一种等位近距离薄膜沉积生长系统技术方案

技术编号:9523603 阅读:107 留言:0更新日期:2014-01-01 20:24
本实用新型专利技术公开了一种等位近距离薄膜沉积生长系统,它包括箱体,箱体上设有炉体,炉体两端设有支撑杆,炉体的下端设有下法兰,下法兰上端通过下加热台支撑架固定连接有下加热台,下加热台上设有载物台,炉体的上端设有上外接法兰,上外接法兰下端通过上加热台支撑架固定连接有上加热台,所述的支撑杆上设有旋转支撑架,该旋转支撑架包括转动连接在支撑杆上的固定座和固定螺栓,该固定座和固定螺栓之间垂直设有导向杆,导向杆上滑动连接一升降杆,升降杆与上外接法兰固定连接;本实用新型专利技术一种等位近距离薄膜沉积生长系统,它结构简单,操作便捷,可以实现等位沉积,准确控制基片正反面温场,解决了分子漂移扩散损耗问题,和长距离的温度线性不稳定等问题,同时可以实现快速升降温,节约了工时功效。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种等位近距离薄膜沉积生长系统,它包括箱体,箱体上设有炉体,炉体两端设有支撑杆,其特征在于:炉体的下端设有下法兰,下法兰上端通过下加热台支撑架固定连接有下加热台,下加热台上设有载物台,炉体的上端设有上外接法兰,上外接法兰下端通过上加热台支撑架固定连接有上加热台,所述的支撑杆上设有旋转支撑架,该旋转支撑架包括转动连接在支撑杆上的固定座和固定螺栓,该固定座和固定螺栓之间垂直设有导向杆,导向杆上滑动连接一升降杆,升降杆与上外接法兰固定连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:孔令杰
申请(专利权)人:安徽贝意克设备技术有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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