本发明专利技术公开了一种抛光磨料及其制备方法。本发明专利技术按照重量计算，包括陶瓷棍棒粉50-80份、苏州土10-30份、硅微粉10-30份和氧化锆1-5份。本发明专利技术可以降低镜面抛光的磨耗率，降低了研磨介质的消耗量，节约了矿产资源，而且本发明专利技术采用废弃工业废料作为原料，不仅降低了生产成本，对环境保护也具有积极作用，具有非常理想的经济效益和社会效益。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了。本专利技术按照重量计算，包括陶瓷棍棒粉50-80份、苏州土10-30份、硅微粉10-30份和氧化锆1-5份。本专利技术可以降低镜面抛光的磨耗率，降低了研磨介质的消耗量，节约了矿产资源，而且本专利技术采用废弃工业废料作为原料，不仅降低了生产成本，对环境保护也具有积极作用，具有非常理想的经济效益和社会效益。【专利说明】
本专利技术涉及。
技术介绍
目前振动抛光技术已不局限于毛刺打飞边的简单功能，比如开始越来越多地用于工件表面的镜面处理，现有的作为镜面处理的振动抛光技术所用到的研磨介质一般使用不锈钢珠和不锈钢飞碟。但是，不锈钢产品除了价格高以外，在处理使用过程中会带来水的污染，同时和抛光液一起使用时，不锈钢产品由于浸泡时间长会带来生锈产生异味等缺点。因此如何研发一款磨耗率低、成本低廉、镜面抛光效果优越的磨料，成为了业界亟待解决的课题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供。本专利技术可以作为镜面抛光的研磨料，不仅可以降低镜面抛光的磨耗率，降低了研磨介质的消耗量，节约了矿产资源，而且本专利技术采用废弃工业废料作为原料，不仅降低了生产成本，对环境保护也具有积极作用，具有非常理想的经济效益和社会效益。本专利技术的技术方案:，按照重量计算，包括陶瓷棍棒粉50-80份、苏州土 10-30份、硅微粉10-30份和氧化锆1_5份。上述的抛光磨料中，按照重量计算，包括陶瓷棍棒粉60-70份、苏州土 15-20份、硅微粉10-20份和氧化锆1-5份。前述的抛光磨料中，按照重 量计算，包括陶瓷棍棒粉65份、苏州土 18份、硅微粉15份和氧化锆2份。前述的抛光磨料的制备方法，具体包括以下步骤；a、将所述的陶瓷棍棒粉、苏州土、硅微粉和氧化锆按比例称取并充分混合，得A料；b、将A料经球磨工艺成小于I微米的超细粉体，得到B料；C、将B进行榨泥和炼泥，所述的榨泥的压力控制在1.2MPa，所述的炼泥的压力控制在 0.08-0.1MPa ;得 C 料；d、将C料放入避光密闭包装袋进行陈腐，陈腐24小时后得到D料；e、将D料挤出成型，且挤出成型的压力控制在10_12MPa，得E料；f、再将E料送入温度为1430度的窑炉中烧制3小时后得到F料；g、将F料在窑内冷却后出窑，得成品。与现有技术相比，本专利技术采用了全新的组分及配比关系，该组份和配比关系的组合是 申请人:经过反复试验、比较、筛选、总结得到的，与现有的镜面抛光的磨料相比，本专利技术可以大大降低抛光时的磨耗率，降低研磨介质的消耗量，节约矿产资源，对环境保护也具有积极作用，由于本专利技术的陶瓷棍棒粉(含有氧化铝和氧化硅)可采用瓷辊棒废料加工而成，本专利技术的氧化锆也可以采用工业氧化铝，因此本专利技术还可以变废为宝，符合国家循环经济、节能减排的相关政策。而且由于本专利技术降低了研磨材料的磨耗率，所以研磨过程中无需频繁地添加研磨料，可以提高抛光的工作效率。作为优选， 申请人:还对本产品的制备方法进行了进一步优选，优选得到的多步骤、多参数与本产品的组分和配比关系从多因素协同作用，使得本专利技术的效果得到最优化，据 申请人:试验，本专利技术磨耗率< 0.1%0 (检测条件离心式抛光机174转/分条件下5公斤料加水2500ml自磨4h)，莫氏硬度达到8级，体积密度可以达到3.2g/cm3。