【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种抛光机磁铁整定铁环结构，配合一抛光装置使用，且所述抛光装置悬吊设置具有垂直位移自由度的一吸附装置，所述吸附装置间隔一胶膜地吸附一晶圆，且所述胶膜固定于一铁环上，其特征在于，所述抛光机磁铁整定铁环结构包含：两个磁铁；以及两个整定气缸，所述两个整定气缸分别具有固定于所述抛光装置上的一移动部与连接固定所述吸附装置的一固定部，且所述移动部具有分别固定所述两个磁铁的两个磁铁移动部，以使所述两个磁铁分别紧邻所述吸附装置的不同侧的边缘，并且所述移动部与所述固定部的相对移动而推移所述吸附装置进行位移，而所述吸附装置具有一铁环吸附位置与一铁环脱离位置，且在所述铁环吸附位置时，所述两个磁铁凸出于所述吸附装置的表面，而在所述铁环脱离位置时，则所述两个磁铁未凸出于所述吸附装置的表面。
【技术特征摘要】
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