EDI装置可单独反洗的纯水设备，涉及太阳能硅电池片生产领域，包括EDI清洗箱、清洗水泵和至少两组EDI装置，清洗水泵的出水口连接清洗总进水管，每组EDI装置的第二进水口分别通过清洗分进水管与清洗总进水管连接，每根清洗分进水管上分别连接上阀门；每组EDI装置的第二出水口分别连接浓水管，每根浓水管上分别连接浓水补充阀，每根浓水管的出水口分别连接同一清洗总出水管，清洗总出水管的出水口与EDI清洗箱的进水口连接；每组EDI装置的第三出水口分别连接清洗分出水管，每根清洗分出水管上分别连接下阀门，每根清洗分出水管的出水口分别与清洗总出水管连接。几组EDI装置采用并联的连接方式，可单个进行反洗。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】EDI装置可单独反洗的纯水设备，涉及太阳能硅电池片生产领域，包括EDI清洗箱、清洗水泵和至少两组EDI装置，清洗水泵的出水口连接清洗总进水管，每组EDI装置的第二进水口分别通过清洗分进水管与清洗总进水管连接，每根清洗分进水管上分别连接上阀门；每组EDI装置的第二出水口分别连接浓水管，每根浓水管上分别连接浓水补充阀，每根浓水管的出水口分别连接同一清洗总出水管，清洗总出水管的出水口与EDI清洗箱的进水口连接；每组EDI装置的第三出水口分别连接清洗分出水管，每根清洗分出水管上分别连接下阀门，每根清洗分出水管的出水口分别与清洗总出水管连接。几组EDI装置采用并联的连接方式，可单个进行反洗。【专利说明】EDI装置可单独反洗的纯水设备
本专利技术涉及太阳能硅电池片生产领域，尤其涉及对硅片进行浸泡、清洗的溶液的水处理设备。
技术介绍
自来水中常含有钠、钙、镁、氯、硝酸盐、矽等溶解盐。这些盐是由负电离子(负离子)和正电离子(正离子)组成。自来水也含有微量金属，溶解的气体(如C02)和其他必须在工业处理中去除的弱离子化的化合物(如砂和硼)。通常采用EDI (Electrodeionization,连续电解除盐技术)技术来进行水处理，使处理后的溶液符合硅片的生产需要。技术介绍:原水箱一原水增压泵一石英砂过滤器一活性碳过滤器一絮凝剂加药系统一保安过滤器一中间水箱一高压泵I一阻垢剂加药系统一一级RO反渗透系统一一级RO水箱一闻压泵11 一氢氧化钠加药系统一二级反渗透系统一二级RO水箱一ERI输送泵一精密过滤器一EDI模块一紫外杀菌器超纯水箱一TOC有机碳去除器一纯水输送泵一抛光混床一精密过滤器一车间 由于现有的EDI纯水处理设备中EDI装置和管道采用串联的方式连接，当EDI模块电阻值下降时只能几组全部停产维修，从而影响生产进度。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有技术的不足，提供一种EDI装置可单独反洗的纯水设备，当某组EDI装置需要反洗时不影响其它且EDI装置。本专利技术的目的是这样实现`的:EDI装置可单独反洗的纯水设备，包括EDI清洗箱、清洗水泵、高纯水箱、氮化水箱和至少两组EDI装置，高纯水箱的出水口连接高纯水总管，高纯水总管与各EDI装置的第一进水口之间通过高纯水分管连接，每根高纯水分管上分别连接浓水进水阀；所述EDI清洗箱的出水口与清洗水泵的进水口通过送水管连接，送水管上连接送水阀；每组EDI装置的第一出水口分别连接氮化分水管，每根氮化分水管上分别连接产水阀，每根氮化分水管的出水口分别连接同一根氮化总水管，氮化总水管的出水口与氮化水箱连接；所述清洗水泵的出水口连接清洗总进水管，每组EDI装置的第二进水口分别通过清洗分进水管与清洗总进水管连接，每根清洗分进水管上分别连接上阀门；每组EDI装置的第二出水口分别连接浓水管，每根浓水管上分别连接浓水补充阀，每根浓水管的出水口分别连接同一清洗总出水管，清洗总出水管的出水口与EDI清洗箱的进水口连接；每组EDI装置的第三出水口分别连接清洗分出水管，每根清洗分出水管上分别连接下阀门，每根清洗分出水管的出水口分别与清洗总出水管连接。本专利技术的清洗总出水管上还连接与EDI装置数量相等的废水分管，每根废水分管上分别连接浓水排水阀，每根废水分管的出水口分别连接同一废水总管。本专利技术通过以上设计，几组EDI装置采用并联的连接方式，在不影响车间生产时，可对纯水设备EDI装置单个进行反洗，从而不影响其它组EDI装置，保证了车间正常生产，提高工作效率。【专利附图】【附图说明】图1为本专利技术的一种结构示意图。图中，IEDI清洗箱，2送水管，3送水阀，4清洗水泵，5清洗总进水管，6上阀门，7清洗分进水管，8EDI装置，9清洗分出水管，10下阀门，11浓水补充阀，12浓水管，13浓水排水阀，14废水分管，15产水阀，16氮化分水管，17清洗总出水管，18废水总管，19氮化总水管，20氮化水箱，21高纯水箱，22高纯水总管，23高纯水分管，24浓水进水阀。