气囊正压装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于高洁净度工作环境构建领域，尤其涉及气囊正压装置。本实用新型专利技术提供的气囊正压装置及构建高洁净度工作腔的方法通过设置包裹机械设备的气囊及气压设备，通过气压设备向所述气囊输入压强大于所述气囊外部空气压强的高洁净度气体，使得所述气囊内部相对外部形成正向的气压，可保持所述气囊内部的气体具有与所述气压设备提供的高洁净度气体相同洁净度或洁净度极为接近的气体，从而构建了高洁净度工作腔。这样，一方面大大的节约了建设工作室的成本；一方面工作人员在位置所述气囊外工作，无需佩戴呼吸面具，工作环境得到改善。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
气囊正压装置，其特征在于：包括机械设备；气囊，用于包裹所述机械设备；气压设备，用于向所述气囊内部输入压强大于所述气囊外部空气压强的高洁净度气体，且所述高洁净度气体的洁净度高于或等于所述机械设备正常工作时所要求的工作环境中气体的洁净度。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王奉瑾，
申请(专利权)人：王奉瑾，
类型：实用新型
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