包含改性PVA 的偏振膜以及具有该偏振膜的光学叠层体制造技术

技术编号:9489252 阅读:147 留言:0更新日期:2013-12-25 23:04
本发明专利技术提供包含改性PVA的偏振膜以及具有该偏振膜的光学叠层体。本发明专利技术提供偏振膜,构成该偏振膜的基体材料和PVA类树脂的密合性良好,并且在拉伸工序及搬运工序中,PVA类树脂不易从基体材料上剥离,具有优异的外观。本发明专利技术的偏振膜通过在基体材料上设置PVA类树脂的层、并对基体材料和PVA类树脂的层一体地进行拉伸而得到,PVA类树脂包含改性PVA,该改性PVA的存在量使得以所述PVA类树脂整体为基准的改性比例为0.04mol%~1.4mol%。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供包含改性PVA的偏振膜以及具有该偏振膜的光学叠层体。本专利技术提供偏振膜,构成该偏振膜的基体材料和PVA类树脂的密合性良好,并且在拉伸工序及搬运工序中,PVA类树脂不易从基体材料上剥离,具有优异的外观。本专利技术的偏振膜通过在基体材料上设置PVA类树脂的层、并对基体材料和PVA类树脂的层一体地进行拉伸而得到,PVA类树脂包含改性PVA,该改性PVA的存在量使得以所述PVA类树脂整体为基准的改性比例为0.04mol%~1.4mol%。【专利说明】包含改性PVA的偏振膜以及具有该偏振膜的光学叠层体
本专利技术涉及包含改性聚乙烯醇(PVA)的偏振膜以及具有该偏振膜的光学叠层体。特别是,本专利技术涉及偏振膜及具有该偏振膜的光学叠层体,设置于构成所述偏振膜的基体材料上的PVA类树脂在用于制造偏振膜的拉伸工序等中不易从基体材料上剥离,具有优异的外观。
技术介绍
近年来,已开发出液晶显示装置、rop (等离子体显示屏)、有机EL (场致发光)显示装置等多种图像显示装置。就这些图像显示装置而言,在大画面化的同时,装置整体的薄型化也得到了发展。作为构成图像显示装置的部件,在液晶显示装置中,有诸如配置在液晶元件两侧的、具有偏振膜的光学叠层体。通常,光学叠层体具有偏振膜和配置在该偏振膜两侧的保护膜,所述偏振膜是使在基体材料上涂敷PVA类树脂而形成的层吸附二色性物质来进行染色、并进行单向拉伸而获得的。由PVA类膜经单向拉伸而得到的偏振膜的厚度,典型的为数十μ m。为了实现图像显示装置整体的薄型化,对用以实现光学叠层体的薄型化、特别是减小偏振膜的厚度而获得薄型起偏镜的方法进行了研究。作为制作薄型起偏镜的方法,包括例如将基体材料和PVA类树脂层的叠层体在高温下辅助性地进行气体氛围中的拉伸之后,在硼酸水溶液中进行拉伸的方法(专利文献I)。根据该方法,能够将基体材料和PVA类树脂层的叠层体拉伸至高于现有技术的倍率,由此可以制作出薄型偏振膜。但是,为了获得薄型偏振膜而欲将基体材料和PVA类树脂层的叠层体拉伸至高倍率时,若基体材料和PVA类树脂层的密合力低,在拉伸工序中,可能会导致PVA类树脂层从基体材料上剥离并卷成卷儿。另外,如上所述在硼酸水溶液中进行拉伸时,还可能会因PVA类树脂层中的异物、气泡而导致层发生断裂,PVA类树脂层从基体材料上完全剥离。此外,在搬运所制作的薄型起偏镜时,也可能会引起PVA类树脂层从基体材料上剥离。PVA类树脂层从基体材料上剥离是导致薄型偏振膜、包含该薄型偏振膜的光学叠层体、或使用该薄型偏振膜的图像显示装置的制造成品率低下的原因之一。因此,期望使基体材料和PVA类树脂层的密合力提高,在搬运及拉伸工序、水溶液中拉伸时,PVA类树脂层不会从基体材料剥离。作为提高基体材料和PVA类树脂层的密合力的方法,已考虑了例如在形成PVA类树脂层之前对基体材料实施电晕处理等表面处理的方法。作为与该方法组合使用或替代该方法的方法,还考虑了在基体材料上形成被称为底涂层的易粘接层的方法(专利文献2)。这种方法在应用于现有拉伸倍率或厚度的偏振膜的情况下,能够在一定程度上提高热塑性树脂基体材料和PVA类树脂层的密合性。但是,在应用于薄型偏振膜时,实际情况是未必可得到充分的结果。另外还确认到,对于在基体材料上形成易粘接层之后再设置PVA类树脂层的方法,在涂敷PVA类树脂时,会因树脂溶液的涂刷困难()、)引起被称为条痕(7)的外观不良。