【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种纳米激光器激光合束器件的制备方法,其特征在于:该方法包括以下步骤:步骤(1)、在已制备得到的曲面沟槽上沉积多层膜,共沉积5?20组,每组由2层膜层组成,每层膜厚=15?30nm,所述多层膜总厚度为150?1200nm,其中Ag层和SiO2层交替沉积;步骤(2)、在曲面多层膜上采用涂覆、固化的方法进行平坦化,控制平坦化之后的平面高低起伏<10nm,表面粗糙度RMS<2nm;步骤(3)、对步骤(2)中得到平坦化之后的结构进行多层膜减薄(刻蚀)工艺,通过控制离子束刻蚀机的束流大小、入射角度、气体流量与基底温度等工艺条件,使减薄之后的曲面多层膜的深度<50nm;步骤(4)在步骤(3)中得到的减薄之后的曲面多层膜上涂布一层可固化的溶胶层,溶胶层在表面张力与重力的双重作用下会在曲面多层膜里形成弧面结构,经加热或紫外光照射处理后溶胶层固化,所述溶胶层的厚度为2nm至100nm;步骤(5)在步骤(4)中得到的溶胶层上沉积一层金属Ag膜层,所述金属Ag膜层的厚度为2nm至100nm;步骤(6)在步骤(5)中所沉积的金属Ag层上交替涂覆固化溶胶层和沉积Ag膜层,得到溶胶层和Ag层交替组成的多层弧面膜层 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:罗先刚,王彦钦,王长涛,赵泽宇,沈同圣,罗云飞,胡承刚,黄成,杨磊磊,潘思洁,崔建华,赵波,
申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所,
类型:发明
国别省市:
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