【具体实施方式】如图1所示，为EDI装置可单独反洗的纯水设备，包括EDI清洗箱1、清洗水泵4、高纯水箱21、氮化水箱20和四组EDI装置8，高纯水箱21的出水口连接高纯水总管22，高纯水总管22与各EDI装置8的第一进水口之间通过高纯水分管23连接，每根高纯水分管23上分别连接浓水进水阀24。EDI清洗箱I的出水口与清洗水泵4的进水口通过送水管2连接，送水管2上连接送水阀3，清洗水泵4的出水口连接清洗总进水管5，各EDI装置8分别设置在清洗总进水管5的下方，每组EDI装置8的第二进水口分别通过清洗分进水管7与清洗总进水管5连接，每根清洗分进水管7上分别连接上阀门6，每组EDI装置8的第一出水口分别连接氮化分水管16，每根氮化分水管16上分别连接产水阀15，每根氮化分水管16的出水口分别连接同一根氮化总水管19，氮化总水管19的出水口与氮化水箱20连接。每组EDI装置8的第二出水口分别连接浓水管12，每根浓水管12上分别连接浓水补充阀11，每根浓水管12的出水口分别连接同一清洗总出水管17，清洗总出水管17的出水口与EDI清洗箱I的进水口连接。每组EDI装置8的第三出水口分别连接清洗分出水管9，每根清洗分出水管9上分别连接下阀门10，每根清洗分出水管9的出水口分别与清洗总出水管17连接。清洗总出水管17上还连接四根废水分管14，每根废水分管14上分别连接浓水排水阀13，每根废水分管14的出水口 分别连接同一废水总管18。【权利要求】1.EDI装置可单独反洗的纯水设备，包括EDI清洗箱、清洗水泵、高纯水箱、氮化水箱和至少两组EDI装置，高纯水箱的出水口连接高纯水总管，高纯水总管与各EDI装置的第一进水口之间通过高纯水分管连接，每根高纯水分管上分别连接浓水进水阀；所述EDI清洗箱的出水口与清洗水泵的进水口通过送水管连接，送水管上连接送水阀；每组EDI装置的第一出水口分别连接氮化分水管，每根氮化分水管上分别连接产水阀，每根氮化分水管的出水口分别连接同一根氮化总水管，氮化总水管的出水口与氮化水箱连接；其特征在于:所述清洗水泵的出水口连接清洗总进水管，每组EDI装置的第二进水口分别通过清洗分进水管与清洗总进水管连接，每根清洗分进水管上分别连接上阀门；每组EDI装置的第二出水口分别连接浓水管，每根浓水管上分别连接浓水补充阀，每根浓水管的出水口分别连接同一清洗总出水管，清洗总出水管的出水口与EDI清洗箱的进水口连接；每组EDI装置的第三出水口分别连接清洗分出水管，每根清洗分出水管上分别连接下阀门，每根清洗分出水管的出水口分别与清洗总出水管连接。2.根据权利要求1所述的EDI装置可单独反洗的纯水设备，其特征在于:所述清洗总出水管上还连接与EDI装置数量相等的废水分管，每根废水分管上分别连接浓水排水阀，每根废水分管的出水口分别连接同 一废水总管。【文档编号】C02F1/469GK103508520SQ201210213844【公开日】2014年1月15日 申请日期:2012年6月27日 优先权日:2012年6月27日 【专利技术者】梁旭, 王毅, 乔文峰, 仲磊 申请人:扬州鑫晶光伏科技有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
EDI装置可单独反洗的纯水设备，包括EDI清洗箱、清洗水泵、高纯水箱、氮化水箱和至少两组EDI装置，高纯水箱的出水口连接高纯水总管，高纯水总管与各EDI装置的第一进水口之间通过高纯水分管连接，每根高纯水分管上分别连接浓水进水阀；所述EDI清洗箱的出水口与清洗水泵的进水口通过送水管连接，送水管上连接送水阀；每组EDI装置的第一出水口分别连接氮化分水管，每根氮化分水管上分别连接产水阀，每根氮化分水管的出水口分别连接同一根氮化总水管，氮化总水管的出水口与氮化水箱连接；其特征在于：所述清洗水泵的出水口连接清洗总进水管，每组EDI装置的第二进水口分别通过清洗分进水管与清洗总进水管连接，每根清洗分进水管上分别连接上阀门；每组EDI装置的第二出水口分别连接浓水管，每根浓水管上分别连接浓水补充阀，每根浓水管的出水口分别连接同一清洗总出水管，清洗总出水管的出水口与EDI清洗箱的进水口连接；每组EDI装置的第三出水口分别连接清洗分出水管，每根清洗分出水管上分别连接下阀门，每根清洗分出水管的出水口分别与清洗总出水管连接。?
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：梁旭，王毅，乔文峰，仲磊，
申请(专利权)人：扬州鑫晶光伏科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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