一种溶液槽用于存储包含溶质和溶剂的溶液。具有流动路径,所述流动路径用于通过饱和气体发生器所产生的饱和气体流入到槽体中,其中饱和气体包含溶剂的主要成分,诸如乙酸甲酯。条件Tg≤Ti≤TL得到满足,TL(℃)是槽体内的液相区域的温度;Ti(℃)槽体内的气/液界面的温度;以及Tg(℃)是槽体内气相区域的温度。此外,辅助的饱和气体发生器被设置在槽体内,用于产生包含溶剂的主要成分,并且使饱和气体与溶液相接触。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及。具体而言,本专利技术涉及一种可以有效地防止聚合物溶质的有害沉淀的。
技术介绍
溶液浇铸是由酰化纤维素、尤其是三乙酸纤维素(TAC)制造聚合物膜的方法。三乙酸纤维素(TAC)作为液晶显示面板上的光敏材料或者透明板的基薄膜而公知广泛使用。用于制造三乙酸纤维素(TAC)的聚合物膜的工艺典型地在JIII Journal of Technical Disclosure Monthly(JapanHatsumei Kyokai,Kokai Giho)、No.2001-1745、第2-6页中公开。首先,三乙酸纤维素(TAC)溶解在主要成分是二氯甲烷的混合溶剂中,以制备涂料(dope)或者聚合物溶液。此后,所述涂料浇铸在(cast on)支撑件上,例如支撑带(support belt)或者可旋转支撑筒(rotatable supporting drum),以形成挤塑薄膜。当挤塑薄膜干化以具有自支撑属性时,挤塑薄膜通过剥取辊剥离。挤塑薄膜充分干化和冷却,并缠绕为一卷聚合物膜。近年来出现了出于提高涂料的生产能力目的的公知技术。首先,具有较低密度三乙酸纤维素(TAC)的涂料被制备。然后所述涂料通过凝结器凝结,这样获得具有较高密度的涂料并用于浇铸。同样,也有对使用三乙酸纤维素(TAC)聚合物膜的光学元件的较高性能的公众要求。在通过使用涂料的成膜或者旋线(thread spinning)中,具有较高密度的涂料通过涂料池的方式被存储在与凝结器相关联的溶液存储槽中。涂料从溶液存储槽传输并适于用于成膜和旋线的目的。但是,在溶液存储槽存储所述涂料时,通常溶剂气化从而将溶质沉淀在涂料的气体/液体界面上。这就从溶质产生有害的沉淀的聚合物,其与涂料相混合并将对成膜和旋线的合格普通操作变成一种阻碍。尤其是如果具有较高密度的涂料被存储,溶剂发生任何减小的时候,有害的沉淀非常有可能发生,因为溶液以几乎接近饱和状态溶解。同样,如果过滤装置被用于通过过滤移除有害的沉淀聚合物时,相当大的载荷可能施加到过滤装置从而减短其使用寿命。
技术实现思路
有鉴于前述的问题,本专利技术的目的是提供一种,其中可以有效地防止聚合物溶液的有害沉淀。为了实现本专利技术的上述和其它目的和优点,提供了一种用于存储包含溶质和溶剂的溶液的溶液槽,还包括槽体。还具有流动路径,所述流动路径用于使饱和气体发生器所产生的饱和气体流入到槽体中,其中饱和气体包含溶剂的主要成分。所述饱和气体保持气液平衡。此外,至少一个加热装置调节槽体的温度。所述至少一个加热装置包括在槽体的深度方向上设置的多个加热装置。此外,温度控制器离散地控制所述多个加热装置的温度。条件Tg≤Ti≤TL被满足,其中TL(℃)是槽体内的液相区域的温度;Ti(℃)是槽体内的气/液界面的温度;以及Tg(℃)是槽体内气相区域的温度。此外,辅助饱和气体发生器被设置在槽体内,用于产生包含溶剂的主要成分的饱和气体,并且使饱和气体与溶液相接触。辅助饱和气体发生器包括液体存储室,其设置在槽体的一部分内,用于存储液相溶剂的主要成分。条件Ti-10≤Ts(℃)≤Ti+10被满足,其中Ti(℃)是槽体内的气/液界面的温度;以及Ts(℃)是液体存储室的温度。所述溶质包括至少一种聚合物。所述聚合物包括酰化纤维素。所述溶剂的主要成分是无氯溶剂。所述无氯溶剂包括酰基酸酯(acylic acid ester)。溶液槽被设置在溶解槽的下游,并从该处供给溶液,并且所述溶解槽通过将溶质溶解在溶剂中而产生溶液。溶液槽被安置在溶液浇铸装置的上游,并且对该处供给溶液,所述溶液浇铸装置通过浇铸所述溶液而由溶质产生聚合物膜。根据本专利技术的一方面,提供了用于存储包含溶质和溶剂的溶液的溶液槽,并包括槽体。