从试验结果可以看出，本专利技术的磨耗率非常低，因此可以提高磨料利用率、提高抛光效率、降低使用成本，具有非常理想的经济效益和社会效益。【具体实施方式】实施例1:一种抛光磨料，按照重量计算，包括陶瓷棍棒粉50份、苏州土 30份、硅微粉10份和氧化锆5份。其中陶瓷棍棒和苏州土(即中低温热液蚀变残余型高岭土)都是是本领域的常见的工业原料，可以从市场上直接购得。氧化锆可采用氧化锆含量99%以上的工业氧化锆，工业氧化锆也可以从市场上直接购得。上述的抛光磨料的制备方法，具体包括以下步骤；a、将所述的陶瓷棍棒粉、苏州土、硅微粉和氧化锆按比例称取并充分混合，得A料；b、将A料经球磨工艺成小于I微米的超细粉体，得到B料；C、将B进行榨泥和炼泥，所述的榨泥的压力控制在1.2MPa，所述的炼泥的压力控制在 0.08-0.1MPa ;得 C 料；d、将C料放入避光密闭包装袋进行陈腐，陈腐24小时后得到D料；e、将D料挤出成型，且挤出成型的压力控制在10_12MPa，得E料；f、再将E料送入温度为1430度的窑炉中烧制3小时后得到F料；g、将F料在窑内冷却后出窑，得成品。实施例2:—种抛光磨料，按照重量计算，包括陶瓷棍棒粉65份、苏州土 18份、硅微粉15份和氧化锆2份。上述的抛光磨料的制备方法，具体包括以下步骤；a、将所述的陶瓷棍棒粉、苏州土、硅微粉和氧化锆按比例称取并充分混合，得A料；b、将A料经球磨工艺成小于I微米的超细粉体，得到B料；C、将B进行榨泥和炼泥，所述的榨泥的压力控制在1.2MPa，所述的炼泥的压力控制在 0.08-0.1MPa ;得 C 料；d、将C料放入避光密闭包装袋进行陈腐，陈腐24小时后得到D料；e、将D料挤出成型，且挤出成型的压力控制在10_12MPa，得E料；f、再将E料送入温度为1430度的窑炉中烧制3小时后得到F料；g、将F料在窑内冷却后出窑，得成品。【权利要求】1.一种抛光磨料，其特征在于:按照重量计算，包括陶瓷棍棒粉50-80份、苏州土 10-30份、硅微粉10-30份和氧化锆1-5份。2.根据权利要求1所述的抛光磨料，其特征在于:按照重量计算，包括陶瓷棍棒粉60-70份、苏州土 15-20份、硅微粉10-20份和氧化锆1_5份。3.根据权利要求2所述的抛光磨料，其特征在于:按照重量计算，包括陶瓷棍棒粉65份、苏州土 18份、硅微粉15份和氧化锆2份。4.根据权利要求1至3任一项所述的抛光磨料的制备方法，其特征在于:具体包括以下步骤； a、将所述的陶瓷棍棒粉、苏州土、硅微粉和氧化锆按比例称取并充分混合，得A料； b、将A料经球磨工艺成小于I微米的超细粉体，得到B料； C、将B进行榨泥和炼泥，所述的榨泥的压力控制在1.2MPa，所述的炼泥的压力控制在0.08-0.1MPa ;得 C 料； d、将C料放入避光密闭包装袋进行陈腐，陈腐24小时后得到D料； e、将D料挤出成型，且挤出成型的压力控制在10-12MPa，得E料； f、再将E料送入温度为1430度的窑炉中烧制3小时后得到F料； g、将F料在窑内冷却后出窑，得成品。【文档编号】C09K3/14GK103497734SQ201310504754【公开日】2014年1月8日 申请日期:2013年10月23日 优先权日:2013年10月23日 【专利技术者】任永国, 嵇兴林 申请人:浙江湖磨抛光磨具制造有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种抛光磨料，其特征在于：按照重量计算，包括陶瓷棍棒粉50?80份、苏州土10?30份、硅微粉10?30份和氧化锆1?5份。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：任永国，嵇兴林，
申请(专利权)人：浙江湖磨抛光磨具制造有限公司，
类型：发明
国别省市：
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