氮化镓基发光二极管制造技术

技术编号:9508386 阅读:105 留言:0更新日期:2013-12-26 22:57
本实用新型专利技术公开一种氮化镓基发光二极管,涉及LED芯片技术领域。该二极管包括衬底、依次层叠在衬底上的n-GaN层、量子阱层和p-GaN层,依次层叠的n-GaN层、量子阱层和p-GaN层共同蚀刻有一台阶,该台阶的低端设有n电极,该台阶的高端层叠有一电流扩散层,电流扩散层的中部设有蚀空,该电流扩散层的蚀空上方设有p电极,n电极和p电极均包括依次层叠的欧姆接触层、阻挡层和压焊层,该压焊层的材料为镁铝合金。本实用新型专利技术压焊层以镁铝合金为组成材料,降低了氮化镓基发光二极管的制作成本,增强了电极稳定性和牢固性。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种氮化镓基发光二极管,包括衬底、依次层叠在所述衬底上的n?GaN层、量子阱层和p?GaN层,依次层叠的所述n?GaN层、所述量子阱层和所述p?GaN层共同蚀刻有一台阶,所述台阶的低端设有n电极,所述台阶的高端层叠有一电流扩散层,所述电流扩散层的中部设有蚀空,所述电流扩散层的蚀空上方设有p电极,所述n电极和所述p电极均包括依次层叠的欧姆接触层、阻挡层和压焊层,其特征在于,所述压焊层的材料为镁铝合金。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:邓小强张建宝
申请(专利权)人:华灿光电股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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