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2012-073563号公报专利文献2:日本特开2011-128486号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术是为了解决上述现有技术的课题而提出的,其主要目的在于提供偏振膜及具有该偏振膜的光学叠层体,其中,构成所述偏振膜的基体材料和PVA类树脂的密合性良好,在拉伸工序及搬运工序中,PVA类树脂不易从基体材料上剥离,具有优异的外观。解决问题的方法本专利技术人等发现,通过将设置于基体材料上的PVA类树脂层中使用的PVA类树脂中的特定比例用改性PVA进行置换,能够将基体材料和PVA类树脂层的密合性提高到可耐受薄型偏振膜制造工艺的水平,并基于该见解完成了本专利技术。具体而言,本专利技术的偏振膜是通过在基体材料上设置PVA类树脂的层并对基体材料和PVA类树脂的层一体地进行拉伸而得到的偏振膜,其中,PVA类树脂包含改性PVA,改性PVA的存在量使得以PVA类树脂整体为基准的改性比例为0.04mol%?1.4mol%。在本专利技术中,改性PVA优选为乙酰乙酰基改性PVA。另外,以PVA类树脂整体的重量为基准的改性PVA的存在量优选为30重量%以下。在实施方式之一中,本专利技术的偏振膜是通过将设置在基体材料上的PVA类树脂的层至少拉伸至5倍而得到的。另外,在实施方式之一中,本专利技术的偏振膜中的拉伸后的PVA类树脂的层的厚度为10 μ m以下。本专利技术还涉及包含上述偏振膜的图像显示装置用光学叠层体。专利技术的效果根据本专利技术,可提高基体材料和PVA类树脂层的密合力,在搬运或拉伸工序、水溶液中拉伸时,PVA类树脂层不会从基体材料上剥离,并且可得到优异的外观,由此,能够改善薄型偏振膜、包含该薄型偏振膜的光学叠层体、或使用该薄型偏振膜的图像显示装置的制造成品率。【专利附图】【附图说明】图1是本专利技术的优选实施方式的偏振膜的剖面示意图;图2是本专利技术的优选实施方式的光学叠层体的剖面示意图;图3是本专利技术的另一优选实施方式的光学叠层体的剖面示意图;图4为示意图,示出了本专利技术的偏振膜的制造方法的一个实例。符号说明10偏振膜11基体材料12PVA类树脂层13粘合剂层14分离层15粘接剂层16光学功能膜41热塑性树脂基体材料42涂敷机43、45、48 烘箱44叠层体46染色浴47硼酸水溶液中拉伸浴49偏振膜【具体实施方式】下面,对本专利技术的优 选实施方式进行说明,但本专利技术不限定于这些实施方式。1.偏振膜图1是本专利技术的优选实施方式的偏振膜的剖面示意图。偏振膜10具有基体材料11和PVA类树脂层12,该偏振膜10通过在基体材料11上设置PVA类树脂层12、并对基体材料11和PVA类树脂层12 —体地进行拉伸来制作。对于用于本专利技术的偏振膜的基体材料的种类及拉伸条件等,将在后面按照其与制造方法的关系进行详细阐述,但优选将设置于基体材料上的PVA类树脂的层至少拉伸至5倍。用于本专利技术的偏振膜的PVA类树脂包含改性PVA。在本专利技术的偏振膜中,改性PVA的存在量使得以PVA类树脂整体为基准的改性比例为0.04mol%~1.4mol%。在本说明书中,所谓“改性比例”是指:以PVA类树脂整体为基准的乙酰乙酰基改性乙烯基单体单元的比例。由乙酰乙酰基改性PVA的皂化度和改性度计算乙酰乙酰基改性PVA的平均分子量,从而算出乙酰乙酰基改性PVA中的乙酰乙酰基改性乙烯基单体单元的比例(mol%)。同样地,由PVA的皂化度计算PVA的平均分子量,并由混合比计算出以PVA类树脂整体为基准的乙酰乙酰基改性乙烯基单体单元的比例。作为改性PVA,优选使用如下述通式所示的乙酰乙酰基改性PVA。【权利要求】1.偏振膜,其通过在基体材料上设置PVA类树脂的层,并对所述基体材料和所述PVA类树脂的层一体地进行拉伸而得到, 其中,所述PVA类树脂包含改性本文档来自技高网
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【技术保护点】
偏振膜,其通过在基体材料上设置PVA类树脂的层,并对所述基体材料和所述PVA类树脂的层一体地进行拉伸而得到,其中,所述PVA类树脂包含改性PVA,该改性PVA的存在量使得以所述PVA类树脂整体为基准的改性比例为0.04mol%~1.4mol%。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:灰田信幸后藤周作喜多川丈治
申请(专利权)人:日东电工株式会社
类型:发明
国别省市:

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