一种支撑针及显示面板生产设备制造技术

本发明专利技术公开了一种支撑针及显示面板生产设备，用以降低基板背面的静电离子，并且可以有效的防止摩擦产生的静电离子和颗粒。所述支撑针为中空结构，其顶端和/或侧面设置有开口，所述开口用于使流经所述支撑针内部的气体通过所述开口吹出，以消除与支撑针相邻的设备的静电。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种支撑针及显示面板生产设备，用以降低基板背面的静电离子，并且可以有效的防止摩擦产生的静电离子和颗粒。所述支撑针为中空结构，其顶端和/或侧面设置有开口，所述开口用于使流经所述支撑针内部的气体通过所述开口吹出，以消除与支撑针相邻的设备的静电。【专利说明】一种支撑针及显示面板生产设备
本专利技术涉及显示器
，尤其涉及一种支撑针及显示面板生产设备。
技术介绍
在半导体和液晶行业中，运用外加离子气体中和基板在传送过程中产生的静电离子从而消除静电对产品造成的破坏是一种常用的方法。通过吹送离子气体来消除静电效应是液晶行业广泛应用的用来降低和缓解静电的方法，现有技术中的离子气体装置一般都位于机台(Stage)上方，而静电离子主要由基板与支撑针(Lift Pin)或Stage摩擦或者在传送过程中产生，所以静电离子多位于基板下方。如图1所示，现有技术中离子气体装置10位于机台(Stage) 11上方，但静电离子主要位于基板12下方及Stage上，因此，现有技术的支撑针结构不能除掉基板12背面的静电离子，所以现有装置的除静电效果并不理想，会导致电路烧伤，良品率下降，并且在支撑针13升起过程中很容易与Stage通道发生摩擦产生额外的静电离子和大量的颗粒(Particle)。综上所述，现有的外置离子气体装置对于除静电的效果不是很理想。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种支撑针，用以降低基板背面的静电离子，并且可以有效的防止摩擦产生的静电离子和颗粒。本专利技术还提供了一种显示面板生产设备。根据本专利技术一实施例，提供的一种支撑针，所述支撑针为中空结构，其顶端和/或侧面设置有开口，所述开口用于使流经所述支撑针内部的气体通过该开口吹出。由本专利技术实施例提供的所述支撑针为中空结构，可以将气体通入到支撑针中，而该支撑针的顶端和/或侧面设置有开口，通过其开口可以将通入到支撑针中的气体吹出，这样可有效的去除机台和基板背面产生的静电离子，提高产品的良率。较佳地，所述支撑针的侧面设置有多个开口。这样，当侧面设置的多个开口吹出气体时，可以有效的防止支撑针在上升过程中与机台产生摩擦进而产生新的静电离子和大量颗粒。较佳地，所述多个开口的大小相等。这样，大小相等的开口可以保证支撑针吹出的气体均匀，且吹出的气体的流量大小容易控制，便于控制支撑针在升起过程中侧面与机台通道产生的相互作用力，进而有效的防止支撑针在上升过程中与机台产生摩擦。较佳地，所述侧面设置的多个开口以该支撑针的中心轴对称分布。这样，侧面设置的对称分布的多个开口可以使得支撑针两个侧面与机台通道产生的相互作用力相等，即容易控制支撑针在上升过程中与机台产生的摩擦力。较佳地，所述支撑针的开口为圆形开口。这样，圆形开口的设计在支撑针开口的设计中简单方便。较佳地，所述顶端设置的开口的面积小于或等于1.7671平方毫米。这样，由于支撑针的顶端设置有支撑针冒的结构，顶端设置的开口面积不宜过大，顶端设置的开口的面积设计为小于或等于1.7671平方毫米时，更有利于降低基板背面的静电离子。较佳地，所述侧面设置的开口的面积小于或等于0.7854平方毫米。这样，为了保证支撑针的强度，侧面设置的开口面积不宜过大，侧面设置的开口的面积设计为小于或等于0.7854平方毫米时，可以更加有效的防止摩擦产生的静电离子和颗粒。较佳地，所述支撑针为中空的圆柱体。这样，圆柱体的支撑针设置在机台部件的设计中简单且容易实现，同时通入中空的圆柱体的支撑针中的离子气体的气体流量容易控制。本专利技术的实施例还提供了一种显示面板生产设备，所述设备包括:离子气体装置，以及多个上面所述的支撑针，所述离子气体装置设置有与每个支撑针一一对应的通气部件，用于将离子气体输出给对应的支撑针，并通过支撑针上设置的开口吹出。