用于电解池的金属池元件材料的涂层制造技术

技术编号：9521269 阅读：121 留言：0更新日期：2014-01-01 18:44

本发明专利技术涉及包含金属的池元件组件的电解池的一种阴极半壳体，包括o?焊接到该阴极半壳体(1)的后壁的一个金属支撑结构(2)，和平面平行式安排于其上的至少一个金属弹性元件(4)，o?一个氧气消耗阴极，安排在该至少一个金属弹性元件上，其中所述氧气消耗阴极包括一个穿孔的金属载体(5)和一个机械地压力配合在其上的由PTFE和氧化银制成的催化剂条带(6)，其中所述氧化银在电解工作过程中还原成银，并且此时在该氧气消耗阴极的组件和所述至少一个弹性元件之间生成均一的连接，所述连接以高导电性为特征，其中至少一个金属组件设置有包括至少两个层的导电涂层，其中o?一个第一层，直接施加到池元件材料上，是选自包含Au、B掺杂的镍、Ni的硫化物和它们的混合物的组中，这个第一层的层厚度为0.005至0.2μm，以及o?一个第二层，施加到第一层上且由银制成，这个第二层的层厚度为0.1至30μm。