辅助饱和气体发生器被设置在槽体中,用于产生包含溶剂的主要成分的饱和气体,并使饱和气体与溶液相接触,以保持气液平衡。根据本专利技术的另外一方面,提供了一种在溶液槽中存储包含溶质和溶剂的溶液的溶液存储方法。包含溶剂的主要成分的饱和气体在供给所述溶液中供给到溶液槽,用于保持气液平衡。根据本专利技术的另外一方面,提供了一种在溶液槽中存储包含溶质和溶剂的溶液的溶液存储方法。使用了溶液槽中的辅助饱和气体发生器,用于产生包含溶剂的主要成分的饱和气体并保持气液平衡,以防止液相中溶剂的减小。根据本专利技术,可以有效地防止聚合物溶质的有害沉淀,因为溶剂的主要成分的饱和气体被填充在槽体内的气相区域,从而保持气液平衡。附图说明本专利技术的其它方面和/或者优点将部分参照附图对实施例的说明而变得显而易见,或者可以通过实施本专利技术而得到了解,其中图1是用于生产涂料的系统的说明视图;图2是说明了一个溶液存储槽的部分剖视横截面视图;图3是说明了另外的优选溶液存储槽的部分剖视横截面视图,;图4是说明用于涂料的溶液浇铸装置的说明性视图;图5是说明了具有多集管结构的溶液浇铸装置的横截面说明性视图;图6是说明了包括用于多种涂料的供给套管(feed block)的溶液浇铸装置的主视说明性视图;以及图7是说明了具有多个模具的溶液浇铸装置的横截面说明性视图。具体实施例方式将被存储在溶液槽中和根据存储方法的溶液不限于特定的物质。在本专利技术中可以存储广泛用作增塑剂的磷酸三苯酯(TPP)的溶液。本专利技术的优选实施例中所使用的实例此处是三乙酸纤维素(TAC)的涂料或者溶液。但是,除了三乙酸纤维素或者酰化纤维素物之外的任何其他聚合物都可以用作溶液中的溶质。聚合物被用作本专利技术中的溶质。聚合物可以是没有限制的任何化合物,但是必须是纤维素的高分子化合物,优选的是酰化纤维素,并且理想的是乙酸纤维素。特别地在这些乙酸纤维素中,平均乙酰值为57.5-62.5%的三乙酸纤维素(TAC)是最为优选的。请注意,乙酰值或者乙酰化的程度意味着每单位重量的纤维素的乙酸量。此处的乙酰值或者乙酰化的程度根据用于乙酸纤维素等的测量方法的ASTMD-817-91来测量和计算。根据本专利技术,酰化纤维素或者三乙酸纤维素的粒子被使用。所使用的粒子的90wt.%或者更多具有直径0.1-4mm,优选地1-4mm。特别地,具有粒径1-4mm的粒子比例必须是95wt.%或者更多,优选的是97wt.%或者更多,优选地98wt.%或者更多,最为优选的是99wt.%或者更多。此外,所使用的粒子的50wt.%或者更多必须具有粒径2-3mm。特别地,具有粒径2-3mm的粒子的比例必须是70wt.%或者更多,优选的是80wt.%或者更多,最为优选的是90wt.%或者更多。酰化纤维素的粒子可以具有尽可能接近球形的形状。根据本专利技术将被溶解的溶质可以是不同物质的的添加剂。添加剂的实例是增塑剂、紫外线吸收剂、释放剂、剥色促进剂和含氟表面活化剂。注意添加剂可以在溶剂中溶解聚合物的过程中被添加,但是也可以在溶液浇铸过程中和在涂料包含容器与浇铸模(casting die)之间被添加。增塑剂的实例包括磷酸酯,诸如磷酸三苯酯(TPP),磷酸三甲苯酯、磷酸甲苯·联苯酯、磷酸辛基二苯酯、磷酸联苯基二苯酯、磷酸三辛酯和磷酸三丁酯;邻苯二甲酸酯,如邻苯二甲酸二乙酯、邻苯二甲酸二甲氧基乙酯、邻苯二甲酸二甲酯和邻苯二甲酸二辛酯;羟基乙酸酯,如甘油三乙酸酯,tributylin、丁基邻苯二甲酰基甘醇酸丁酯、乙基邻苯二甲酰基甘酸乙酯(也称本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于存储包含溶质和溶剂的溶液的溶液槽,包括: 槽体;和 流动路径,所述流动路径用于使由饱和气体发生器所产生的饱和气体流入到所述槽体中,其中所述饱和气体包含所述溶剂的主要成分。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:片井幸祐,
申请(专利权)人:富士胶片株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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