由上述实施例提供的显示面板生产设备，由于所述显示面板生产设备包括以上所述的支撑针，所以，该显示面板生产设备能有效的降低基板背面的静电离子，并且可以有效的防止摩擦产生的静电离子和颗粒。较佳地，每个支撑针与对应的通气部件密闭连接。这样，密闭连接有利于将所需的离子气体完全输入到对应的支撑针内部，避免离子气体外漏，从而能够准确的控制输入到支撑针内的离子气体流量。较佳地，所述通气部件为通气管道。这样，当通气部件为通气管道时，较其它通气部件，通气管道更容易与所述支撑针密闭连接，且通气管道的设置也方便简单。【专利附图】【附图说明】图1为现有技术中的一种显示面板生产设备的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种支撑针的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的一种显示面板生产设备的结构示意图。【具体实施方式】本专利技术实施例提供了一种支撑针及显示面板生产设备，用以降低基板背面的静电离子，并且可以有效的防止摩擦产生的静电离子和颗粒。下面给出本专利技术实施例提供的技术方案的详细介绍。如图2所示，本专利技术实施例提供的一种用于生产显示面板的支撑针20，所述支撑针20为中空结构，其顶端和/或侧面设置有开口，所述开口用于使流经所述支撑针内部的气体通过该开口吹出。所述支撑针在侧壁上设置的开口用于避免支撑针的侧面和与其相邻的设备之间的摩擦，从而可以消除与支撑针相邻的设备的静电，同时侧壁上吹出的气流也有清除尘粒的作用，所述支撑针在顶部设置的开口用以有效的降低基板背面的静电离子，同时也可以用于清除尘粒。较佳地，所述支撑针20的侧面设置有多个开口。其中，图2仅示出了所述支撑针侧面的开口 21、22、23和24，实际支撑针侧面的开口不限于本专利技术实施例提供的侧面开口，可以根据实际生产需要进行侧面开口数量的设计。较佳地，所述开口 21、22、23和24的大小相等。较佳地，所述侧面设置的开口 21与23以该支撑针20的中心轴25对称分布，所述侧面设置的开口 22与24以该支撑针20的中心轴25对称分布。较佳地，所述开口 21、22、23与24为圆形开口，当然所述开口的形状还可以设置为其它形状，而不限于本专利技术实施例提供的圆形。较佳地，所述顶端设置的开口 26的面积小于或等于1.7671平方毫米，其中，图2仅示出了所述支撑针顶端的开口 26，实际支撑针顶端的开口也不限于本专利技术实施例提供的顶端开口，可以根据实际生产需要将其顶端开口设置为多个开口，其中，顶端开口同样也可以设计为圆形的开口，当顶端开口设计为圆形的开口时，圆形开口的半径设置为不大于0.75毫米，当然也可以设计为其它形状的开口。较佳地，所述侧面设置的开口 21、22、23与24的面积小于或等于0.7854平方毫米，开口 21、22、23与24的半径设置为不大于0.5毫米。较佳地，所述支撑针20为中空的圆柱体，其中，所述支撑针还可以是中空的长方体等其它形状，而不限于本专利技术实施例提供的圆柱体。如图3所示，本专利技术实施例提供的一种显示面板生产设备，所述设备包括:离子气体装置30，以及以上所述的多个支撑针31，其中，具体所需的支撑针个数按照生产设备实际的需要设置，所述离子气体装置30设置有与每个支撑针31—一对应的通气部件32，用于将离子气体输出给对应的支撑针，并通过支撑针31上设置的开口吹出。较佳地，所述支撑针31与其对应的通气部件32密闭连接，同样地，所述显示面板生产设备中的多个支撑针中的每一个支撑针均与对应的通气本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种支撑针，其特征在于，所述支撑针为中空结构，其顶端和/或侧面设置有开口，所述开口用于使流经所述支撑针内部的气体通过该开口吹出。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：龚磊，王涛，郭光龙，丁振勇，张振宇，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：