【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种P3MT/N?GE修饰玻碳电极,其特征在于所述电极由以下步骤制备:(1)N?GE修饰电极的制备:将一定量的氮掺杂石墨烯,用N,N?二甲基甲酰胺稀释然后超声分散,制得N?GE分散液,取?N?GE分散液滴涂在抛光后的玻碳电极表面,溶剂挥发后得到覆有敏感膜的氮掺杂石墨烯修饰玻碳电极;(2)聚P3MT/N?GE修饰玻碳电极的制备:将纯3甲基噻吩单体滴加到含有高氯酸锂的乙腈液中,然后超声半小时,得到含有3甲基噻吩单体的混合溶液,将步骤(1)制备的N?GE修饰玻碳电极置于混合溶液中,电位区间为0.2???1.7?V循环伏安聚合5?30圈,扫速为100?mV/s,?得到聚P3MT/N?GE修饰的玻碳电极。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:雷武,韩振,郝青丽,夏明珠,王风云,
申请(专利权)人:南京理工大学,
类型:发明
国别省市:
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