个最终尺寸（36）。该基体（46）具有一个过小的基体区域（48），该过小的基体区域具有一个最小的尺寸减小深度（50），该最小的尺寸减小深度是等于该间隙距离（40）的约百分之七十五。该过小的基体区域（48）对应于该经涂覆的构件（22）的临界区域（30）。一个最终涂层方案（56）位于该过小的基体区域（48）上，其中该最终涂层方案（56）是对一个过大的涂层方案（60）进行精加工以形成该最终涂层方案（56）的结果，其中该经涂覆的构件（22）在该临界区域（22）中具有该最终尺寸（36）。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种被适配成相对于一个表面（26）进行移动的经涂覆的构件（22），其中在该经涂覆的构件（22）与该表面（26）之间的间隙距离（40）存在于该经涂覆的构件（22）的一个临界区域（30）中，该经涂覆的构件（22）包括：该经涂覆的构件（22），该经涂覆的构件在该临界区域（30）中具有一个最终尺寸（36）；一个具有过小的基体区域（48）的基体（46），该过小的基体区域具有最小的尺寸减小深度（50），其中该最小的尺寸减小深度（50）是等于该间隙距离（40）的约75%，并且该过小的基体区域（48）对应于该经涂覆的构件（22）的临界区域（30）；以及在该过小的基体区域（48）上的一个最终涂层方案（56），其中该最终涂层方案（56）是对一个过大的涂层方案（60）进行处理以形成该最终涂层方案（56）的结果，其中该经涂覆的构件（22）在该临界区域（30）中具有该最终尺寸（36）。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：S·布拉曼达姆，D·R·西德尔，I·斯皮特斯伯格，
申请(专利权)人：钴碳化钨硬质合金公司，
类型：发明
国别省市：